曝光装置以及曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术的曝光装置以及曝光方法的目的在于，即使是没有形成对准标记的基板，也能够根据基板的形状适当地进行曝光。本发明专利技术的曝光装置具有：载物台，支撑处理对象的基板；曝光部，基于规定的曝光数据通过光束对基板的表面进行曝光并描画；移动机构，使载物台与曝光部相对移动；拍摄部，对被载物台支撑的未曝光的基板的边缘部进行拍摄；以及描画控制部，根据拍摄部的拍摄结果在多个部位检测基板的边缘位置，根据其检测结果，对光束入射到基板的入射位置进行控制。位置进行控制。位置进行控制。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置以及曝光方法


[0001]本专利技术涉及对基板进行曝光以例如在印刷布线基板、玻璃基板等基板上描画图案的技术。

技术介绍

[0002]作为在半导体基板、印刷布线基板、玻璃基板等各种基板上形成布线图案等图案的技术，存在使根据描画数据调制的光束入射到形成于基板表面的感光层从而使感光层曝光的技术。在这种技术中，进行调整光束相对于基板的入射位置的对准处理，以在基板上的适当位置进行描画。
[0003]例如在日本特开2022
‑
021438号公报(专利文献1)记载的技术中，用照相机拍摄在载置于载物台的基板的表面上形成的对准标记，基于该位置检测结果进行对准调整。对准调整除了例如通过机械地调整曝光头与载物台的相对位置来实现以外，例如像日本特开2021
‑
152572号公报(专利文献2)记载的那样，也通过描画数据的修正或光束的射出时机的调整等来实现。
[0004]在上述现有技术中，前提是预先在基板上形成对准标记。然而，也存在对准标记自身通过曝光来形成的情况。在这种情况下，以最初的曝光中形成的对准标记作为位置基准进行之后的处理。例如在通过多次曝光在基板上形成多层图案的情况下，只要层间的相对位置一致即可，因此，也可以说在最初的曝光中不需要严格的对位。
[0005]例如，在基板具有伸缩等变形的情况下，期望也根据基板的形状对描画图案进行修正。在不考虑这一点而进行最初的曝光并形成对准标记的情况下，可能存在基于形成的对准标记的以后的对准调整并不一定适合基板的形状的情况。
专利
技术实现思路

