一种单片基底清洁装置，包括： 处理室，在所述处理室中进行基底清洁过程； 基底支撑部件，其安装在所述处理室内部，待处理的基底放置在所述基底支撑部件上；以及 基底翻转装置，其安装在所述处理室内部的所述基底支撑部件的一侧， 其中，所述基底翻转装置包括用于固持基底的固持单元、用于翻转所述固持单元的翻转单元和用于使所述翻转单元作垂直运动的升降单元。
【技术实现步骤摘要】
此处公开的本专利技术涉及基底处理装置和方法，更具体地说，涉及使 用单片基底清洁方式对基底背面进行清洁的装置以及基底背面清洁方 法。
技术介绍
在半导体器件的制造中，首先清洁基底(半导体基底、LCD等)的正 面，然后再对基底进行复杂的处理。因此，在各个制造过程之前，或者 在这些过程之间，需要进行用于除去留在基底表面上的杂质的清洁过程。 例如，在光刻过程中，在涂敷光刻胶之前，在旋转洗涤器中对基底的正 面进行刷洗清洁。一种众所周知的清洁方法涉及使用机械手(输送机械手)来夹紧基 底，将基底引入到用于清洁的清洁装置中，并且一旦完成清洁就将基底 从清洁装置中移开。此外，在现今的常规操作中，不但要清洁正面(也指 装置形成表面或者上表面)，而且要清洁背面，因此，必须使用基底翻转 装置来翻转基底，从而清洁与基底正面相对的表面(或者背面)，这样就实 现了基底的清洁。
技术实现思路
本专利技术提供了一种单片基底清洁装置和一种基底背面清洁方法，能 够通过简化基底背面清洁装置和处理步骤而降低成本，并能使在输送基 底过程中产生的颗粒对基底的污染最小。本专利技术的目的不限于此，并且本领域技术人员可以从下面的说明中明显看出这里未具体提到的其它目的。本专利技术的实施例提供了单片基底清洁装置，所述装置包括处理室， 在所述处理室中进行基底清洁过程；基底支撑部件，其安装在所述处理 室内部，待处理的基底放置在所述基底支撑部件上；以及基底翻转装置， 其安装在所述处理室内部的所述基底支撑部件的一侧，其中，所述基底 翻转装置包括用于固持基底的固持单元、用于翻转所述固持单元的翻转 单元和用于使所述翻转单元作垂直运动的升降单元。在一些实施例中，所述固持单元可以包括夹紧部件，它们设置在 所述基底支撑部件上方并且沿基底翻转的转动轴线在彼此相反的方向上 运动，从而夹持/松开基底；以及驱动部件，其用于驱动所述夹紧部件。在其它实施例中，所述夹紧部件可以包括第一夹紧部件，其用于 夹持靠近所述翻转单元的基底边缘；以及第二夹紧部件，其用于夹持与 所述翻转单元相对的基底边缘。在其它实施例中，所述驱动部件可以包括基座；第一杆件，其安 装在所述基座的上表面上，能够沿所述转动轴线运动，并且与所述第一 夹紧部件连接；第二杆件，其安装在所述基座的下表面上，能够沿所述 转动轴线运动，并与所述第二夹紧部件连接；汽缸，其使所述第一杆件 和所述第二杆件中的一个杆件作线性往复运动；以及动力传递部件，其 用于传递所述汽缸的驱动力，使得所述第一杆件和所述第二杆件中的另 一个杆件沿与所述第一杆件和所述第二杆件中的所述一个杆件相反的方 向运动。在其它实施例中，所述汽缸可以安装在所述基座的上表面上，使所 述第一杆件作线性往复运动。在其它实施例中，所述动力传递部件可以包括第一带轮和第二带 轮，它们安装得穿过所述基座的上表面和下表面；传动带，其缠绕在所 述第一带轮和所述第二带轮上；以及第一连接部件和第二连接部件，它 们使所述第一杆件和所述第二杆件分别与所述传动带相连。在其它实施例中，所述第一夹紧部件可以包括至少一个第一夹紧 件；以及安装有所述第一夹紧件并与所述第一杆件相连的第一支架。在其它实施例中，所述第二夹紧部件可以包括至少两个第二夹紧 件；以及安装有所述第二夹紧件并与所述第二杆件相连的第二支架。在其它实施例中，所述固持单元还可以包括支承部件，要被所述第 一夹紧件和所述第二夹紧部件夹持/松开的基底放置在所述支承部件上。在其它实施例中，所述支承部件可以包括环状支撑环；以及多个 支撑销，它们安装在所述支撑环上以支撑基底。在其它实施例中，所述第二支架可以设置在由所述支承部件的支撑 销支撑的基底下方。在其它实施例中，所述第二支架可以被设置在与所述支承部件的支 撑环相同的高度处。