在基板处理装置管理系统中从多个基板处理装置分别收集多个处理信息，该多个处理信息示出与基板的处理关联的动作或者状态。针对各个基板处理装置，基于多个处理信息间的不变的关系与从该基板处理装置所收集的多个处理信息，算出该基板处理装置的异常的程度...

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置包含：涂布处理部、交接部以及基板旋转部。搬入至基板处理装置的基板的上表面包含形成了电路图案或预定了电路图案的形成的有效区域、及除了所述有效区域以外的无效区域。在基板旋转部中，通过拍...

本发明提供一种相似度计算装置、语义表达生成装置、记录介质和相似度计算方法，提高单词间的相似度计算的精度。相似度计算装置具备：距离计算部，其计算与各个所述单词对应地定义的向量彼此的距离；以及判定部，其在所述向量彼此的距离为预先决定的距离以...

本发明提供一种可抑制搬运效率下降的基板处理装置及基板处理方法。在将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部及进行后工序的处理的后处理部与曝光装置加以连接的接口部，配置有多个搬运机器人及多个模块。在接口部中，执行将基板从前处理部向曝光装...

本发明涉及一种处理液供给方法以及基板处理装置。基板处理装置(1)具备：喷嘴(8)，其喷出处理液；配管(12)，其连接于喷嘴(8)；开闭阀(17)，其设置于配管(12)；以及回吸阀(18)，其设置于喷嘴(8)与开闭阀(17)之间的配管(1...

本发明提供一种对在表面上具有图案的基板进行检查的检查装置，该检查装置具有分类部(303)和输出部(304)。分类部(303)利用通过机器学习创建的已学习模型，按照缺陷以及虚报的种类对由针对拍摄基板而得到的被检查图像进行的一次检查而检测出...

本发明提供一种向基板照射光并描绘图案的描绘装置，在本发明的描绘装置(1)的描绘头罩(5)中，供气口(53)设置于在水平方向上与投影光学系统(45)相向的位置。另外，从供气部(6)向描绘头罩(5)的内部供给的气体通过供气口(53)。排气口...

在本发明的基板处理装置、基板处理系统及它们的支撑销的配置更换方法中，多个支撑销装卸自如地安装于第一板的上表面，并且第一板通过磁力而能够装卸地与设置于腔室内部空间内的第二板结合。通过将第一板向上方提起而将与第二板的结合解除，将第一板从腔室...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，该基板处理装置具备形成有狭缝状的吐出口的喷嘴块及控制部。控制部控制X方向驱动部及Z方向驱动部，由此在喷嘴块与基板之间的间隙充满有处理液的状态下，使喷嘴块在基板上移动。此时，在基板上涂布处理液。然...

本发明提供一种狭缝喷嘴、基板处理装置及基板处理方法，其在使刮刀相对于附着有处理液的狭缝喷嘴的前端部抵接的同时相对移动时，可抑制所述前端部的处理液痕的产生或量。本发明满足接触角条件。即，满足处理液相对于前端部的表面中与刮刀抵接的喷嘴侧抵接...

本发明的目的在于提供一种能够迅速调整衬底的搬送的热处理装置及热处理方法。本发明在处理腔室内通过来自卤素灯的光照射对半导体晶圆进行预备加热后，进行来自闪光灯的闪光照射的加热处理。在比处理腔室中的对于半导体晶圆的加热处理结束的时刻(t6)提...

本发明提供一种狭缝喷嘴及基板处理装置，其在使刮刀相对于附着有处理液的狭缝喷嘴的前端部抵接的同时相对移动时，可抑制所述前端部的处理液痕的产生或量。本发明具有对狭缝喷嘴的前端部的表面实施了疏液处理的表面处理区域。所述表面处理区域与通过刮刀相...

本发明涉及将由彼此平行地排列于沿着基板的主面的输送方向上的复数个输送辊输送的基板在第一姿势与第二姿势之间进行变更的姿势变更技术。本发明的基板姿势变更装置中，能实现输送辊的窄间距化。本发明将复数个输送辊分组为由在输送方向上彼此相邻的复数根...

本发明具备：处理腔室，具有用以处理基板的处理空间；支撑部，以水平姿势支撑基板且收容于处理空间；流体供给部，通过向处理腔室供给处理流体，在处理空间中使处理流体在固定方向流动；以及流体排出部，从处理腔室排出处理流体。支撑部具有与基板的下表面...

本发明的目的在于提供一种可按像素评价处理单元的动作偏差的技术。首先，通过多次拍摄处理单元的特定动作，取得多个动态图像(M)。接着，针对多个动态图像(M)中包含的多个帧图像(F)，通过光流法，按每个像素算出运动向量(V)。接着，在多个动态...

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具备：保持部，其以将外周的至少一部分呈圆形的基板的主面朝向上方的方式保持基板；喷嘴，其具有底部，该底部形成有在一个方向上延伸的喷出口；移动机构，其为了利用毛细管现象从喷嘴的喷出口向...

本发明的课题在于提供一种能够适当干燥衬底的衬底处理方法、衬底处理装置、处理液及处理液评估方法。本发明涉及一种衬底处理方法、衬底处理装置、处理液及处理液评估方法。衬底处理方法包括处理液供给工序、固化膜形成工序及升华工序。在处理液供给工序中...

三维造型装置(1)具有：层形成机构(12)，在造型空间(30)形成材料层；光学头(11)，向材料层照射光；以及头移动机构(13)，使光学头(11)在与材料层平行的头移动方向上移动。光学头(11)具有：光源；衍射型的光调制器，具有排列成直...

基板处理装置包括：刷，清洗由保持旋转部保持的基板；刷保持部，能够装卸地保持刷；臂，在前端部设置有刷保持部；刷回收部，从刷保持部回收刷；刷安装部，保管未使用的刷，将保管的未使用的刷安装于刷保持部；以及刷移动机构(升降机构及回转驱动部)，经...

本发明提供描绘装置(1)，其中，壳体(6)的内部空间(60)由阻碍气体流通的分隔面(54)上下分隔。比分隔面(54)更靠上侧的上部空间(61)容纳载物台(21)、描绘头(41)和载物台移动机构(22)。基台(5)设置于比分隔面(54)更...