基板处理装置及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及基板处理装置及基板处理方法。本发明专利技术提供一种在使喷嘴与喷嘴挡板一体地下降到接触位置时，能够防止喷嘴挡板压碎存在于基板的上表面的异物的基板处理装置及基板处理方法。本发明专利技术的基板处理装置，一边以所谓的浮起方式相对于喷嘴相对地搬运基板，一边向基板的上表面涂敷处理液，所述基板处理装置具有：喷嘴挡板，在喷嘴相对于基板相对地行进的喷嘴行进方向上配置于喷嘴的前方侧并与喷嘴一体地移动；升降部，使喷嘴和喷嘴挡板一体地升降；以及控制部，控制升降部，以执行升降部使喷嘴和喷嘴挡板一体地下降并使喷嘴定位于接触位置的接触动作。并且，在接触动作时，从上方观察，保持面和喷嘴挡板彼此分离。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及从喷嘴供给处理液并将处理液涂敷于液晶显示装置、有机el(electroluminescence：电致发光)显示装置等fpd(flat panel display：平板显示器)用玻璃基板、半导体晶片、光掩模用玻璃基板、滤色片用基板、记录盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、半导体封装用基板(以下，简称为“基板”)的基板处理技术。

技术介绍

1、已知一种基板处理装置，其通过一边使具有狭缝状的喷出口的狭缝喷嘴相对于基板相对移动一边从狭缝喷嘴喷出处理液，来将处理液涂敷于基板。例如在日本特开2011-212544号公报所记载的装置中，在载物台的载物台面的上方使狭缝喷嘴位于规定的涂敷位置的状态下，卡盘一边从下方侧保持基板的一部分，一边以所谓的浮起方式使基板移动。然后，基板处理装置一边浮起搬运基板，一边向基板的上表面供给并涂敷处理液。

2、在该基板处理装置中，考虑到异物等(以下，简称为“异物”)在基板的上表面侧向上方突出的情况，设置有喷嘴挡板。即，如果在存在异物的状态下执行处理液的涂敷，则狭缝喷嘴与异物碰撞，从而处理液的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板处理装置，向基板的上表面涂敷处理液，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

5.根据权利要求2至4中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

6.一种基板处理方法，其特征在于，

【技术特征摘要】

1.一种基板处理装置，向基板的上表面涂敷处理液，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，...

【专利技术属性】
技术研发人员：大宅宗明，北村翔也，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：