本发明将通过OCT拍摄而获得的信息以特别是对于有效地辅助胚胎的评价作业有用的形态向用户提示。本发明的图像处理方法具备如下工序：获取原信号数据的工序(S102)，该原信号数据是对所培养的胚胎进行光学相干断层拍摄而求出的，表示来自包括胚胎的...

在形成有潜影图像的印刷物中，能够良好地读取潜影图像。作为印刷物的片剂(9)具有被印刷对象物、基底层(93)、和潜影图像层(92)。基底层(93)形成于所述被印刷对象物的表面，并含有具有吸收特定波长的不可见光的性质的锐钛型氧化钛(第一物质...

本发明提供一种图案形成装置，该装置通过以喷墨方式向布线基板(9)喷出阻焊剂的油墨的液滴，从而在布线基板(9)上形成阻焊膜(92a)的图案。以吸引的方式而保持布线基板(9)，由此，在通孔中产生吸引流。在产生吸引流的通孔即吸引孔(91a)的...

本发明提供能够改善图案倒塌及颗粒问题的衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括下述工序：表面改性工序，针对在表面具有氧化物的衬底的表面，实施将该表面的粗糙加以改善的改性；表面清洗工序，向上述衬底的经改性的上述表面供给处理液，通过该处...

本发明提供片剂检查方法以及片剂检查装置。片剂检查方法具备工序(a)～工序(c)。在工序(a)中，拍摄片剂，生成映现有片剂的第1主面以及侧面这两者的拍摄图像。在工序(b)中，在拍摄图像中确定出第1主面以及侧面分别占据的主面区域以及侧面区域...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。本发明的课题在于确实地防止矫正构件与检测部发生干扰，所述矫正构件对载置于平台的基板进行矫正，所述检测部一边在沿着平台的上表面的第一方向上移动一边对已矫正的基板的上表面的表面状态进行检测。包括退避...

本发明涉及一种液体处理装置及液体处理方法。在显影装置中，使由旋转夹头吸附保持的衬底以水平姿势旋转。从具有在一方向上连续延伸的一个喷出口的显影液喷嘴将显影液喷出到衬底上。此时，以如下方式固定显影液喷嘴的姿势，即，对通过衬底的旋转中心的衬底...

缩短从具有互不相同的照射方向的N(N为2以上自然数)个光源各自依次向对象物照射光的状态下获取每个光源的对象物的图像所需的时间。具备：移动部，使对象物沿第1方向移动；拍摄部，具有沿与第1方向正交的第2方向呈带状延伸的拍摄区域，拍摄对象物中...

片剂印刷方法包括：输送工序，输送片剂；第一拍摄工序，对片剂的一面进行拍摄；第二拍摄工序，对另一面进行拍摄；第一印刷工序，利用第一印刷部对另一面进行印刷处理；第二印刷工序，利用第二印刷部对一面进行印刷处理；印刷控制工序，基于由第一拍摄工序...

本发明提供一种抑制涂布不均的涂布装置及涂布方法。本发明的课题在于在通过涂布平台而一边使基板以上浮的状态移动一边对所述基板的上表面供给处理液来进行涂布的涂布装置中抑制涂布不均，所述涂布平台包含朝向上方具有气体的喷出口的多个开口部与具有所述...

本发明涉及一种衬底处理装置、载具搬送方法及载具缓冲装置。载具搬送机构(51)在2个开启机构(9、10)的载置台(13)与多个载具保管架(53)之间搬送载具(C)。多个载具保管架(53)及载具搬送机构(51)分别搭载在第1处理块(3)之上...

本发明提供一种能在短时间内将腔室内构造物调温到稳定温度的热处理方法及热处理装置。在先行批组的处理结束后，开始加温处理。在加温处理中，通过来自卤素灯的光照射，将基座等腔室内构造物保温于固定的保温温度。当在执行加温处理的过程中接收到意为移出...

本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，在基板处理中，向被保持为水平状态的基板(9)的上表面(91)供给第一处理液，形成覆盖整个上表面(91)的第一处理液的液膜(81)。另外，对基板(9)进行加热，在上表面(91)上的第一处理液的液...

本发明提供一种图案形成装置，该装置通过以喷墨方式向布线基板喷出阻焊剂的油墨的液滴，从而，在布线基板上形成阻焊膜(92)的图案。此时，将布线基板上的导电图案(91)的边缘附近区域(951)的每单位面积的油墨的喷出量设定为多于未形成有导电图...

本发明提供一种能够实现处理单元的增设且容易进行搬运机械手的维护的技术。第1处理模块(3A)具有处理单元(SP1～SP6)及第1交接部(PS1)。分度盘部分(2)配置在第1处理模块的‑X侧，向第1交接部(PS1)供给基板(W)。搬运模块(...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底搬送方法。在第1ID块(2)上设有载置台(13)，在第2ID块(4)上设有载置台(47)。以往，仅在第1ID块(2)上设有载具载置台。因此，在去路及返路这两个路径中，在第1ID块(2)与IF块(6)之间搬...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底搬送方法。本发明的衬底处理装置依序配置着ID块(2)、涂布块(3)、显影块(4)及IF块(6)。在ID块(2)上设有载置台(13)，在IF块(6)上设有载置台(47)。以往，仅在ID块上设有载具载置台。因...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底搬送方法。第1 ID块(2)从载置在载置台(13)上的载具(C)取出衬底(W)，并将所取出的衬底(W)输送到6个处理层(3A～3F)中的任一个。另外，第2 ID块(4)例如将从处理层(3A)输送来的衬底(...

本发明涉及一种衬底处理装置及该衬底的搬送方法。在第1ID块(2)设有载置台(13)，在第2ID块(4)设有载置台(74)。以往，仅在第1ID块(2)设有载具载置台。因此，在去路及返路这两条路径中，在第1ID块(2)与第2处理块(5)之间...

本发明提供一种能够确认形成在衬底表面的薄膜的膜种类及膜厚的热处理方法及热处理装置。将针对形成有多种膜种类及膜厚的薄膜的硅衬底通过模拟所求出的多个理论反射率与膜种类及膜厚建立关联地预先注册于数据库。将收容着构成批次的多个半导体晶圆的载具搬...