在本专利技术的另一些实施例中，提供了基底背面清洁方法，所述方法 包括如下步骤通过使用安装在室内的基底翻转装置使基底翻转，将引 入到该室内的基底装载到基底支撑部件上；以及在清洁完基底背面以后， 通过将基底从所述基底支撑部件卸载下来并翻转基底，将基底从该室中 移开。在其它实施例中，所述基底翻转装置可以通过使各夹紧部件沿基底 翻转的转动轴线在相反方向上运动来夹持/松开基底。在其它实施例中，可以利用一个驱动部件来使所述夹紧部件在相反 方向上运动，从而夹持/松开基底。在其它实施例中，可以使所述夹紧部件在所述基底支撑部件上方作 垂直运动。在其它实施例中，所述基底翻转装置可以使所述基底向下运动并翻 转基底，从而将基底装载到所述基底支撑部件上，还可以使基底向上运 动并翻转基底，从而将已清洁过的基底从所述基底支撑部件卸载下来且 进行提升。附图说明附图提供了对本专利技术的进一步理解，并且被并入且构成本说明书的 一部分。附图显示出了本专利技术的示例性实施例，并与说明一起用于解释本专利技术的原理。在附图中-图1是示出了本专利技术单片基底清洁装置的结构的视图2是示出了图1中处理室的内部结构的立体图3是图2中基底翻转装置的分解立体图4是图3中固持单元的分解立体图5和图6是图4中驱动部件的分解立体图7A和图7B是示出了固持单元的操作的视图8是图3中翻转单元的分解立体图9是图8中驱动部件的后视图IO和图11是图3中升降单元的立体图和前视图；以及图12A和图12B是示出了翻转单元和升降单元的操作的视图。具体实施例方式下面参照附图更详细地说明本专利技术的单片基底清洁装置和基底背面 清洁方法的优选实施例。在各个附图中对元件进行附图标记的分配时， 当在不同附图中示出了相同的元件时，在任何可能的地方都把相同的附 图标记分配给相同的元件。此外，在本专利技术的说明中，当确信对相关及 共有结构或功能的具体说明会使本专利技术的主要目的不突显时，则不提供 对它们的详细说明。第一实施例图1是示出了本专利技术单片基底清洁装置的结构的视图。参照图1,本专利技术的单片基底清洁装置用于清洁基底背面，并且包括装卸部l、托架输送部2、托架台3、基底输送部4和清洁处理部5。装卸部1具有出入口 1-1,用于容纳基底的托架(C)就放置在出入口 1-1上。托架输送部2被设置成与装卸部1相邻，并且基底输送部4被设 置在位于托架输送部2的另一侧的中央部处。基底输送部4具有通道4-l， 该通道4-1垂直于托架输送部2而形成并用于输送机械手4-3。在通道4-1内部沿纵向方向安装有输送导轨4-2，且输送机械手4-3在输送导轨4-2 的引导下沿通道4-1的长度方向运动。在通道4-1的两侧上都设置有托架 台3和清洁处理部5。清洁处理部5具有均匀布置在基底输送部4的通道 4-1两侧的多个处理室5a、 5b、 5c和5d。基底输送部4、托架台3和清 洁处理部5可以被构成为上层和下层堆叠的复式结构，并且托架输送部2 可以具有与托架台3的复式结构对应的复式结构。此外，托架输送部2、 托架台3、基底输送部4和清洁处理部5的顶部可以各自设有用于供应洁 净空气的风机过滤单元(未图示)。例如前开式标准盒(front open unified pod)等气密容器可以用作容纳 基底的托架(C)。借助于诸如高架输送机、高架传送机或自动引导车等输 送部件(未图示)而将托架(C)放置在装卸部1的出入口 1-1上。通过托架 输送部2将放置在装卸部1的出入口 1-1上的托架(C)输送给托架台3。本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种单片基底清洁装置，包括： 处理室，在所述处理室中进行基底清洁过程； 基底支撑部件，其安装在所述处理室内部，待处理的基底放置在所述基底支撑部件上；以及 基底翻转装置，其安装在所述处理室内部的所述基底支撑部件的一侧，其中，所述基底翻转装置包括用于固持基底的固持单元、用于翻转所述固持单元的翻转单元和用于使所述翻转单元作垂直运动的升降单元。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：崔忠植，
申请(专利权)人：细美事有限公司，
类型：发明
国别省市：KR
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