本发明中，将凝固点低于吸附物质的凝固点的干燥前处理液供给至衬底(W)的表面，使吸附物质吸附于图案(P1)的表面。冷却衬底(W)上的干燥前处理液，由此使衬底(W)上的干燥前处理液的一部分凝固而沿着图案(P1)的表面形成含有吸附物质的凝固膜...

本发明提供一种基板处理装置，有效抑制处理液相对于基板的下表面的蔓延。该基板处理装置具备：保持部，其用于能够旋转地保持基板；旋转驱动部，其用于使上述保持部旋转；以及对置板，其在俯视下包围上述保持部且与上述基板对置，上述对置板具备：第一气体...

本发明的基板处理方法和基板处理装置具有优异的干燥性能，使在表面形成有图案的基板良好地干燥。该基板处理方法具备：液膜形成工序，将溶剂中溶解有环己酮肟的处理液供给到形成有图案的基板的表面，以在基板的表面形成处理液的液膜；固化膜形成工序，使处...

本发明的衬底处理液的特征在于：能够用于去除具有图案形成面的半导体衬底等衬底上的液体，且包含：作为升华性物质的环己酮肟；以及选自由醇类、酮类、醚类、环烷烃类及水所组成的群中的至少1种溶剂。

本发明提供一种基板处理装置，其利用超临界状态的处理流体处理基板的表面，保护基板不受由流路内的处理流体的局部气化引起的压力变动的影响。在利用超临界状态的处理流体处理基板(S)的表面的基板处理装置(1)中，包括：腔室框体(10)，在内部设置...

沿着处理对象的基板表面形成稳定的处理流体的层流，从而效率良好地处理基板。本发明是一种基板处理装置，利用处理流体处理基板的表面，其包括：支撑托盘，在平板的上表面设置有收容基板的凹部；收纳容器，形成有与支撑托盘的外形对应的形状且顶面为水平面...

本发明提供一种粒状物处理装置及粒状物处理方法，该粒状物处理装置具有使粒状物的表面和背面翻转的翻转机构，能够对粒状物的表面和背面这两面进行规定的处理，并且能够防止翻转机构翻转粒状物时粒状物的脱落或破损。该粒状物处理装置具有搬运机构、处理部...

本发明在于使操作员可在装置的运转中观察实物来确认不良品的状态。所述锭剂印刷装置(检查装置)包括不良品回收部(不良品贮存部)、引导部及开闭构件。不良品回收部贮存锭剂(检查对象物)中的检查结果判定为不良的不良品。引导部具有将所述不良品自搬送...

本发明提供一种搬送装置、锭剂印刷装置及在粒状物的搬送装置中可抑制粒状物的堵塞或粒状物的破裂的技术。所述搬送装置包括供给机构、第一滚筒、第一按压构件及第一弹性构件。供给机构沿着水平的搬送方向供给作为粒状物的多个锭剂。第一滚筒以水平的轴为中...

本发明提供一种检查装置。不牺牲向开口的内部访问的容易度，将显示装置配布在对于操作员来说容易观察的位置。该片剂印刷装置(检查装置)(1)是一边利用搬运装置搬运粒状的片剂(检查对象物)(9)一边进行检查的片剂印刷装置，具备箱体(100)、开...

本发明根据区间最终使用时刻，从多个处理区间中选择1个处理区间。区间最终使用时刻是属于相同处理区间的多个处理单元的单元最终使用时刻或修正单元最终使用时刻中最早的时刻。修正单元最终使用时刻是从单元最终使用时刻减去搬送时间而得的时刻。而且，从...

处理液喷出装置(1)具有：判定部(12)，判定开闭阀(72)的关闭速度，该开闭阀(72)用以开闭对喷嘴(251)供给处理液的处理液供给流路；以及拍摄部(65)，在开闭阀(72)将处理液供给流路关闭且停止从喷嘴(251)喷出处理液时，从与...

本发明涉及基板处理装置、基板处理系统及基板处理方法。本发明的课题在于根据处理的进展来调节处理液的循环流量。基板处理装置(1)具有：处理槽(11)，其使基板W浸渍于处理液；溢流槽(12)，其对从处理槽溢出的处理液进行回收；循环配管(13)...

本发明的提供基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置通过第一供给配管供给稀释用液，通过第二供给配管供给药液。通过调整部调整流过第一供给配管的稀释用液的流量。在混合罐中对通过第一供给配管供给的稀释用液和通过第二供给配管供给的药液进行混合...

本发明提供基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括：药液处理工序，保持覆盖基板的图案形成面的药液的液膜，并使用药液来处理图案形成面；中间处理工序，使用中间处理液来处理图案形成面；填充剂喷出工序，朝向图案形成面喷出填充剂；填充剂扩大...

本发明涉及衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括下述工序：含有升华性物质的液膜形成工序，通过将含有升华性物质的液体向形成有图案的衬底的表面供给，从而在衬底的表面上形成将衬底的表面覆盖的含有升华性物质的液体的液膜，含有升华性物质的液...

本发明提供涂敷装置以及涂敷方法。在一边以使基板浮起的状态进行搬运，并且使喷嘴向与基板的搬运方向相逆的方向移动，一边从喷嘴的吐出口排出涂敷液并涂敷于基板的涂敷技术中，使涂敷于基板的涂敷液的厚度稳定化。在由基板搬运机构搬运的上述基板的前端到...

基板处理方法具备有：使溶解至处理液的氧减少并生成低氧处理液的工序(步骤S12)；以及对在主表面(即上表面)上形成有第一金属部以及接触到第一金属部的第二金属部的基板供给低氧处理液并进行上表面的处理的工序(步骤S14)。在步骤S14中，使低...

提供一种基板处理装置，在腔室间搬送经覆液的基板的基板处理装置中，能够切实地防止液体的飞散，并且实现腔室间的基板搬送。基板处理装置包括：底座部(1541)，与腔室邻接地配置；机械手(155)，保持基板(S)；机械臂(1542)，被安装在底...

本发明提供一种能提高基板的面内蚀刻的均匀性的基板处理装置。基板处理装置(1)是利用气相对基板(W1)的表面进行蚀刻的装置。基板处理装置(1)具备腔室(10)、加热载置部(30)、气体导入部(40)、排气部(50)、以及第一加热部(60)...