本申请提供一种光照射装置，能够抑制因被光照射而造成的检测精度的下降。本申请说明书中公开的技术涉及的光照射装置具有：工作台；以及至少一个光照射部，用于对工作台的上表面照射光；在工作台的至少一部分设置有用于使光散射的至少一个散射部，光照射装...

本发明提供一种有效清洗多联阀的基板处理装置、清洗单元、以及多联阀清洗方法。该基板处理装置具备：罐，其用于供给药液；多联阀，其能够选择性地供给多种处理液；以及处理液喷嘴，其使用从多联阀供给的处理液对基板进行处理，而且，能够在用于对基板进行...

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够抑制形成基板的图案的崩坏。基板处理方法包括：淋洗工序，利用淋洗液(L2)来处理基板(W)；浸渍工序，在淋洗工序之后，将基板(W)浸渍于贮存在处理槽(230)中的经稀释化的异丙醇(dIPA)...

本发明涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。衬底洗净装置包含：衬底保持部，将衬底以水平姿势保持；及一面洗净装置，洗净由衬底保持部保持的衬底的一面。一面洗净装置包含：洗净具，以可与衬底的一面接触的方式设置；流体缸，对洗净具施加朝向上方的力；...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置具备：旋转夹盘，保持衬底；及流体喷嘴，与保持在所述旋转夹盘的衬底的主面对向配置。所述流体喷嘴包含：气体喷出口，从所述衬底的主面的中心侧朝周缘侧放射状喷出气体；及气体流路，对所述气体喷...

本发明涉及一种衬底处理系统及衬底处理方法。衬底处理系统具备：第1衬底保持单元，包含从下侧与具有保护对象面及所述保护对象面相反侧的洗净对象面的衬底对向的第1基座，将所述衬底以所述保护对象面朝向上侧的第1姿势保持；保护膜涂布喷嘴，对于由所述...

本发明的目的在于提供一种脏器容纳容器，在向受体移植脏器时，能够抑制脏器的温度上升并且在对脏器施加某些冲击时能够抑制损伤，进而主刀医生容易操作。该脏器容纳容器(1)具有袋状的主体部(20)。主体部具有开口(21)且能够容纳从开口放入至内侧...

为了对喷出分散系涂敷液的喷嘴进行有效地清洗，本发明提供一种喷嘴清洗装置，该喷嘴清洗装置具有：清洗槽，具有设置有贮存对喷嘴下端部进行清洗的清洗液的贮存区域的清洗槽下端部以及能够将喷嘴下端部浸渍于由贮存区域贮存的清洗液中的开口部；液体槽，贮...

本申请公开了一种基板清洗方法及基板清洗装置，本申请说明书公开的技术是抑制对通过伯努利吸盘被保持的基板进行清洗的清洗液在清洗喷嘴内残留的技术。在本申请说明书公开的技术中，基板清洗方法是对被伯努利吸盘保持的基板进行清洗的基板清洗方法，具备：...

基板(WF)具有设置了成为功率器件的构造的多个芯片区域(RS)，并设置有被处理膜(501)。通过一边使基板(WF)旋转一边使传感器(81)在径向上进行扫描，测定径向上的被处理膜(501)的厚度分布。计算出厚度分布的平均厚度(d

本发明提供一种能够减小气体供给相关要素的设置空间的热处理装置。本发明的热处理装置中，对半导体晶圆进行加热处理的腔室(10)连接有助燃性气体管线(31)、可燃性气体管线(41)及惰性气体管线(51)。在对腔室(10)供给可燃性气体之前，从...

本发明是一种对衬底进行特定处理的衬底处理装置，所述装置包含以下要素。上述要素是指：旋转台，构成为能够绕铅直轴旋转；旋转驱动部，连结在所述旋转台的中心部，具备经接地的旋转轴，且在水平面内旋转驱动所述旋转台；保持机构，设置在所述旋转台的外周...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明是对衬底进行特定处理的衬底处理装置，所述装置包含以下要素。保持机构具备：多个支撑销，跨及保持位置与交接位置之间而旋动；第1磁力部，通过切换周围的磁极来使所述各支撑销旋动到所述保持位置及所述...

本发明提供一种能够使形成在基板上表面的涂布层均匀地干燥的减压干燥装置。减压干燥装置包括腔室、载台、减压机构以及底面整流板。底面整流板位于被支撑于载台的基板与腔室的底板部之间。底面整流板沿着底板部的上表面而展开。在腔室内的减压时，基板的上...

本发明提供基板处理装置，具备：基板保持单元，将基板保持为水平；处理液供给单元，具有喷出处理液的处理液喷嘴，向基板的上表面供给处理液；移动单元，使处理液供给单元在处理液喷嘴与基板的上表面相对的处理位置和处理液喷嘴从与基板的上表面相对的位置...

本发明涉及一种下表面刷、刷基座及衬底清洗装置。下表面刷具备基台部、第1清洗部及第2清洗部。第1清洗部从基台部的上表面朝上方突出，且以俯视时通过基台部的几何中心在一个方向延伸的方式，设置在基台部的上表面。第2清洗部从基台部的上表面朝上方突...

本实用新型的课题是提供一种能够将形成在基板上表面的涂布层均匀地干燥的减压干燥装置。该减压干燥装置(1)具备腔室(10)、载物台(20)、多个排气口(16a)～(16d)、减压机构(30)和控制部(80)。减压机构(30)具有独立调节来自...

本发明提供一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置(100)具备处理槽(2)、衬底保持部(130)、气泡供给部件(4)、处理液补充部件(5)、及控制部(111)。处理槽(2)贮存处理液(LQ)。衬底保持部(130)在处理槽(2)内保...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)具备：基板保持部(120)，保持配列成沿列方向排成一列的基板列的多个基板(W)；处理槽(110)，贮存用以浸渍由基板保持部(120)保持的基板(W)的处理液(L)；及多个气...

本发明提供一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置(100)具备：衬底保持部(120)，保持衬底(W)；处理槽(110)，贮存用于浸渍被保持在衬底保持部(120)的衬底(W)的处理液(L)；及多个气泡产生管(136)，通过对处理液(...