本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。在利用挡板将搬入搬出口打开的状态下，将衬底搬入单元壳体内。在衬底已被搬入到单元壳体内的状态下，挡板进行从打开状态切换为关闭状态的挡板关闭动作。在单元壳体内，利用下表面刷将已搬入的衬底的下表面洗净...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明是利用上侧保持装置保持衬底的外周端部，使用下表面刷将该衬底的下表面中央区域洗净。在将衬底的下表面中央区域洗净后，衬底从上侧保持装置下降，被交递到下侧保持装置的吸附保持部。使用处理液将由吸附...

在基板处理装置1中，分度块B1、研磨块B2、涂布块B3及接口块B5以该顺序在水平方向配置成直线状。涂布块B3具有在基板W的正面涂布抗蚀剂的涂布单元PR，研磨块B2具有研磨基板W的背面的研磨单元22。研磨单元22具备：保持旋转部，其在将基...

本发明提供一种既能避免过度降低生产效率，又能避免在冷却部的冷却面过度蓄积液态溶剂的减压干燥装置及减压干燥方法。减压干燥装置(1)用于使涂敷于基板(9)的上表面的涂敷膜(90)干燥。腔室(10)容纳基板。支撑部(20)在腔室(10)内支撑...

本发明提供一种既避免降低生产效率，又防止因在冷却部的冷却面过度蓄积液态溶剂而导致的不良影响的减压干燥装置。一种减压干燥装置(1)，使涂敷于基板(9)的上表面的涂敷膜干燥，其中，具有：腔室(10)，容纳基板；支撑部(20)，在腔室内支撑基...

本发明涉及一种基板处理方法及基板处理系统。基板处理方法具备：旋转工序，利用保持旋转部使基板W以水平姿势旋转；研磨工序，使具有分散有磨粒的树脂体的研磨具与旋转的基板W的背面接触，通过化学机械研磨方式研磨基板W的背面；加热工序，在进行研磨时...

位置检测装置的存储部111存储模板组。该模板组包括选自基准模板和复数个偏移模板中的两个以上的模板，所述基准模板是根据所述图案的CAD数据即基准CAD数据生成的模板，所述复数个偏移模板是分别改变所述基准模板所包括的图案要素的线宽而形成的模...

本发明的基板清洗装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；处理部，其处理基板的表面或背面；以及保持控制部，其在通过处理部处理基板的期间控制基板保持部，以使基板的中心部分向上方或下方位移。

本发明提供一种基板处理方法，用以处理基板，前述基板具有：第一主表面，具有第一周缘部；第二主表面，与前述第一主表面为相反侧的面且具有第二周缘部；以及外周端，连接前述第一周缘部以及前述第二周缘部。基板处理方法包含：保护膜形成工序，对前述第一...

本发明的目的在于能通过使刷子作用于衬底的面瞬时依循衬底的倾斜，不对衬底的洗净面造成损伤而进行洗净。本发明涉及一种刷子及具备所述刷子的衬底处理装置。在洗净部(77)位于衬底的周缘部的情况下，根据周缘部的倾斜，外周刷(515)相对于中央刷(...

本发明的基板清洗装置具备：一对上侧保持装置，其保持基板的外周端部；下表面刷，其与基板的下表面接触而将基板的下表面清洗；以及控制装置，其在下表面刷清洗基板的下表面中央区域的期间，使向上方推压清洗工具的上推力变化。

本发明涉及一种基板处理方法及基板处理装置及处理液。基板处理方法具备处理液供给工序、固化膜形成工序及升华工序。在处理液供给工序中，将处理液供给至基板。处理液包含升华性物质及溶剂。在固化膜形成工序中，溶剂自基板上的处理液中蒸发。在固化膜形成...

本发明的基板处理装置(100)具有基板保持部(120)、处理液供给部(130)、成分存在量测定部(140)以及控制部(22)。控制部(22)包括：时间变化获取部(22b)，基于在处理液供给部(130)向基板(W)供给处理液的期间由成分存...

本发明的目的在于能通过考虑刷子的面内的压力分布，而提高衬底的面内的清洁度的均一性。本发明涉及一种刷子及具备所述刷子的衬底处理装置以及刷子的推压力控制方法。控制部以基于面内压力分布检测部(SPD)的压力分布，根据衬底的径向上的刷子(99)...

基板处理装置包含：基板保持构件，将基板保持为规定的处理姿势；聚合物膜形成构件，将含有光致产酸剂以及聚合物的聚合物膜形成于被所述基板保持构件保持的基板的第一主表面，光致产酸剂通过光的照射而生成酸；光射出构件，射出光，并对被所述基板保持构件...

本发明的基板处理装置(100)具有：基板保持部(120)、处理液供给部(130)、成分存在量测定部(140)以及控制部(22)。控制部(22)包括：时间变化获取部(22b)，基于在从处理液供给部(130)开始向基板(W)供给处理液之后至...

提供一种基板处理方法，用以处理具有第一主表面以及第一主表面的相反侧的第二主表面的基板。以使基板的第一主表面的周缘区域露出并覆盖内侧区域的方式形成聚合物膜，该内侧区域在第一主表面中比周缘区域靠内侧且与周缘区域邻接(聚合物膜形成工序)。在聚...

本发明提供一种对涂敷膜的干燥不均进行抑制的减压干燥装置及减压干燥方法。减压干燥装置(1)具备腔室(10)、支撑部(20)、冷却部(40)、第一升降部(100)、减压机构(30)和控制部(80)。支撑部(20)在腔室内支撑基板(9)。冷却...

本发明提供使抗蚀剂的剥离能力提高的技术。基板处理方法具有：保持工序(S1)，使保持部(1)保持设置有抗蚀剂的基板(W)；第一等离子体处理工序(S2)，对被保持部(1)保持的基板(W)照射等离子体；液膜形成工序(S3)，在进行第一等离子体...

控制部将在清洗处理部中在清洗处理的后半阶段使用过的排出液供给到清洗处理部，将在清洗处理部中在清洗处理的后半阶段使用过的排出液供给到清洗处理部。将在清洗处理部中使用过的排出液在清洗处理部中再利用，将在清洗处理部中使用过的排出液在清洗处理部...