【技术实现步骤摘要】
本文所述的本专利技术构思的实施方式涉及基板处理装置和基板处理方法，更具体地，涉及用于检测基板的位置的基板处理装置和基板处理方法。
技术介绍
1、在进行诸如曝光、蚀刻和沉积等各个工艺时，半导体和显示设备需要将晶片或掩模传送到工艺室或检查设备。通过精确调节晶片或掩模的最终安置位置来放置这些晶片或掩模。
2、这里，晶片或掩模可能被放置在误差范围之外。检查晶片或掩模的位置的方法是使用位置检测传感器来检测晶片或掩模的外部位置，通过视觉图像获得晶片或掩模的图像信息，并分析所获得的图像信息以确定晶片或掩模的位置。
3、在这种情况下，通过视觉图像确定晶片或掩模位置的方法存在高成本问题，因为每当晶片或掩模的尺寸发生变化或放置在晶片或掩模周围的结构的形状发生变化时，都必须重新设计图像分析算法。
技术实现思路
1、本专利技术构思的实施方式提供了一种基板处理装置和一种基板处理方法，用于仅通过对关于照射至基板周围的光源的图像进行分析就可以知晓基板的位置。
2、本专利技术构思的实施方式提供了一种基板处理装置和一种基板处理方法，即使基板或周围结构的形式发生改变，也可以在不修改图像分析算法的情况下使用所述基板处理装置和所述基板处理方法。
3、本专利技术构思的技术目的不限于上述技术目的，根据以下描述，其他未提及的技术目的对于本领域技术人员将显而易见。
4、本专利技术构思提供了一种基板处理装置。所述基板处理装置包括支撑单元，所述支撑单元被配置为安置基板；第一
5、在一个实施方式中，所述基板处理装置还包括：环构件，所述环构件被定位在所述支撑单元周围；和第二光源单元，所述第二光源单元被配置为向所述环构件照射第二光源，并且其中所述图像获取单元还获取关于所述第二光源所照射的所述环构件的图像信息，并且所述图像分析单元通过输入被照射所述第二光源的所述环构件的图像信息并在所输入的所述图像信息内分析照射至所述环构件的所述第二光源来检测所述环构件的位置。
6、在一个实施方式中，所述第一光源由以线形式照射至所述基板的第一线光源和以线形式照射至所述环构件的第二线光源形成。
7、在一个实施方式中，所述第一线光源沿对角线方向照射至所述基板，并且所述第二线光源沿对角线方向照射至所述环构件。
8、在一个实施方式中，所述环构件还包括沿基板方向形成的台阶，并且所述第二线光源如果照射至所述环构件则关于另一方向形成交点，所述台阶始于所述交点。
9、在一个实施方式中，所述图像分析单元计算所提取的距离值与参考距离值间隔开多少的分离值，所述所提取的距离值是从所述图像信息内的所述第一光源在所述基板上终止的点到所述交点的距离值。
10、在一个实施方式中，所述图像分析单元还包括线提取单元，所述线提取单元在从所述图像获取单元输入的图像信息的rgb通道中耦合r通道和g通道的状态下，通过应用噪声滤波器并去除已经大大偏离所述第一线光源和所述第二线光源的线中心的噪声元素来生成线图像，使得除了所述第一线光源和所述第二线光源之外的区域被配置为黑色区域。
11、在一个实施方式中，所述图像分析单元还包括二值化单元，所述二值化单元用于，一旦通过与所述线提取单元通信而输入了所述线图像，就将输入线图像内存在所述第一线光源和所述第二线光源的区域二值化为白色，并且将不存在所述第一线光源和所述第二线光源的区域二值化为黑色。
12、在一个实施方式中，所述图像分析单元还包括区域分离单元，所述区域分离单元被输入来自所述二值化单元的坐标图像，并且将被输入的所述坐标图像划分为存在所述第一线光源的第一关注区域图像和存在所述第二线光源的第二关注区域图像。
13、在一个实施方式中，所述图像分析单元包括：基板区域位置检测单元，所述基板区域位置检测单元通过从所述区域分离单元输入所述第一关注区域图像，然后通过所述第一线光源在所述第一关注区域图像内终止的点的坐标值进行检测，来检测所述基板的位置；和环构件区域位置检测单元，所述环构件区域位置检测单元通过从所述区域分离单元输入所述第二关注区域图像，然后通过所述第二线光源在所述第二关注区域图像内彼此相交的点的坐标值进行检测，来检测所述环构件的位置。
14、在一个实施方式中，所述图像分析单元还包括基板距离计算单元，所述基板距离计算单元计算在所述基板区域位置检测单元中检测到的所述第一线光源终止的点的坐标值与在所述环构件区域位置检测单元中检测到的所述第二线光源彼此相交的点的坐标值之间的距离值。
15、在一个实施方式中，所述图像分析单元还包括基板位置调节单元，所述基板位置调节单元用于，如果通过计算通过所述基板距离计算单元计算出的所述距离值偏离预定偏差值多少而计算出分离值，并且计算出的分离值偏离所述预定偏差值，则通过将所述分离值发送到用于调节所述基板的位置的传送装置来对准从而调节所述基板的位置。
