本发明提供一种减压干燥装置及减压干燥方法，能够厚度均匀地对形成于基板上表面的涂敷层进行干燥。该减压干燥装置在驱动减压机构而使腔室内的压力降低至预定的目标压力值来对涂敷层进行干燥的减压干燥处理的过程中，暂时使减压机构停止并驱动供气机构来向...

本发明的空间相位调制元件22为通过使条片221位移来对光执行相位调制的所谓的光栅光阀。若使测量光束Lm(测量光)入射至该空间相位调制元件22，则测量光束Lm向与条片221的位移方式相对应的方向射出。即，能够通过控制条片221的位移方式，...

本发明提供一种能够长期使用的狭缝喷嘴、狭缝喷嘴的调整方法及基板处理装置。本发明包括：块体，具有能够安装于狭缝喷嘴的第二本体部的调整本体部、与从调整本体部向吐出口侧突出设置的突出部，通过调整本体部向第二本体部的安装，突出部相对于第二本体部...

本发明涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。通过一边使洗净器具接触由第1保持部保持的衬底的下表面中央区域，一边使洗净器具绕中心轴旋转，而将下表面中央区域洗净。使洗净器具接触通过第2保持部而旋转的衬底的下表面外侧区域，由此将下表面外侧区域洗...

本发明提供一种能以简单的构成测定闪光照射时的衬底的温度的热处理方法及热处理装置。在成为温度测定对象的半导体晶圆的斜上方设置上部放射温度计(25)。上部放射温度计(25)具备接收到光时产生电动势的光伏元件(28)。光伏元件(28)同时具有...

本发明的衬底清洗装置包含衬底保持部、第1清洗件、第2清洗件及第3清洗件。衬底保持部以水平姿势保持圆形状的衬底。第1清洗件在俯视时，以通过衬底外缘的第1点的方式在衬底的上方进行扫描，由此清洗衬底的上表面。第2清洗件在俯视时，通过接触于衬底...

本发明涉及一种衬底洗净装置及衬底洗净方法。本发明通过衬底保持部将衬底以水平姿势保持。在处理位置，通过下表面刷子将由衬底保持部保持的衬底的下表面洗净。在与由衬底保持部保持的衬底于上下方向重叠且位于处理位置的下方的待机位置，通过刷子洗净部将...

本发明涉及用于从基板上去除有机膜的基板处理方法以及基板处理装置，提供能够抑制药液成本的负担和废液处理的负荷，并且能够高效率地从基板上去除有机膜的基板处理方法和基板处理装置。用于从基板上去除有机膜的基板处理方法具有：a)通过向基板处理室内...

在超临界干燥处理中，一边防止因气液界面的产生而引起的基板的污染，一边通过处理流体以较高的置换效率置换附着于基板的液体。为了该目的，本发明的基板处理方法具备如下步骤：第一步骤(步骤S104)，对收容基板的腔室内导入气相的处理流体；第二步骤...

本发明的基板处理装置(100)具备基板保持部(120)、药液供给部(130)、基板信息取得部(22a)、药液处理条件信息取得部(22b)、及控制部(22)。基板信息取得部(22a)取得包含硬化层厚度信息或离子注入条件信息的基板信息，该硬...

本发明关于一种基板处理装置(1)及基板搬送方法。基板处理装置(1)具备支撑部(25)、搬送机构(23)及反转机构(26)。搬送机构(23)具备第1吸引部(42)与手部驱动部(45)。反转机构(26)具备第2吸引部(72)与旋转驱动部。当...

本发明提供一种基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法具备：向基板的上表面供给药液的工序(步骤S11)；向基板的上表面供给清洗液的工序(步骤S12)；向基板的上表面供给干燥处理液而在基板的上表面上形成干燥处理液的液膜的工序(步骤S14)...

本发明涉及一种涂布处理方法及涂布处理装置。本发明的衬底具有上表面及下表面，在上表面形成着圆环状的凸部。衬底以水平姿势保持。对所述衬底的上表面供给涂布液。在涂布液的供给中或供给后通过使衬底绕铅直轴旋转而对整个上表面扩展涂布液。之后，通过使...

本发明涉及一种涂布处理方法及涂布处理装置。利用旋转保持部将衬底的下表面中央部以水平姿势保持。所保持的衬底绕铅垂轴旋转。对旋转的衬底的上表面供给涂布液。在衬底旋转的状态下，在涂布液的供给结束的第1时间点经过后到衬底上的涂布液丧失流动性的第...

本发明提供一种衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法是在处理槽(3)中，以含有磷酸的蚀刻液(E)蚀刻具有交替积层的硅氧化膜(Ma)与硅氮化膜(Mb)的衬底(W)的方法。衬底处理方法包含：将衬底(W)浸渍在蚀刻液(E)中的步骤(S1)；...

三维造型装置用于制造三维造型物。三维造型装置包括光束照射部、空间光调制器、分离光学系统和扫描部。光束照射部照射光束。空间光调制器对通过光束照射部照射的光束至少在第一轴进行空间调制。分离光学系统包括至少一个透镜阵列，所述透镜阵列具有沿第一...

本发明提供一种能够容易创建以高精度进行检查的训练数据的训练数据创建辅助装置以及训练数据创建辅助方法。由异常数据获取部获取表示事先判定为有缺陷的检查对象物的图像的异常数据。由正常数据获取部以与由异常数据获取部获取到的异常数据对应的方式获取...

本发明的基板处理装置在处理容器内使用超临界状态的处理流体来处理基板的技术中，防止混入到处理流体中的杂质被紊流运送而附着于基板。在处理容器(12)且在俯视时在相比基板(S)的一端部的外侧设有面向处理空间中的比基板靠上方的空间开口的第一导入...

本发明提供一种在基板的主面形成有被覆膜的结构中，能够抑制该主面受到污染的基板处理方法和基板处理装置。该基板处理方法，包括：基板保持工序，将具有第一主面和所述第一主面的相反侧的第二主面的基板保持为水平；被覆膜形成工序，通过向所述第一主面供...

本发明提供一种基板处理装置、示教信息生成方法、示教套件和基板夹具。在基板处理装置中，以利用位于基板保持部上方的手来保持下表面设置有以非直线状配置的三个光电传感器的基板夹具的状态，通过基板旋转机构使基板保持部进行旋转，从而形成预先设置在基...