本发明提供一种基板处理装置。在向旋转的基板(9)的下表面供给处理液来处理基板(9)的基板处理装置中，设置可分离地载置在下支承体(21)上的上支承体(31)、从上支承体(31)向下方突出的、用来把持基板(9)的多个上把持构件(32)、能够...

衬底处理方法包括：处理膜形成工序，向衬底的表面供给处理液，使前述衬底的表面上的处理液固化或硬化，由此在前述衬底的表面形成处理膜；光照射工序，向前述处理膜照射光，使前述处理膜在前述衬底的表面上分裂；和处理膜除去工序，其在前述光照射工序后向...

本发明涉及一种衬底处理装置。在作为第1循环配管(35)的一部分的浓缩用配管(39)，设有具有石英管(47)的石英加热器(41)。第1迂回配管(36)的两端(36A)、(36B)连接在浓缩用配管(39)的上游端及下游端。在第1迂回配管(3...

本发明提供处理装置群管理系统、处理装置群管理方法及记录程序的存储介质。处理装置群管理系统对多个基板处理装置的集合即处理装置群的运转状态进行管理。处理装置群管理系统具备信息存储部、显示器及显示控制部。信息存储部存储多个基板处理装置固有的信...

本发明提供一种详细地管理仿真晶片的劣化的热处理装置以及热处理方法。热处理装置(100)是对仿真晶片(R)进行管理的热处理装置(100)。热处理装置(100)具有：热处理部(160)，对仿真晶片(R)进行热处理；损伤检测部(170)，检测...

本发明的目的在于提供一种构成简单，且能防止闪光照射时的衬底的跳跃及破裂的热处理用基座及热处理装置。热处理用基座(74)在通过从闪光灯对衬底照射闪光而进行半导体衬底(W)的热处理时保持半导体晶圆(W)，具备：保持板(75)，具有平面状的保...

端部状态确认装置包含旋转保持装置、光出射部及摄像部。将至少一部分具有圆形状且于外周端部设置着保护部件的衬底搬入到所述端部状态确认装置。搬入的衬底保持于旋转保持装置。摄像部具有摄像区域，构成为能接收透过衬底及保护部件的红外光。光出射部将红...

本发明由训练数据获取部获取对从作为检索对象的多个文档文件中提取的一部分的文档文件分配了标签信息的训练数据。通过在使用语料库预先进行了学习的Transformer型的机器学习模型中应用所获取的训练数据，由构建部构建用于推定应该对文档文件分...

本发明提供一种能够在膜电极接合体中提高催化剂层的排水性的技术。膜电极接合体具有电解质膜和在电解质膜的一个表面上形成的阴极催化剂层(31)。阴极催化剂层(31)包含催化剂担载碳(51)和离聚物(52)。催化剂担载碳(51)包含碳粒子(51...

一种膜电极接合体及制造方法、氢制造装置、油墨的制造方法。本发明提供一种能够提高在催化剂层中生成的物质的排出性的技术。本发明的膜电极接合体具有电解质膜和在电解质膜的一个表面上形成的阳极催化剂层(21)。阳极催化剂层(21)包含催化剂粒子(...

衬底处理方法包括：第1处理液供给工序，将包含硫酸及过氧化氢水中的一者的第1处理液涂布于衬底的表面；第2处理液供给工序，将包含硫酸及过氧化氢水中的另一者且粘度比前述第1处理液低的第2处理液供给至涂布有前述第1处理液的前述衬底的表面；混合液...

本发明的课题在于预先防止与狭缝喷嘴一体地下降的喷嘴防护件踩踏突出物而对处理液向基板的涂布带来不良影响的情况。本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明包括：狭缝喷嘴，具有狭缝状的吐出口；移动机构，使狭缝喷嘴相对于基板相对地移动；喷...

一种用于基板处理监视的设定信息的设定方法，具备：设置制程工序(S12)，对使基板处理装置内的第一监视对象物移动的移动机构进行控制，使所述第一监视对象物移动至第一停止位置；设置拍摄工序，与设置制程工序(S12)并行地执行，并由照相机对第一...

本发明提供基板处理方法以及基板处理装置，所述基板处理方法包括：液膜形成工序，在基板的主面上形成含硫酸液体的液膜；含臭氧气体暴露工序，使能够容纳所述基板的处理室内充满含臭氧气体而使所述液膜暴露于含臭氧气体中；以及基板加热工序，在充满了含臭...

提供一种绘制装置、绘制方法及记录有程序的存储介质。位置检测部(113)通过对由拍摄部获取到的拍摄图像进行使用了模板的图案匹配，检测基板的位置。存储部(111)存储向第1图案上绘制的第2图案的作为CAD数据的第2CAD数据。数据生成部(1...

本发明的图像处理方法包括：获取对分裂期的受精卵进行光学相干断层成像而得到的表示受精卵的三维图像的三维图像数据的工序；基于三维图像数据，按每个卵裂球提取三维图像中各个卵裂球所占的卵裂球区域的工序；对所提取的卵裂球区域的数量进行计数，并且基...

本发明的图像处理方法包括：获取对分裂期的受精卵进行光学相干断层成像而得到的表示受精卵的三维图像的三维图像数据的工序；基于提取的结果和三维图像数据，按每个卵裂球提取三维图像中各个卵裂球所占的卵裂球区域的工序；基于三维图像数据，求出各个卵裂...

本发明提供基板处理方法以及基板处理装置，涉及在处理容器的处理空间内使用处理流体干燥基板的基板处理技术，能够一边有效地抑制形成于基板的表面的图案的坍塌，一边使基板良好地干燥。本发明是在处理容器内依次执行升压工序、恒压工序以及减压工序的基板...

本发明提供一种绘制装置以及绘制方法。绘制装置(1)具备绘制头(41)、第1载台(21a)以及第2载台(21b)、以及第1测距传感器(5)。第1测距传感器(5)的传感器要素(51)在向由一方的载台保持的基板(9)绘制图案的期间内，获取与由...

绘制装置(1)的绘制头移动机构(42)使头单元(43)沿着头移动路径在第1绘制位置与第2绘制位置之间水平移动。气体送出部(5)沿着头移动路径配置。气体送出部(5)的气体流路(51)沿着头移动路径从第1绘制位置延伸到第2绘制位置。气体送出...