16、本专利技术构思提供了一种基板处理方法。所述基板处理方法包括从第一光照射单元向基板照射第一线光源，并从第二光照射单元向环构件照射第二线光源；通过由图像获取构件对所述基板和所述环构件进行成像来获取图像信息；和通过如下将分离值传送到传送装置以调节所述基板的位置：通过与所述图像获取单元通信从所述图像获取单元向图像分析单元输入图像信息，通过分析输入的所述图像信息内的所述第一线光源和所述第二线光源来提取所述基板的最外面区域与所述环构件的内侧区域之间的距离值，并计算从提取的距离值到参考距离值偏离了一定程度的所述分离值。
17、在一个实施方式中，所述传送所述分离值还包括在从所述图像获取单元输入的图像信息的rgb通道中耦合r通道和g通道的状态下，通过应用噪声滤波器并去除已经大大偏离所述第一线光源和所述第二线光源的线中心的噪声元素来生成线图像，使得除了所述第一线光源和所述第二线光源之外的区域被配置为黑色区域。
18、在一个实施方式中，所述传送所述分离值还包括：一旦通过与线提取单元通信的二值化单元输入了所述线图像，则将输入线图像内存在所述第一线光源和所述第二线光源的区域二值化为第一颜色，并且将不存在所述第一线光源和第二线光的区域二值化为第二颜色。
19、在一个实施方式中，所述传送所述分离值还包括通过区域分离单元来分离区域，所述区域分离单元被输入来自所述二值化单元的坐标图像，并且将其划分为存在所述第一线光源的第一关注区域图像和存在所述第二线光源的第二关注区域图像。
20、在一个实施方式中，所述传送所述分离值还包括：一旦从所述区域分离单元输入了所述第一关注区域图像，则由基板区域位置检测单元通过最右边的坐标值来检测基板位置，所述最右边的本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种基板处理装置，包括：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，还包括：
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中所述第一光源由以线形式照射至所述基板的第一线光源和以线形式照射至所述环构件的第二线光源形成。
4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中所述第一线光源沿对角线方向照射至所述基板，并且所述第二线光源沿对角线方向照射至所述环构件。
5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中所述环构件还包括沿基板方向形成的台阶，并且
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元被配置为计算所提取的距离值与参考距离值间隔开多少的分离值，所述所提取的距离值是从所述图像信息内的所述第一光源在所述基板上终止的点到所述交点的距离值。
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元还包括线提取单元，所述线提取单元被配置为：在从所述图像获取单元输入的图像信息的RGB通道中耦合R通道和G通道的状态下，通过应用噪声滤波器并去除已经大大偏离所述第一线光源和所述第二线光源的线中心的噪声元素来生成线图像，使得除
8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元还包括二值化单元，所述二值化单元被配置为：一旦通过与所述线提取单元通信而输入了所述线图像，就将输入线图像内存在所述第一线光源和所述第二线光源的区域二值化为白色，并且将不存在所述第一线光源和所述第二线光源的区域二值化为黑色。
9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元还包括区域分离单元，所述区域分离单元被输入来自所述二值化单元的坐标图像，并且将被输入的所述坐标图像划分为存在所述第一线光源的第一关注区域图像和存在所述第二线光源的第二关注区域图像。
10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元包括：
11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元还包括基板距离计算单元，所述基板距离计算单元被配置为计算在所述基板区域位置检测单元中检测到的所述第一线光源终止的点的坐标值与在所述环构件区域位置检测单元中检测到的所述第二线光源彼此相交的点的坐标值之间的距离值。
12.根据权利要求11所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元还包括基板位置调节单元，所述基板位置调节单元被配置为：如果通过计算通过所述基板距离计算单元计算出的所述距离值偏离预定偏差值多少而计算出所述分离值，并且计算出的分离值偏离所述预定偏差值，则通过将所述分离值传送到用于调节所述基板的位置的传送装置来对准从而调节所述基板的位置。
