本发明提供一种图像生成方法，在通过合成拍摄得到的多个图像来生成观察用图像的处理中能够降低存储器所需的存储容量。首先，通过分别缩小多个部分图像，生成多个缩小部分图像(S1)。接着，通过合成多个缩小部分图像，生成缩小合成图像(S2)。接着，...

本发明的目的在于提供一种可评价处理单元的动作中包含的高速运动的技术。首先，用事件照相机(70)拍摄处理单元的特定动作。由此，取得仅由亮度值有变化的像素的信息构成的事件数据(E)。接着，算出基于事件数据(E)的评价值。之后，基于算出的评价...

本发明提供一种对在表面上具有图案的基板进行检查的检查装置，该检查装置具有第一检查部(303)和第二检查部(305)。第一检查部(303)对基板的灰度图像即第一图像进行一次检查来检测缺陷候补。第二检查部(305)对基板中的包含该缺陷候补的...

本发明涉及一种衬底保持装置及具备衬底保持装置的衬底处理装置。在衬底保持装置中，所述装置包含以下要件。具备3个以上保持部，所述3个以上保持部分别包含旋转台、基座部及位置限制部，空出间隔配置在所述旋转台上的外周部。至少1个保持部具备：转动基...

本发明涉及一种定心装置、定心方法及衬底处理装置。提供一种以优异的产能及精度进行衬底的定心处理的定心技术及衬底处理装置。本发明中，在衬底支撑部的上表面，由水平面内位于第1基准位置的第1抵接部件、位于第2基准位置的第2抵接部件及位于第3基准...

本发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。在使刷抵接于衬底而进行洗净处理的衬底处理方法中，所述方法包含以下步骤。旋转步骤，使保持着衬底的旋转保持部绕铅直方向的轴芯旋转；外周缘抵接步骤，在所述衬底在水平面内旋转的状态下，使刷抵接于比所述轴...

本发明提供一种能够防止从腔室对衬底造成的金属污染的钝化方法及热处理装置。热处理装置的腔室由不锈钢形成。使腔室内减压之后，将臭氧导入到所述腔室内，并停止供气及排气而将臭氧封入在腔室内。在经过臭氧的半衰期以下的待机时间的期间，维持臭氧被封入...

比较简单地实现能够对基板连续地进行批量处理和单片处理的基板处理系统。根据本发明，通过利用中继装置将个别的批量处理装置与单片处理装置连结，对基板连续地进行批量处理和单片处理。这样构成的话，能够可靠地借用在个别的批量处理式装置和单片处理式装...

本发明涉及一种可缩短研磨具的调整所花费的时间的研磨具的调整方法、基板处理方法及基板处理装置。研磨具的调整方法包括：基板旋转工序，以水平姿势对具有非镜面状态的主表面的硅的虚设基板进行保持并使虚设基板绕铅垂轴旋转；以及调整执行工序，通过使具...

本发明涉及一种定心装置、定心方法及衬底处理装置。提供一种具有优异的设计自由度的定心技术，以及使用所述定心技术的衬底处理装置。本发明中，在衬底支撑部的上表面，由水平面内位于第1基准位置的第1抵接部件、位于第2基准位置的第2抵接部件、及位于...

本发明提供一种对发生于形成有涂覆膜的基板的四角附近的干燥不均进行抑制的减压干燥装置及方法。减压干燥装置(1)用于使涂覆于具有矩形状的基板(9)的上表面的有效区域(AE)的涂覆膜(90)干燥。减压干燥装置(1)包括容纳基板的腔室(10)、...

涉及通过热板从下方加热基板的加热装置和加热方法。一边在预先设定的交接位置稳定地接收基板之后，利用复数个吸附垫吸附基板，一边在适当加热位置对基板实施加热处理。无论基板翘曲状态如何，本发明利用上端位于交接位置的中间升降销来接收基板。因此，通...

本发明提供一种可更高精度地检测与护具相关的异常的技术。本发明的基板处理装置具备：基板保持部，其保持基板；液体喷嘴，其向由基板保持部保持的基板供给处理液；筒状的护具，其包围基板保持部，承接自基板的周缘飞散的处理液；护具升降机构，其使护具升...

本发明提供基板处理系统及清洗方法。基板处理系统(900)具备基板处理装置(100)、液供给装置(300)、第1供给管线(910)和第2供给管线(920)。基板处理装置(100)包括处理液配管(150)。液供给装置(300)向处理液配管(...

本发明提供基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)具备基板处理单元(10)、电解部(310)、超氧水储液箱(320)和富氢水储液箱(330)。基板处理单元(10)具有向基板(W)供给清洗液的喷嘴(44、54)。电解部(310)...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明是利用上侧保持装置保持衬底的外周端部，使用下表面刷将该衬底的下表面中央区域洗净。在该洗净时，处于上侧保持装置下方的下侧保持装置的吸附保持部旋转。将由上侧保持装置保持的衬底交递到下侧保持装置...

本发明关于处理衬底的衬底处理方法及衬底处理装置、与记录由衬底处理装置具备的控制装置执行的电脑程序的电脑可读取的记录媒介。本发明根据区间最终使用时刻，从多个处理区间中选择1个处理区间。区间最终使用时刻是属于相同处理区间的多个处理单元的单元...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置具备多个衬底洗净装置及主机械手。主机械手构成为能够针对各衬底洗净装置搬入及搬出衬底。衬底洗净装置具有处理室。在该处理室内，设置着使刷与衬底的下表面接触而将该衬底的下表面洗净的刷洗净部...

基板清洗装置包含下表面刷、支承部件、第1致动器及载荷检测部。下表面刷对基板的下表面进行清洗。支承部件支承下表面刷。第1致动器通过使支承部件升降而对从下表面刷向基板的载荷进行调整。载荷检测部设置在支承部件与第1致动器之间，检测支承部件与第...

本发明提供一种处理液供给装置及基板处理装置。处理液供给装置(200)具备储液箱(210)、泵(220)和第1连接配管(410)。储液箱(210)收纳处理基板(W)的处理液。泵(220)配置在储液箱(210)的正下方。第1连接配管(410...