基板处理装置及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术具备：处理腔室，具有用以处理基板的处理空间；支撑部，以水平姿势支撑基板且收容于处理空间；流体供给部，通过向处理腔室供给处理流体，在处理空间中使处理流体在固定方向流动；以及流体排出部，从处理腔室排出处理流体。支撑部具有与基板的下表面对向的基板对向面，将基板以从基板对向面向上方离开的状态加以支撑，在处理流体中的在基板与支撑部之间流动的处理流体的层流的路径中，位于固定方向的下游侧的下游路径较位于固定方向的上游侧的上游路径更宽。因此，当通过处理流体从基板去除液体时，能够防止该液体再次附着于基板。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术关于一种通过超临界状态的处理流体来处理附着了液体的基板的基板处理装置以基板处理方法。日本特愿2021-207756(2021年12月22日申请)的说明书、附图以及权利要求书内的公开内容通过参照而全部内容并入本文。

技术介绍

1、当通过液体对基板进行湿式处理时，液体会附着于该基板的上表面。作为于该湿式处理后使该基板干燥的基板处理装置，已知例如专利文献1所记载的装置。该装置中，在设置于支撑托盘的凹部内支撑基板并通过超临界状态的处理流体对基板执行干燥处理。

2、该基板处理装置中，基板以使具有微细图案的上表面朝上方的面朝上姿势支撑于支撑托盘。更具体而言，基板以水平姿势从凹部的内底面向上方离开一定距离来配置。在这种支撑基板的状态下，支撑托盘收容于处理腔室中。该处理腔室中，具有较液体更低的表面张力的处理流体向固定方向流动。这些处理流体中的沿着基板的上表面流动的处理流体的一部分进入至形成于基板的上表面的微细图案之间。因此，能够效率佳地进行干燥处理，从而能够降低干燥时因表面张力而引起的图案倒塌的发生风险。

3、现有技术文献

4本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板处理装置，通过超临界状态的处理流体来处理附着了液体的基板，其中，具备：

2.如权利要求1所记载的基板处理装置，其中，

3.如权利要求1所记载的基板处理装置，其中，

4.如权利要求3所记载的基板处理装置，其中，

5.如权利要求1至4中任一项所记载的基板处理装置，其中，

6.如权利要求3所记载的基板处理装置，其中，

7.如权利要求2、3、4和6中任一项所记载的基板处理装置，其中，

8.如权利要求7所记载的基板处理装置，其中，

9.如权利要求1至8中任一项所记载的基板处理装置，其中，...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种基板处理装置，通过超临界状态的处理流体来处理附着了液体的基板，其中，具备：

2.如权利要求1所记载的基板处理装置，其中，

3.如权利要求1所记载的基板处理装置，其中，

4.如权利要求3所记载的基板处理装置，其中，

5.如权利要求1至4中任一项所记载的基板处理装置，其中，

6....

【专利技术属性】
技术研发人员：墨周武，白川元，鳅场真树，安藤幸嗣，本野智大，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：