本发明的目的在于提供一种能避免因处理液的漏液引起的不良影响而稳定地进行衬底处理的衬底处理装置。在所述发明的衬底处理装置中，腔室以由底壁、从底壁的周围立设的侧壁、及覆盖侧壁的上端部的顶壁覆盖内部空间的方式构成。从所述底壁朝铅直上方立设多个...

本发明的目的在于，在具备通过动力传递部将由电动机产生的旋转驱动力传递到衬底保持部的旋转机构的衬底处理装置中，提高所述旋转机构的保养性。在所述发明的衬底处理装置中，腔室具有：搬送用开口，用来在腔室的外部与衬底保持部之间沿着搬送路径搬送衬底...

在对形成有红外线穿透的保护层的基板(9)进行检查的基板检查装置(1)中，设置可见光照射部(13)和红外线照射部(14)。拍摄部(11)同时从基板(9)接收可见光和红外线，获取用于检查基板(9)的检查图像。其中，相较于由拍摄光学系统(12...

本发明提供一种不使用介电电泳用流路就能够评价电极对于流路的性能的技术。流路芯片包含基板(21)、主流路(31)、液体贮存部(40)、一对主电极(33a、33b)以及一对检查用电极(43a、43b)。主流路(31)配置在基板(21)的上表...

本发明提供一种抑制对涂布膜产生干燥不均的技术。减压干燥装置(1)包括：腔室(10)、作为销抵接部的一例的支撑销(22)、作为宽幅部的一例的支撑板(21)、作为窄幅部的一例的驱动轴(23)、以及排气部。腔室(10)收容基板(9)。支撑板(...

本发明提供一种向对象物上照射调制光束的光学装置以及三维造型装置，简化投影光学系统的结构并增大向光调制器的投入光量。光学装置的照明光学系统构成为，通过对入射光的长轴方向上的强度分布从高斯分布进行变换，从而使光调制器的调制面中的整形光束的长...

本发明提供一种实现从悬浮液分离特定种类的电介质粒子的分离作业的稳定化的流路芯片和分离系统。流路芯片(10)具备：基体(10a)，其具有导入悬浮液(L1)的入口(21)和从入口(21)导入的悬浮液(L1)流过的流路(30)，悬浮液(L1)...

本发明提供能够进行更适当的异常处理的技术。基板处理方法具有设定工序、基板处理工序、检测工序(S1)以及第一异常处理工序(S4)。在设定工序中，将用于规定对基板的一系列处理的复数个处理内容中的一个处理内容以与复数个处理内容中的各个处理内容...

本发明提供一种能够抑制判断为合格品的粒状物彼此接触的技术。粒状物印刷装置具备：搬送机构，保持粒状物并沿搬送路径搬送粒状物；印刷部，在搬送机构的搬送路径上，对粒状物的表面进行印刷；排出部，向粒状物印刷装置的外部搬送经印刷部印刷后的粒状物，...

本发明提供基板处理装置，即使在将盖部浸渍于处理液的状态下供给气泡也能够抑制处理的均匀性降低。将基板(W)浸渍在贮存于处理槽(10)的处理液中而进行表面处理。处理槽(10)的上部开口被第一盖体(81)和第二盖体(82)覆盖。在第一盖体(8...

本发明提供回吸方法及衬底处理装置。回吸方法是具备喷出喷嘴(5)、处理液供给配管(121)、和虹吸方式的回吸机构(92)的衬底处理装置(100)的回吸方法。喷出喷嘴(5)朝向衬底(W)喷出处理液。处理液供给配管(121)使处理液流通至喷出...

本发明的课题在于，在使用3个以上抵接部件的定心装置及使用所述定心装置的衬底处理装置中，提高定心精度，且所述抵接部件设置成在水平面内包围载置着周缘部设置着缺口部的圆板状的衬底的衬底支撑部。在所述发明中，3个以上的抵接部件具有能够与衬底的端...

本发明提供一种能够适当地进行检查对象的外观检查，而不依赖于边缘的提取处理或大致形状提取处理的精度的技术。特征量提取部(42)针对从多个方向拍摄检查对象的片剂(9)而得到的第一图像(51)～第四图像(54)，分别提取由多个维度的矢量表示的...

本发明提供一种能够在抑制基板的消耗的同时根据实际向基板喷出处理液的环境适当地调整喷出控制参数的技术。在第一调整工序(S1)中，基于进行模拟涂布时的第一压力波形对喷出控制参数进行调整。在第三调整工序(S3)中，基于按照通过第一调整工序(S...

本发明提供能够抑制基板的消耗的同时对吐出控制参数进行再调整的技术。在步骤S6中，评价通过步骤S5的实际涂布获取的实际涂布压力波形(Wr1)是否与第一理想波形(Wt1)相同。当在步骤S6中评价为实际涂布压力波形(Wr1)与第一理想波形(W...

本发明提供一种对基板进行处理的基板处理装置，其包括：分批式处理部，其将多张基板一并处理；单片式处理部，其处理一张基板；姿势变换部，其将通过上述分批式处理部完成处理的上述多张基板在被纯水濡湿的状态下变换姿势；第一搬送部，其将通过上述分批式...

本发明的基板处理方法具有：液膜形成工序，将处理液供给至形成有图案的基板的表面，在所述基板的表面形成所述处理液的液膜，所述处理液是使升华干燥用处理剂液化而成的，所述升华干燥用处理剂是使彼此不同的第一升华性物质以及第二升华性物质以共晶组成或...

本发明提供能够一边抑制与升降器的干涉一边向基板的表面均匀地供给气泡的基板处理装置。在处理槽的内部形成朝向上方的处理液的层流，基板(W)浸渍于该处理液中。在处理槽的内部配置有八根气泡供给管(51)，这八根气泡供给管(51)从基板的下方向处...

本发明关于一种基板处理方法及基板处理装置。对基板(W)进行处理的基板处理方法具备切换工序与处理工序。切换工序中，在阴离子界面活性剂与阳离子界面活性剂之间切换添加剂。处理工序中，将蚀刻液供给至基板(W)。处理工序中，将由切换工序选择的添加...

本发明涉及基板处理装置及基板处理方法。本发明提供一种在使喷嘴与喷嘴挡板一体地下降到接触位置时，能够防止喷嘴挡板压碎存在于基板的上表面的异物的基板处理装置及基板处理方法。本发明的基板处理装置，一边以所谓的浮起方式相对于喷嘴相对地搬运基板，...