本发明提供一种清洗方法、清洗装置及涂敷装置，能够良好地从脱气单元排出高粘度的处理液。当清洗对高粘度的处理液进行脱气的脱气单元(16)时，首先，向脱气单元(16)通入粘度低于处理液的粘度的第一稀释液(第一液体通入工序)。然后，在第一液体通...

本发明的目的在于提供一种能够合适地搬运基板的基板处理装置。基板处理装置(1)具有容纳架载置部(3)、搬运机构(4)、控制部(9)。容纳架载置部载置容纳架(C)。容纳架具有在上下方向(Z)上排列的多个搁板(22)。搁板分别以水平姿势载置一...

一种抗蚀剂去除方法以及抗蚀剂去除装置，所述抗蚀剂去除装置(1)的加热板(4)配置于处理空间(20)且被加热至规定的温度。多个升降销(51)在处理空间(20)中保持在上表面(91)上具有抗蚀剂的图案的基板(9)，所述抗蚀剂在表面形成有变质...

本发明提供一种液中姿态转换装置，转换多张基板的姿态。所述装置包括：浸渍槽，其贮存处理液；反转卡盘，其保持多张基板；开闭驱动机构，其将反转卡盘驱动到释放位置和保持位置，该释放位置用于在与反转卡盘之间交接多张基板，该保持位置用于通过反转卡盘...

基板处理方法具有第一工序至第六工序。保持基板(第一工序)。开始利用相机进行拍摄，从而生成拍摄图像(第二工序)。开始从第一喷嘴向基板喷出处理液(第三工序)。停止从第一喷嘴喷出处理液，开始从第二喷嘴喷出处理液(第四工序)。基于针对拍摄图像的...

一种处理基板的基板处理装置，具备以下要素：批量式处理部，其以铅垂姿势的状态一并处理多张基板；单张式处理部，其以水平姿势的状态处理一张基板；姿势变换部，其对于在所述批量式处理部结束处理的所述多张基板，从铅垂姿势变换为水平姿势；第一搬运部，...

基板处理装置(1)的载置单元(40)设置于处理区块(20)与分度器区块(10)之间的连接部。载置单元(40)保持从分度器区块(10)朝中央机械手(22)传递的未处理的基板(9)。此外，载置单元(40)保持从中央机械手(22)朝分度器区块...

本发明是关于一种衬底处理方法及衬底处理装置。该衬底处理方法包括：混合升华性物质供给工序，将混合升华性物质供给到衬底的正面，该混合升华性物质是将具有升华性的第1升华性物质、具有比所述第1升华性物质低的蒸气压且具有升华性的第2升华性物质、及...

本发明涉及一种处理衬底的衬底处理方法及衬底处理装置。本发明中，将凝固点低于吸附物质的凝固点的干燥前处理液供给至衬底(W)的表面，使吸附物质吸附于图案(P1)的表面。冷却衬底(W)上的干燥前处理液，由此使衬底(W)上的干燥前处理液的一部分...

细胞电位测定装置(1)具有滴加细胞悬液的测定面(1a)。细胞电位测定装置(1)具备多个作用电极(10)和参照电极(20)。多个作用电极(10)在测定面(1a)中的作用区域(R1)内二维排列。参照电极(20)设置于测定面(1a)中的作用区...

本发明的目的在于提升基板处理装置以及基板处理系统的各个处理单元中的处理的精度。基板处理装置具有多个处理单元、搬运单元、多个传感器部、存储部以及一个以上的控制单元。多个处理单元根据规定处理的条件的规程对基板实施处理。搬运单元将一组基板中的...

本发明的基板处理方法用以处理形成有图案(P)的基板(W)。图案(P)包含复数个凸部(A)与复数个凹部(B)。基板处理方法包括第1涂布步骤、第1硬化步骤及第1热分解步骤。第1涂布步骤中，对基板(W)涂布第1干燥辅助液(F1)。第1干燥辅助...

本发明关于一种基板干燥方法与基板处理方法。基板干燥方法用以干燥形成有图案(P)的基板(W)。基板干燥方法包括涂布步骤、硬化步骤及热分解步骤。涂布步骤中，对基板(W)涂布干燥辅助液(F)。干燥辅助液(F)包含紫外线硬化性材料。硬化步骤中，...

在基板处理装置中，利用多个搬送装置在预先设定的搬送路径上从起点朝向终点搬送收纳多个基板的载体。在设置于搬送路径的一部分的处理部中，利用液处理单元对收纳于载体的多个基板进行预先设定的处理。在搬送路径设置有在铅垂姿势与水平姿势之间变更载体的...

本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，能够一边抑制基板上的金属膜被蚀刻，一边选择性地成膜作为保护膜的自组装单分子膜。本发明的基板处理方法对在表面具有形成有金属膜(1)的金属膜形成区域以及未形成金属膜(1)的金属膜非形成区域的基板进...

一种基板处理装置，具有控制装置，所述控制装置通过控制旋转马达来使从动部与可动夹具一起以基板的旋转轴线为中心旋转，并且通过控制罩升降单元来使驱动部与防溅罩一起沿铅垂方向移动。从动部及驱动部在相互离开的状态下，沿水平或铅垂的相对向方向相对。...

基板处理装置具备基板搬入搬出部、以及以从基板搬入搬出部沿第一方向并列地延伸的方式设置的搬送部及处理部。搬送部从基板搬入搬出部向第一方向搬送收纳未处理的基板的载体。处理部包含多个处理槽。在处理部中，将收纳有多个基板的载体向与第一方向相反的...

本发明的学习装置具备：实验数据获取部，在以包含伴随时间的经过而变动的变动条件的处理条件，驱动通过将处理液供给至形成有覆膜的基板来处理基板的基板处理装置后，获取表示形成于基板上的覆膜的处理前后的膜厚差的处理量；第1压缩部，以维数减少的方式...

本发明的载体沿第一搬送路径被搬送。对该载体内的多张基板进行处理。与第一搬送路径的起点相邻地设置有第一待机部。第一待机部将收纳有未处理的多张基板的载体移交到第一搬送路径的起点。与第一搬送路径的终点相邻地设置有第二待机部。第二待机部接收收纳...

基板处理装置具备处理块、两个开闭器以及两个基板交接机器人。处理块具有基板入口及基板出口，在基板入口接收未处理的基板，并对基板进行预先设定的处理。处理后的基板被引导至基板出口。一方的开闭器在与基板入口对应的位置将收纳有未处理的基板的一前开...