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【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种通过对处理液施加喷出压力而从喷嘴喷出处理液的技术。此外,作为从喷嘴喷出处理液的对象物,例如包括半导体基板、光掩模用基板、液晶显示用基板、有机el显示用基板、等离子体显示用基板、fed(field emission display:场致发射显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板等。
技术介绍
1、如日本特开2011-005465号公报(专利文献1)以及日本特开2020-040046号公报(专利文献2)所示,在将从喷嘴喷出的处理液涂布在基板上的情况下,施加于处理液的喷出压力对涂布于基板上的处理液的厚度造成较大的影响。因此,在专利文献1中,将喷出压力的波形分割成多个区间,基于各区间的波形的斜率,评价喷出压力是否处于容许范围。另外,在专利文献2中,对于上升区域、稳定喷出区域等各区域,谋求与喷出压力关联的控制参数的最优化。即,在专利文献1和专利文献2中,通过在多个区间或者区域的每一个中评价喷出压力的波形,能够进行喷出压力的高精度的评价。
2、在上述现有技术中,喷出压力的评价是基于在与实际涂布基板的喷出动作中的位置不同的位置(例如维护位置)上定位喷嘴的状态下所获取的、喷出压力的测量结果进行的。因此,评价时的喷出条件与实际的喷出动作时的喷出条件未必一定相同。特别是,在其差异较大的情况下,在使用基于评价结果而最优化后的控制参数对基板进行涂布时,可能产生不一定按照目标特性进行喷出的问题。在这一点上,上述现有技术还有改良的余地。
技术实现思路
1、本专利技术
2、本专利技术的一个方式是一种泵控制参数的调整方法,该泵控制参数用于将由泵送出的处理液从喷嘴向基板喷出的喷出动作,其中,包括:调整工序,临时设定所述泵控制参数,从所述泵送出所述处理液,获取表示对被送出的所述处理液赋予的喷出压力随时间的变化的喷出压力曲线,通过使用了回归模型的机器学习来调整所述泵控制参数,以使所获取的所述喷出压力曲线接近预先设定的目标曲线;基于所调整的所述泵控制参数使所述泵工作,执行所述喷出动作,获取所述喷出压力曲线的工序;设定与使用所调整的所述泵控制参数在所述调整工序中获取的所述喷出压力曲线与在所述喷出动作中获取的所述喷出压力曲线的差分对应的偏移量的工序;以及再调整工序,临时设定所述泵控制参数,从所述泵送出所述处理液,获取所述喷出压力曲线,通过所述机器学习来再调整所述泵控制参数,以使在所获取的所述喷出压力曲线加上所述偏移量后的曲线接近所述目标曲线。
3、另外,本专利技术的另一个方式是一种喷出装置,其执行向基板喷出处理液的喷出动作,其中,具有:喷嘴,喷出所述处理液;泵,向所述喷嘴送出所述处理液;检测部,检测对由所述泵送出的所述处理液赋予的喷出压力;以及控制部,基于规定的泵控制参数来控制所述泵。而且,所述控制部基于所述检测部的检测结果求出表示对所述送出的所述处理液赋予的喷出压力随时间的变化的喷出压力曲线,执行上述专利技术的泵控制参数的调整方法使所述泵控制参数最优化。
4、在这样构成的本专利技术中,在调整工序中,进行使用了临时设定的泵控制参数的处理液的送出和基于此时的喷出压力曲线的检测结果的泵控制参数的调整。由此,在此时的喷出条件下使泵控制参数最优化。另一方面,这样最优化后的泵控制参数在实际的喷出动作中也未必一定最佳。
5、因此,在本专利技术中,使用调整后的泵控制参数执行喷出动作,求出此时获取的喷出压力曲线与目标曲线的差分作为偏移量。然后,在再调整工序中,对实测出的喷出压力曲线加上偏移量。由此,在加上了偏移量的状态下对喷出压力曲线进行评价并调整泵控制参数,能够进行考虑了调整工序以及再调整工序中的喷出条件与实际的喷出动作中的喷出条件的差异的最优化。即,通过执行这样的再调整工序,能够将实际的喷出动作中的喷出压力曲线与目标曲线相匹配。
6、如上所述,根据本专利技术,能够将用于从泵向喷嘴送出处理液的泵控制参数进行最优化,以使能够在实际的喷出动作中得到与目标一致的特性。
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1.一种泵控制参数的调整方法,该泵控制参数用于将由泵送出的处理液从喷嘴向基板喷出的喷出动作,其中,
2.如权利要求1所述的泵控制参数的调整方法,其中,
3.如权利要求1或2所述的泵控制参数的调整方法,其中,
4.如权利要求3所述的泵控制参数的调整方法,其中,
5.如权利要求3所述的泵控制参数的调整方法,其中,
6.如权利要求1或2所述的泵控制参数的调整方法,其中,
7.如权利要求1或2所述的泵控制参数的调整方法,其中,
8.一种计算机程序,其中,使对执行将由泵送出的处理液从喷嘴向基板喷出的喷出动作的喷出装置进行控制的计算机执行以下工序:
9.一种计算机程序,其中,使对执行将由泵送出的处理液从喷嘴向基板喷出的喷出动作的喷出装置进行控制的计算机执行以下工序:
10.如权利要求9所述的计算机程序,其中,
11.一种计算机可读记录介质,其中,
12.一种喷出装置,执行向基板喷出处理液的喷出动作,其中,
13.一种涂布装置,其中,
14
15.如权利要求14所述的涂布装置,其中,
...【技术特征摘要】
1.一种泵控制参数的调整方法,该泵控制参数用于将由泵送出的处理液从喷嘴向基板喷出的喷出动作,其中,
2.如权利要求1所述的泵控制参数的调整方法,其中,
3.如权利要求1或2所述的泵控制参数的调整方法,其中,
4.如权利要求3所述的泵控制参数的调整方法,其中,
5.如权利要求3所述的泵控制参数的调整方法,其中,
6.如权利要求1或2所述的泵控制参数的调整方法,其中,
7.如权利要求1或2所述的泵控制参数的调整方法,其中,
8.一种计算机程序,其中,使对执行将...
【专利技术属性】
技术研发人员:冈本悟史,木村崇也,安陪裕滋,
申请(专利权)人:株式会社斯库林集团,
类型:发明
国别省市:
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