本发明提供获取描绘装置中的与描绘位置相关的信息的描绘位置信息获取方法及描绘方法。描绘位置信息获取方法具有：对校正用基板的第一主面进行拍摄，获取两个第一基准标记的位置的工序(步骤S33)；在校正用基板的第二主面上描绘多个对准标记的工序(步...

本发明提供在水电解装置中能够降低用于间隔体的金属板的数量的技术。水电解装置具有电解单元(10)与间隔体(20)交替地层叠的层叠结构(30)。间隔体具有金属板(21)和流路构件(91)。金属板具有流通孔(28)。流路构件(91)在层叠方向...

本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)具备处理槽(110)、基板保持部(120)、气泡供给部(135)和多个处理液供给部(An)。基板保持部(120)将基板(W)浸渍在贮存于处理槽(110)的处理液(LQ)中。气泡...

本发明提供一种能够在电解单元和隔板交替层叠而形成的层叠结构中限制密封构件在层叠方向上被过度压缩的技术。隔板(20)用于电解单元(10)和隔板(20)交替层叠而形成的层叠结构(30)。电解单元(10)具有包含电解质膜(51)的基底层(50...

本发明提供一种能够提高清洗后的基板的下表面中央区域清洁度的基板清洗装置及基板清洗方法。基板清洗装置包括：上侧保持装置，对基板的外周端部进行保持；以及下表面刷，与基板的下表面接触来对所述基板的下表面进行清洗。下表面刷在基板的下表面中央区域...

基板清洗装置具备上侧保持装置。上侧保持装置与基板的外周端部接触，且不使该基板旋转地以水平姿势进行保持。将通过清洗液而湿润的下表面刷压抵于由上侧保持装置保持的基板的下表面中央区域。在该状态下，下表面刷相对于基板的下表面中央区域旋转或移动。...

对于因研磨器具(96)的研磨在基板的背面产生的粉尘，利用离心力也向研磨器具(96)的外周侧推出粉尘。在此，从喷射口(235)喷射氮气。由此附着于基板的背面的粉尘从基板的背面脱离。利用吸引口(237)吸引该粉尘。因此，由于粉尘难以残留于基...

本发明提供一种对基板照射光来进行图案的描绘的描绘装置以及描绘方法，在描绘装置(1)的载物台(21)设置有保持基板(9)的基板保持部(25)。描绘头部(41)向基板(9)照射调制后的光。刻度部(52)在载物台21上与基板保持部(25)在主...

本发明涉及一种一边使狭缝喷嘴相对于保持于载物台上的基板移动，一边对基板进行涂布的基板处理装置，在具备载置基板的载物台的涂布装置中，特别是在载物台是大型的情况下，适当地分解装置，进而容易进行组装后的调整作业。在本发明的基板处理装置中，相对...

本发明涉及一种基板处理系统及用于该系统的GUI装置，即使在复杂且大型的系统中也能够容易理解地显示基板处理系统的各部分的状态。本发明所涉及的GUI装置是用于具有多个暂时接受基板的接受部的基板处理系统的GUI装置，具备：信息获取部，获取各个...

本发明的课题在于提供一种即使在衬底的背面成膜薄膜也能够确实地检测所述背面的损伤的热处理方法及热处理装置。本发明由反射率测定部(350)测定半导体晶圆(W)的背面的反射率。基于所测定的反射率调整相机(322)的摄像参数。摄像参数包含相机(...

本发明提供一种能精度良好地检测腔室有无泄漏的衬底处理装置，及衬底处理装置的泄漏判定方法。本发明是一种将收容在腔室的衬底加热的衬底处理装置的泄漏判定方法。所述泄漏判定方法具备：加热步骤，在腔室(6)内对半导体晶圆(W)进行加热处理；搬出步...

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。通过对一次侧的压力进行监视，能够将对基板进行不适当的清洗处理防止于未然。控制部(161)对向按压用致动器(89)的输入信号进行操作，对按压进行调节，借助按压机构使刷子(9)作用于基板(W)的上...

本发明提供一种能够在抑制成本的同时提高检测精度的基板处理装置及刷子的脱落检测方法。由于检测部(DU)检测到最大压入高度(H3)，所以控制部能够判断成刷子(99)已经脱落。由于检测部(DU)是基于按压机构(81)的动作检测到达了最大压入高...

本发明涉及一种向基板的下表面喷射流体而将基板在浮起状态下保持为水平姿势，并在基板的上表面涂布处理液的涂布装置，提供能够应对基板尺寸不同的多种基板的技术。本发明所涉及的涂布装置利用保持部保持基板的周缘部，并利用浮起机构向基板下表面中央部喷...

本申请提供衬底处理装置。衬底处理装置(100)具备处理部(1)、第1排液配管(12)、多个第2排液配管(14)、切换单元(13)和控制部(102)。处理部使用第1药液、漂洗液及第2药液，依次执行第1药液处理、漂洗处理及第2药液处理。从处...

本发明提供一种基板处理装置，其具备：保持处理基板组的基板保持部、从被基板保持部保持的处理基板组中抽出分割基板组并进行输送的第二输送机构、使利用第二输送机构进行输送的分割基板组的姿态一并从铅垂变换为水平的水中姿态变换部、从变换为水平姿态的...

本发明涉及泵控制参数的调整方法、计算机程序、记录介质、喷出装置以及涂布装置，将用于从泵向喷嘴送出处理液的泵控制参数进行最优化，以使能够在实际的喷出动作中得到与目标一致的特性。本发明的泵控制参数的调整方法包括：调整工序，临时设定控制参数，...

本发明的基板清洗装置具备基板保持部、下表面刷、第1液体喷嘴及第2液体喷嘴。基板保持部以水平姿势保持基板。下表面刷构成为能够在用于清洗基板的处理位置与在上下方向上重叠于由基板保持部保持的基板的待机位置之间移动。另外，下表面刷构成为能够绕上...

本发明的目的在于，在腔室的内部空间内，在以衬底保持部保持着半导体晶圆等衬底的状态下，执行基于加热气体的衬底的加热及衬底的周缘部的处理的衬底处理装置中，一边抑制用来获得加热气体的加热机构的热影响一边高精度地观察衬底的周缘部。在所述发明的衬...