13.一种基板处理方法，包括：
14.根据权利要求13所述的基板处理方法，其中传送所述分离值还包括在从所述图像获取单元输入的图像信息的RGB通道中耦合R通道和G通道的状态下，通过应用噪声滤波器并去除已经大大偏离所述第一线光源和所述第二线光源的线中心的噪声元素来生成线图像，使得除了所述第一线光源和所述第二线光源之外的区域被配置为黑色区域。
15.根据权利要求14所述的基板处理方法，其中所述传送所述分离值还包括：一旦通过与线提取单元通信的二值化单元输入了所述线图像，则将输入线图像内存在所述第一线光源和所述第二线光源的区域二值化为第一颜色，并且将不存在所述第一线光源和第二线光的区域二值化为第二颜色。
16.根据权利要求15所述的基板处理方法，其中所述传送所述分离值还包括通过区域分离单元来分离区域，所述区域分离单元被输入来自所述二值化单元的坐标图像，并且将其划分为存在所述第一线光源的第一关注区域图像和存在所述第二线光源的第二关注区域图像。
17.根据权利要求16所述的基板处理方法，其中所述传送所述分离值还包括：一旦从所述区域分离单元输入了所述第一关注区域图像，则由基板区域位置检测单元通过最右边的坐标值来检测基板位置，所述最右边的坐标值是所述第一线光源在所述第一关注区域图像内终止的点。
18.根据权利要求17所述的基板处理方法，其中所述传送所述分离值还包括：一旦从所述区域分离单元输入了所述第二关注区域图像，则由环构件区域位置检测单元通过所述第二关注区域图像内所述第二线光源彼此相交的点的坐标值来检测环构件位置。
19.根据权利要求18所述的基板处理方法，其中所述传送所述分离值还包括：
20.一种基板处理装置，包括：
...【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，包括：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，还包括：
3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中所述第一光源由以线形式照射至所述基板的第一线光源和以线形式照射至所述环构件的第二线光源形成。
4.根据权利要求3所述的基板处理装置，其中所述第一线光源沿对角线方向照射至所述基板，并且所述第二线光源沿对角线方向照射至所述环构件。
5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其中所述环构件还包括沿基板方向形成的台阶，并且
6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元被配置为计算所提取的距离值与参考距离值间隔开多少的分离值，所述所提取的距离值是从所述图像信息内的所述第一光源在所述基板上终止的点到所述交点的距离值。
7.根据权利要求6所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元还包括线提取单元，所述线提取单元被配置为：在从所述图像获取单元输入的图像信息的rgb通道中耦合r通道和g通道的状态下，通过应用噪声滤波器并去除已经大大偏离所述第一线光源和所述第二线光源的线中心的噪声元素来生成线图像，使得除了所述第一线光源和所述第二线光源之外的区域被配置为黑色区域。
8.根据权利要求7所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元还包括二值化单元，所述二值化单元被配置为：一旦通过与所述线提取单元通信而输入了所述线图像，就将输入线图像内存在所述第一线光源和所述第二线光源的区域二值化为白色，并且将不存在所述第一线光源和所述第二线光源的区域二值化为黑色。
9.根据权利要求8所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元还包括区域分离单元，所述区域分离单元被输入来自所述二值化单元的坐标图像，并且将被输入的所述坐标图像划分为存在所述第一线光源的第一关注区域图像和存在所述第二线光源的第二关注区域图像。
10.根据权利要求9所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元包括：
11.根据权利要求10所述的基板处理装置，其中所述图像分析单元还包括基板距离计算单元，所述基板距离计算单元被配置为计算在所述基板区域位置检测单元中检测到的所述第一线光源终止的点的坐标值与在所述环构件区域位置检测单元中检测到的...
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