基板清洗装置及基板清洗方法制造方法及图纸

基板清洗装置包含下表面刷、支承部件、第1致动器及载荷检测部。下表面刷对基板的下表面进行清洗。支承部件支承下表面刷。第1致动器通过使支承部件升降而对从下表面刷向基板的载荷进行调整。载荷检测部设置在支承部件与第1致动器之间，检测支承部件与第1致动器之间的载荷。或者，基板清洗装置取代载荷检测部而包含其他载荷检测部，其设置在下表面刷的刷主体与刷底座之间，检测刷主体与刷底座之间的二维载荷的分布。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及清洗基板的基板清洗装置及基板清洗方法。

技术介绍

1、为了对液晶显示装置或有机el(electro luminescence)显示装置等使用的fpd(flat panel display：平板显示器)用基板、半导体基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板或太阳电池用基板等各种基板进行多种处理而使用基板处理装置。为了对基板进行清洗而使用基板清洗装置。

2、例如，日本特开2022-103731号公报中记载了一种对基板的下表面进行清洗的基板清洗装置。在该基板清洗装置中，水平延伸的下表面刷保持部件由气缸支承。在下表面刷保持部件的一端部设有朝向上方延伸的旋转轴。在旋转轴的上端部安装有下表面刷。气缸对下表面刷保持部件施加朝向上方的力。在该情况下，下表面刷上升，与基板的下表面接触。由此，基板的下表面被清洗。

3、在下表面刷保持部件的另一端部的上方安装有载荷传感器。在气缸对下表面刷保持部件施加超过所支承的多个构成要素的合计重量的力的情况下，下表面刷保持部件的另一端部与载荷传感器抵接。此时，载荷传感器输出表示从本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板清洗装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，还包括：

3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，

4.一种基板清洗装置，其特征在于，包括：

5.根据权利要求4所述的基板清洗装置，其特征在于，

6.根据权利要求4或5所述的基板清洗装置，其特征在于，

7.根据权利要求4～6中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，

8.根据权利要求4～7中任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，

9.一种基板清洗方法，其特征在于，包含下述处理：

...

【技术特征摘要】

1.一种基板清洗装置，其特征在于，包括：

2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，还包括：

3.根据权利要求1或2所述的基板清洗装置，其特征在于，

4.一种基板清洗装置，其特征在于，包括：

5.根据权利要求4所述的基板清洗装置，其特征在于，

6.根据权利要求4或5所述的基板清洗装置，其特征在于，

7.根据权利要求4～...

【专利技术属性】
技术研发人员：冲田展彬，中村一树，冈田吉文，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：