基板处理装置及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术的课题在于预先防止与狭缝喷嘴一体地下降的喷嘴防护件踩踏突出物而对处理液向基板的涂布带来不良影响的情况。本发明专利技术提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明专利技术包括：狭缝喷嘴，具有狭缝状的吐出口；移动机构，使狭缝喷嘴相对于基板相对地移动；喷嘴防护件，在狭缝喷嘴通过移动机构而相对于基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于狭缝喷嘴的前方侧，并与狭缝喷嘴一体地移动；升降机构，使狭缝喷嘴与喷嘴防护件一体地升降；以及碰撞探测部，探测通过升降机构下降的喷嘴防护件的前端在基板的表面侧向上方突出并与阻碍处理液的涂布的突出物碰撞。涂布的突出物碰撞。涂布的突出物碰撞。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及基板处理方法


[0001]本专利技术涉及一种从狭缝喷嘴向液晶显示装置或有机EL显示装置等平板显示器(flat panel display，FPD)用玻璃基板、半导体晶片、光掩模用玻璃基板、彩色滤光片用基板、记录盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、半导体封装用基板(以下，简称为“基板”)供给处理液并涂布的基板处理技术，尤其涉及一种基板处理装置及基板处理方法。

技术介绍

[0002]已知有一种基板处理装置，其在通过使具有狭缝状的吐出口的狭缝喷嘴相对于基板相对地移动的同时从狭缝喷嘴吐出处理液而将处理液涂布在基板上。例如在专利文献1所记载的装置中，在平台的平台面上保持基板的状态下在所述平台面的上方使狭缝喷嘴移动来涂布处理液。另一方面，在专利文献2所记载的装置中，在平台的平台面的上方使狭缝喷嘴位于规定的涂布位置的状态下，以所谓的浮起方式使基板移动。更详细而言，利用由穿过设置于平台面的气体孔的气体流而形成于平台面上的压力气体层使基板浮起，同时使所述基板以通过由狭缝喷嘴与平台面夹持的涂布区域的方式移动来涂布处理液。如此本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，将处理液涂布在基板的表面上，且所述基板处理装置的特征在于，包括：狭缝喷嘴，具有狭缝状的吐出口；移动机构，使所述狭缝喷嘴相对于所述基板相对地移动；喷嘴防护件，在所述狭缝喷嘴通过所述移动机构而相对于所述基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于所述狭缝喷嘴的前方侧，并与所述狭缝喷嘴一体地移动；升降机构，使所述狭缝喷嘴与所述喷嘴防护件一体地升降；以及碰撞探测部，探测通过所述升降机构下降的所述喷嘴防护件的前端在所述基板的表面侧向上方突出并与阻碍所述处理液的涂布的突出物碰撞。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，所述碰撞探测部在所述喷嘴防护件的前端与所述突出物碰撞时，基于对所述喷嘴防护件及所述狭缝喷嘴中的至少其中一者施加的应力或向上下方向的振动来探测所述喷嘴防护件与所述突出物的碰撞。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述碰撞探测部具有测力传感器，所述测力传感器安装于所述喷嘴防护件及所述狭缝喷嘴中的至少其中一者并探测向上方施加的应力。4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其中，所述碰撞探测部具有振动传感器，所述振动传感器安装于所述喷嘴防护件及所述狭缝喷嘴中的至少其中一者并探测上下方向的振动。5.根据权利要求1所述的基板处理装置，还包括防护件支撑部，所述防护件支撑部相对于所述狭缝喷嘴支撑所述喷嘴防护件的后端部，所述喷嘴防护件根据在与所述狭缝喷嘴一体地下降的中途所述喷嘴防护件的所述前端与所述突出物碰撞，而能够位移地由所述防护件支撑部支撑，所述碰撞探测部基于所述喷嘴防护件向上方的位移来探测所述喷嘴防护件与所述突出物的碰撞。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，所述喷嘴防护件在上下方向上滑动自如地由所述防护件支撑部支撑，所述碰撞探测部具有位置传感器，所述位置传感器根据所述喷嘴防护件的所述前端与所述突出物碰撞来探测所述喷嘴防护件向上方位移。7.根据权利要求5所...

【专利技术属性】
技术研发人员：柏野翔伍，大宅宗明，高村幸宏，西冈贤太郎，塩田明仁，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：