本发明涉及基板处理装置、解析方法、显示装置及程序。信息存储部存储与包含装载端口组、处理单元组和搬运机构的运转部组的运转相关的信息即运转信息。运转信息包含表示基板处理装置中的基板的处理结果的处理结果信息、表示基板处理装置的运转状态的时间明...

本发明提供一种能得当地干燥衬底的衬底处理方法。本发明的处理衬底(W)的衬底处理方法包含脱水步骤、喷出步骤(混合液喷出步骤)、固化膜形成步骤及升华步骤。脱水步骤将混合液脱水。混合液包含升华性物质与溶媒。喷出步骤向衬底(W)的上表面(W1)...

本发明提供一种基板处理装置及配管装卸配件清洗方法。基板处理装置(100)具备用于处理基板(W)的基板处理单元(10)、使处理液流通至基板处理单元(10)的配管(32)、相对于配管(32)能够装卸的配管装卸配件(140)、在配管(32)中...

本发明提供一种检查装置(1)，其检查基板(9)的通孔，所述检查装置(1)具有光照射部(31)和分光测定部(33)。光照射部(31)向配线层和绝缘层交替地层叠的层叠基板(即，基板(9))上的包含通孔在内的被检查区域照射使形成绝缘层的树脂产...

本发明提供基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置(100)具有：处理单元、贮存部(31)、处理液配管(32)、泵(34)、过滤器(35)、第一流量部(36)、第一返送管(51)、第一调整阀(52)、第二返送管(41)、分支供给管(1...

本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(1)具备处理液罐(30)、第一循环配管(31)、过滤器(39)、泵(37)和控制部(3A)。第一循环配管(31)的上游端(31a)与处理液罐(30)连接，并且下游端(31b)与处理液罐...

本发明涉及一种衬底搬送装置及衬底搬送方法。本发明的衬底搬送装置具备构成为能够保持衬底的手、设置在手上的多个反射型光检测器、局部位置算出部、及衬底位置判定部。多个反射型光检测器朝配置在手上的衬底的外周部分别出射光，且由线状的光通过面分别接...

本发明提供一种抑制微孔层从气体扩散层剥离的技术。本发明的带气体扩散层的MEA(2)具有MEA(1)和气体扩散层(3)。MEA(1)具有电解质膜(11)、催化剂层(13)、以及副垫片(15)。气体扩散层(3)具有气体扩散层基材(31)和微...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。能通过从配置在绕旋转轴旋转的衬底的一个主面的正下方，且从衬底的端面朝旋转轴侧离开的位置的发光元件射出的光，将衬底的周缘部有效加热，而在短时间内执行处理液的处理。本发明的发光元件以发光面朝向衬底的...

本申请提供一种矢量获取方法、矢量获取装置以及记录介质，能够提高与单词对应的矢量的分类精度。矢量获取方法将能够分割成多个单词的单词作为复合词，并包括：将包含从复合词分割出的单词中的至少两个的至少一个语句输入到学习完毕模型中的工序；从学习完...

本发明涉及一种衬底处理装置及供给阀。供给阀(21)具备作为开关阀(55)发挥功能的构成(开关阀室(65)、阀座(71)、隔膜(73)及开关驱动部(75))。在开关阀室(65)连接着将开关阀室(65)内的气泡排出的排气流路(103)。由此...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明的衬底处理装置具备流路部、喷出部及检测部。流体在流路部内流动。流体例如可以是液体，也可以是气体。喷出部构成为能够向用于对衬底进行处理的处理空间内喷出在流路部内流动的流体。检测部检测在流路部...

本发明的拍摄方法包括：每当获取一个原图像，将与原图像对应的图像数据存储在存储器的工序；计算原图像间的位置偏移量的工序。针对原图像的每一个，基于拍摄时的拍摄视场间的位置关系预先设定表示拍摄视场与该原图像重叠而成为位置偏移量的计算对象的其他...

本发明提供一种能减少供气单元从处理外壳朝上方伸出的供气单元的突出长度的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理外壳(22)与供气单元(30)。处理外壳(22)在处理外壳(22)的内部处理衬底(W)。供气单元(30)将气体供给到处理外壳(...

本发明提供一种能够恰当地把握适用于高粘度处理液的过滤的过滤器的寿命或老化程度的技术。供液单元(10)是一种供给高粘度的处理液的装置。供液单元(10)具有：供给罐(11)、供液口(19)、第一供液配管(12)和第二供液配管(14)、加压机...

本发明的课题是提供一种能够容易地管理各个膜电极接合体的信息的技术。本发明的膜电极接合体(1)具有电解质膜(11)、催化剂层(13a)、(13b)、一对副密封垫(15)和信息部(17)。催化剂层(13a)位于电解质膜(11)的第一面，催化...

该载物台姿势推定装置(18)具有：输入数据获取部(91)以及基于输入数据推定载物台的偏转角度的姿势推定部(92)。由此，在不始终设置大规模的测量装置的情况下能够推定载物台的偏转角度。另外，姿势推定部92基于由多个学习完毕模型(M1、M2...

该搬送装置的控制部(40)具有角度获取部(91)以及搬送控制部(92)。搬送控制部(92)具有通过用于将载物台的偏转角度(θ)维持在所期望的状态的强化学习得到的第一学习完毕模型(M1)。搬送控制部(92)将包括由角度获取部(91)获取的...

本发明为同时实现基板上表面上的环境气体控制与降低对基板上表面施行的处理的不均，使基板由保持部保持为水平姿势，从位于与该基板上表面呈相对向的状态的环境气体控制构件朝基板上表面上供给非活性气体，并一边使保持部以沿铅垂方向的虚拟旋转轴为中心进...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置具备基板保持部、喷嘴(8)、第一供给管(114)、第一开闭部(111)、第一流量调节部(112)、第二供给管(124)和流量控制部(200)。第二供给管向喷嘴供给处理液。流量控制部对...