[0006]本专利技术是鉴于上述课题而完成的，其目的在于，提供即使是没有形成对准标记的基板，也能够根据基板的形状适当地进行曝光的技术。
[0007]本专利技术的一个方式的曝光装置具有：载物台，支撑处理对象的基板；
[0008]曝光部，基于规定的曝光数据通过光束对所述基板的表面进行曝光并描画；移动机构，使所述载物台与所述曝光部相对移动；拍摄部，对被所述载物台支撑的未曝光的所述基板的边缘部进行拍摄；以及描画控制部，根据所述拍摄部的拍摄结果在多个部位检测所述基板的边缘位置，根据其检测结果，对所述光束入射到所述基板的入射位置进行控制。
[0009]另外，本专利技术的一个方式的曝光方法，一边使支撑处理对象的基板的载物台与曝光部相对移动，一边使所述曝光部基于规定的曝光数据通过光束对所述基板的表面进行曝光并描画，其中，对被所述载物台支撑的未曝光的所述基板的边缘部进行拍摄，根据拍摄结果在多个部位检测所述基板的边缘位置，根据其检测结果，对所述光束入射到所述基板的入射位置进行控制。
[0010]在如上所述构成的专利技术中，对未曝光的基板的边缘部进行拍摄并在多个部位检测
基板的边缘位置，根据其检测结果，对光束入射到基板的入射位置进行控制。通过对基板的边缘的多个部位进行位置检测，能够推断基板的外形。例如，在存在伸缩、形变等造成的基板的变形的情况下，检测的边缘间的相对位置与本来的位置关系不同。若将边缘位置的检测结果反映到光束入射到曝光时的基板的相对的入射位置，就能够进行与基板的形状匹配的描画。
[0011]如上所述，根据本专利技术，对未曝光基板的边缘部进行拍摄并在多个部位检测边缘位置，根据其结果对光束入射到基板的入射位置进行控制。因此，即使在存在伸缩、形变等造成的基板的变形的情况下或者在基板上未形成对准标记的状态下，也能够在基板的适当位置进行描画。
附图说明
[0012]图1是示意性地表示本专利技术的曝光装置的概略结构的主视图。
[0013]图2是表示图1的曝光装置具有的电气结构的一个示例的框图。
[0014]图3A是表示基板的变形与基板上的图案形成区域的关系的图。
[0015]图3B是表示基板的变形与基板上的图案形成区域的关系的图。
[0016]图3C是表示基板的变形与基板上的图案形成区域的关系的图。
[0017]图4是表示本实施方式中的曝光处理的流程图。
[0018]图5是表示对准照相机的配置与拍摄位置的关系的图。
[0019]图6A是示意性地表示基于拍摄结果的基板外形的推断处理的图。
[0020]图6B是示意性地表示基于拍摄结果的基板外形的推断处理的图。
[0021]图6C是示意性地表示基于拍摄结果的基板外形的推断处理的图。
[0022]附图标记的说明：
[0023]1曝光装置
[0024]2载物台
[0025]3载物台驱动机构(移动机构)
[0026]4曝光单元(曝光部)
[0027]9控制部(描画控制部)
[0028]41曝光头(曝光部)
[0029]51对准照相机(拍摄部)
[0030]AM对准标记
[0031]Ri拍摄区域
[0032]Rp图案形成区域
[0033]S基板
具体实施方式
[0034]图1是示意性地表示本专利技术的曝光装置的概略结构的主视图。另外，图2是表示图1的曝光装置具有的电气结构的一个示例的框图。在图1以及以下的图中，适当地示出作为水平方向的X方向、作为与X方向正交的水平方向的Y方向、作为铅垂方向的Z方向以及以与Z方向平行的旋转轴为中心的旋转方向θ。
[0035]曝光装置1对形成有抗蚀剂等感光材料的层的基板S(曝光对象基板)照射规定图案的激光，从而在感光材料上描画图案。作为基板S，例如，能够应用印刷布线基板、各种显示装置用的玻璃基板、半导体基板等各种基板。
[0036]曝光装置1具有主体11，主体11由主体框架111以及安装于主体框架111的盖板(省略图示)构成。而且，在主体11的内部和外部分别配置有曝光装置1的各种结构构件。
[0037]曝光装置1的主体11的内部被划分为处理区域112和交接区域113。在处理区域112主要配置有载物台2、载物台驱动机构3、曝光单元4以及对准单元5。另外，在主体11的外部配置有向对准单元5供给照明光的照明单元6。在交接区域113配置有相对于处理区域112进行基板S的搬入搬出的搬运机械手等搬运装置7。进一步，在主体11的内部配置有控制部9，控制部9与曝光装置1的各部电连接，对这些各部的动作进行控制。
[0038]在主体11的内部的交接区域113配置的搬运装置7从未图示的外部的搬运装置或基板保管装置接受未处理的基板S并将其搬入(装载)至处理区域112。另外，从处理区域112搬出(卸载)处理完毕的基板S并将其向外部排出。未处理基板S的装载以及处理后的基板S的卸载根据来自控制部9的指示由搬运装置7执行。
[0039]载物台2具有平板状的外形，将载置于其上表面的基板S保持为水平姿势。在载物台2的上表面形成有多个吸引孔(省略图示)，通过对该吸引孔赋予负压(吸引压)，将载置于载物台2上的基板S固定在载物台2的上表面。该载物台2由载物台驱动机构3驱动。
[0040]载物台驱动机构3是使载物台2沿Y方向(主扫描方向)、X方向(副扫描方本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其中，具有：载物台，支撑处理对象的基板；曝光部，基于规定的曝光数据通过光束对所述基板的表面进行曝光并描画；移动机构，使所述载物台与所述曝光部相对移动；拍摄部，对被所述载物台支撑的未曝光的所述基板的边缘部进行拍摄；以及描画控制部，根据所述拍摄部的拍摄结果在多个部位检测所述基板的边缘位置，根据其检测结果，对所述光束入射到所述基板的入射位置进行控制。2.如权利要求1所述的曝光装置，其中，所述描画控制部基于根据所述检测结果推断的所述基板的外周部相对于所述曝光部的相对位置，来对所述光束的入射位置进行控制。3.如权利要求1所述的曝光装置，其中，所述描画控制部基于所述检测结果对所述曝光数据进行补正。4.如权利要求1所述的曝光装置，其中，所述描画控制部基于所述检测结果对来自所述曝光部的所述光束的射出时机进行调整。5.如权利要求1所述的曝光装置，其中，所述描画控制部基于所述检测结果对基于所述移动机构的所述相对移动的方式进行调整。6.如权利要求1所述的曝光装置，其中，所述描画控制部基于所述检测结果对所述载物台与所述曝光部的相对姿势...

【专利技术属性】
技术研发人员：水端稔，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：