【技术实现步骤摘要】
制造半导体封装件的方法[相关申请的交叉参考]本申请主张在2017年7月17日提出申请的韩国专利申请第10-2017-0090453号的优先权,所述韩国专利申请的全部内容并入本申请供参考。
本专利技术概念涉及一种制造半导体封装件的方法。
技术介绍
随着电子产业的发展,越来越需要电子产品具有高性能、高速度及紧凑的尺寸。为应对这一趋势,已开发出许多堆叠方法,例如将多个半导体芯片堆叠在单个衬底上或者将封装件堆叠在另一个封装件上。其中各个封装件彼此堆叠的结构被称为层叠封装件(Package-On-Package,POP)。还存在一种在封装件上安装有中间层(interposer)的中间层层叠封装件结构。
技术实现思路
本文所述实施例涉及半导体封装件及制造半导体封装件的方法。根据一些实例,一种制造半导体封装件的方法包括:将多个第一导电凸块贴附到设置在第一衬底的上表面上的相应的第一导电垫;对中间层提供多个第二导电凸块,所述多个第二导电凸块贴附到位于所述中间层的底表面上的相应的第二导电垫;将第一半导体芯片以倒装芯片形式安装到所述第一衬底,这包括将所述第一半导体芯片电连接到设置在所述第一衬底的所述上表面上的第三导电垫;在所述第一衬底的上表面上形成绝缘模制层,所述绝缘模制层沿所述第一半导体芯片的侧壁延伸且具有至少与所述第一半导体芯片的上表面一样高的上表面,所述绝缘模制层的上表面中形成有凹槽,所述凹槽的两侧对应于模制层的朝上延伸的突出部的两侧,其中所述第一导电凸块在所述凹槽的底表面处相对于绝缘模制层被暴露出;将所述中间层放置在所述第一衬底上以使位于所述中间层的底表面上的所述多个第二导 ...
【技术保护点】
1.一种制造半导体封装件的方法,其特征在于,包括:将多个第一导电凸块贴附到相应的第一导电垫,所述第一导电垫设置在第一衬底的上表面上;对中间层提供多个第二导电凸块,所述多个第二导电凸块贴附到相应的第二导电垫,所述第二导电垫位于所述中间层的底表面上;将第一半导体芯片以倒装芯片形式安装到所述第一衬底,这包括将所述第一半导体芯片电连接到设置在所述第一衬底的上表面上的第三导电垫;在所述第一衬底的所述上表面上形成绝缘模制层,以覆盖并环绕所述第一导电凸块,所述绝缘模制层沿所述第一半导体芯片的侧壁延伸且具有至少与所述第一半导体芯片的上表面一样高的上表面;对所述绝缘模制层进行蚀刻以在所述绝缘模制层中提供凹槽,以界定由被蚀刻的所述绝缘模制层形成的朝上延伸的突出部并暴露出所述第一导电凸块;将所述中间层放置在所述第一衬底上,以使位于所述中间层的底表面上的所述多个第二导电凸块中的每一者接触所述多个第一导电凸块中的对应一个第一导电凸块,以提供多对相互接触的第一导电凸块与第二导电凸块,且使得所述中间层的底表面接触所述突出部的上表面;执行回流工艺来将所述多对相互接触的所述第一导电凸块与所述第二导电凸块中的每一对合并, ...
【技术特征摘要】
2017.07.17 KR 10-2017-0090453;2018.04.18 US 15/9561.一种制造半导体封装件的方法,其特征在于,包括:将多个第一导电凸块贴附到相应的第一导电垫,所述第一导电垫设置在第一衬底的上表面上;对中间层提供多个第二导电凸块,所述多个第二导电凸块贴附到相应的第二导电垫,所述第二导电垫位于所述中间层的底表面上;将第一半导体芯片以倒装芯片形式安装到所述第一衬底,这包括将所述第一半导体芯片电连接到设置在所述第一衬底的上表面上的第三导电垫;在所述第一衬底的所述上表面上形成绝缘模制层,以覆盖并环绕所述第一导电凸块,所述绝缘模制层沿所述第一半导体芯片的侧壁延伸且具有至少与所述第一半导体芯片的上表面一样高的上表面;对所述绝缘模制层进行蚀刻以在所述绝缘模制层中提供凹槽,以界定由被蚀刻的所述绝缘模制层形成的朝上延伸的突出部并暴露出所述第一导电凸块;将所述中间层放置在所述第一衬底上,以使位于所述中间层的底表面上的所述多个第二导电凸块中的每一者接触所述多个第一导电凸块中的对应一个第一导电凸块,以提供多对相互接触的第一导电凸块与第二导电凸块,且使得所述中间层的底表面接触所述突出部的上表面;执行回流工艺来将所述多对相互接触的所述第一导电凸块与所述第二导电凸块中的每一对合并,以形成多个导电连接构件,所述多个导电连接构件中的每一者在位于所述第一衬底的上表面上的对应的第一导电垫与位于所述中间层的底表面上的对应的第二导电垫之间延伸;使底部填充树脂在所述中间层与所述第一衬底之间的空间中流动,以环绕并包封所述导电连接构件;以及切割所述第一衬底以形成所述半导体封装件,所述半导体封装件包括所述第一半导体芯片及与所述中间层接触的所述突出部的至少一些部分。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述突出部包括第一突出部及第二突出部,所述第一突出部沿所述第一半导体芯片的至少一侧壁延伸,在对所述第一衬底进行切割时,所述第二突出部被切割成使所述第二突出部的一侧形成所述半导体封装件的一侧的一部分。3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,对于所述半导体封装件的垂直横截面而言,所述凹槽包括在所述第一突出部与所述第二突出部之间连续地延伸的部分。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,对于所述半导体封装件的所述垂直横截面而言,所述导电连接构件中的第一导电连接构件是相邻于所述第二突出部形成,且所述第一导电连接构件在水平方向上与所述第二突出部间隔开不超过所述第一导电连接构件的最大水平宽度的50%。5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,对于所述半导体封装件的所述垂直横截面而言,所述导电连接构件中的第二导电连接构件是相邻于所述第一突出部形成,在所述第二导电连接构件与所述第一突出部之间不存在其他导电连接构件,且所述第二导电连接构件在水平方向上与所述第一突出部间隔开至少所述第二导电连接构件的最大水平宽度。6.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,还包括:在形成所述绝缘模制层以覆盖所述第一导电凸块之后且在将所述中间层放置在所述第一衬底上之前,在所述凹槽的底表面中提供多个分立的孔以暴露出所述第一导电凸块。7.根据权利要求6所述的方法,其特征在于,所述导电连接构件中的每一者位于对应的孔内并与所述对应的孔的侧壁间隔开。8.根据权利要求7所述的方法,其特征在于,在俯视图中,所述孔中的每一者具有与位于所述孔中的对应的导电连接构件的形状共形的形状。9.根据权利要求8所述的方法,其特征在于,在提供所述多个分立的孔之后且在执行回流工艺之前,所述孔中的至少一个孔的侧壁延...
【专利技术属性】
技术研发人员:金相昱,金宣澈,薛珍暻,张炳旭,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:韩国,KR
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