使处理液的温度以及/或者流速分别尽速地到达至期望的值。循环装置具备：第一配管，被用于供给液体，液体从将液体作为贮存的对象的贮存槽流入；加热器，设置于第一配管，且将液体作为加热的对象；泵，设置于第一配管，将液体作为压出的对象；第一阀，在第...

提供一种可以高精度对监视对象的状态进行监视的技术。基板处理装置具备腔室(10)、基板保持部(20)、相机(70)及控制部(9)。基板保持部(20)在腔室(10)内保持基板(W)。相机(70)拍摄腔室(10)内的包含监视对象物的拍摄区域，...

在基板处理装置(100)中，控制部(102)基于第一流量计(112b)的测量结果计算从第一成分液体供给部(112)经由第一配管(112a)而供给至贮存槽(116)的第一成分液体的第一供给量，基于第二流量计(114b)的测量结果计算从第二...

本发明的基板处理装置具有：排气路径，被施加规定的排气力；以及基板处理单元，构成为能够共享排气路径；预先确定组相关关系作为复数个处理信息间的相关关系，复数个所述处理信息分别与基板处理单元对应且表示与供气以及排气相关的动作或者状态；用于管理...

为了提供一种可迅速变更发出的光的波长的光源装置，本发明的光源装置具备光放大器、分光元件、空间相位调制元件及控制部。光放大器放大并发射光。分光元件根据波长而使来自光放大器的光分光。空间相位调制元件具有基底部、反射由分光元件分光后的光的多个...

本发明涉及一种基板处理方法与处理液评价方法。基板处理方法用于处理形成有图案P的基板W。基板处理方法具备处理液供给步骤、固化膜形成步骤及升华步骤。在处理液供给步骤中，将处理液L供给至基板W。处理液L包含升华性物质与溶剂。在固化膜形成步骤中...

本发明的目的在于提供一种高效地更换残留的处理液的技术。在填充新的处理液之前，提高残留于配管的处理液的温度。温度高的液体粘度降低而容易从配管排出。残留的处理液被排出后，重新贮存于贮存槽的处理液在外部路径循环。

基板处理装置(100)具备：腔室(112)；基板保持部(120)，其在腔室(112)内保持基板(W)，并使基板(W)旋转；处理液供给部(130)，其向基板(W)的上表面(Wt)供给处理液；近红外线光源(140)，其利用近红外线对腔室(1...

本发明提供一种能够抑制液滴的影响而以更高的精度对监视对象物进行监视的技术。基板处理装置具有腔室(10)、基板保持部(20)、喷嘴(30)、摄像头(70)以及控制部(9)。基板保持部(20)在腔室(10)内保持基板(W)。喷嘴(30)朝向...

本发明提供一种能够减少基板的搬运进入待机状态的基板处理装置和基板处理方法。在将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部和进行后工序的处理的后处理部与两台曝光装置连接的接口部，配置有复数个搬运机械手和复数个模块。接口部有向一台曝光装置搬...

本发明涉及一种衬底保持装置、衬底处理装置及夹盘销的位置判定方法。本发明提供一种能够以高精度判定夹盘销的位置状态的技术。衬底保持装置2具备多个夹盘销(22)、第1旋转磁铁(33a)、第1磁传感器(40a)、及控制部(90)。多个夹盘销(2...

本发明的控制辅助装置具备：对应关系获取部，其获取复数个模型识别信息与复数个参数值的对应关系，复数个所述模型识别信息对复数个判定模型分别进行识别，复数个所述判定模型根据表示与基板处理装置的基板处理相关联的动作或状态的处理信息，分别判定结构...

本发明提供一种控制辅助装置，决定用于控制基板处理装置的供气排气系统中的结构构件的控制参数的值即参数值，控制辅助装置具有：对应关系获取部，获取复数个模型识别信息与复数个参数值之间的对应关系，复数个所述模型识别信息用于分别识别复数个判定模型...

根据规程在框体内对基板进行处理时，控制部通过照相机取得调整完毕拍摄图像。异常检测部基于调整完毕拍摄图像检测对象构件的异常。由于针对与规程的工序相应的每个对象构件调整拍摄条件，因此调整完毕拍摄图像为能适合针对每个对象构件的异常的检测的图像...

本发明提供一种对基板进行清洗处理的基板处理装置，处理部的上部和下部分别具有多个处理单元。处理部具备至少一个塔单元，所述塔单元中，所述上部具有至少一个正面清洗单元和至少一个反面清洗单元，所述下部具有至少一个正面清洗单元和至少一个反面清洗单...

本发明的基板处理方法以及基板处理系统，在保持为大致水平姿势的基板的表面形成由包含超精细气泡的液体所形成的液膜，向容纳形成有液膜的基板的腔室内导入非超临界状态的处理流体，并对处理流体进行加压而使处理流体达到超临界状态，通过处理流体置换基板...

本发明提供一种排程建立程序生成方法、排程建立程序生成装置、排程建立装置、记录媒体、衬底处理装置及衬底处理系统。排程建立程序生成方法通过强化学习生成排程建立程序(PL2)，该排程建立程序(PL2)用于建立衬底处理装置(WP)中所包含的多个...

本发明涉及一种对基板照射光来进行图案的描绘的描绘装置，目的在于，容易进行描绘头的维护。由第二头支承部(62)支承的第二描绘头组(402)和由第一头支承部(61)支承的第一描绘头组(401)在扫描方向上邻接地配置。第二描绘头组(402)向...

本发明涉及一种学习模型产生装置、学习模型产生方法及存储着学习模型产生程序的计算机可读媒介。学习模型产生装置具备：模型信息显示部，可选择地显示在因特网上公开且接口相同的多个学习模型；模型选择部，从所显示的多个所述学习模型中选择至少1个所述...

本发明提供一种能够抑制氢混入到从阳极侧排出的氧中的电极结构体及水电解装置。该电极结构体具有电解质膜(51)、位于电解质膜(51)的阳极侧的复数个阳极催化剂粒子(611)、位于电解质膜的阴极侧的复数个阴极催化剂粒子、以及位于电解质膜(51...