下载处理基底的方法和装置的技术资料

文档序号:2750087

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为了达到在基底上有均匀的涂层,本发明涉及的装置和方法是用于对基底进行涂层的,其中基底固定在一个基底座(5)上,从而使得待涂基底表面(15)裸露着,并使基底随基底座旋转,还有一个封盖(20)可以固定在基底座上,该封盖与基底座共同形成一个封闭的...
该专利属于施蒂格哈马技术股份公司所有,仅供学习研究参考,未经过施蒂格哈马技术股份公司授权不得商用。

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