本发明提供一种能够将腔室内以短时间减压的热处理方法。半导体晶片(W)在形成在腔室(6)内的氨气气氛中通过来自卤素灯(HL)及闪光灯(FL)的光照射而进行加热处理。当在腔室(6)内形成氨气气氛时暂时将腔室(6)内减压。另外，在半导体晶片(...

基板清洗装置具有第一基板保持部以及干燥装置。干燥装置包括第一气体喷射部以及第二气体喷射部。第一气体喷射部一边从下方向由第一基板保持部保持的基板喷射气体，一边向与基板平行的干燥推进方向行进。在利用第一气体喷射部向基板喷射气体时，第二气体喷...

本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括：前处理膜形成工序，在具有表面的基板的表面形成前处理膜，所述表面存在互不相同的物质露出的第一区域及第二区域；前处理膜剥离工序，利用剥离液从所述基板的表面剥离所述前处理膜；处理膜...

本发明提供一种流路芯片。流路芯片(1)具有主流路(11)和多个副流路(13)。含有粒子的液在主流路(11)中流动。多个副流路(13)从主流路(11)分支。副流路(13)的流路宽度(ln)固定。随着朝向在主流路(11)中流动的液的流通方向...

本发明的衬底处理系统具备设置着架的移载装置、批量处理装置及单片处理装置。移载装置、单片处理装置及批量处理装置依次呈直线状配置成一列。批量处理装置例如具备第1批量搬送机构，所述第1批量搬送机构向批量处理槽一次搬送多片衬底。第1批量搬送机构...

本发明涉及一种姿势转换装置及具备其的衬底处理装置。本发明是一种对多片衬底的姿势进行转换的姿势转换装置，且所述装置包含以下要件。反转夹盘，保持多片衬底；开闭驱动机构，在与所述反转夹盘之间用来交接所述多片衬底的打开位置，及用来以所述反转夹盘...

本发明提供一种技术，即使在对准标记的上下方向的位置偏移时也能够高精度地检测对准标记的水平方向的位置。检测装置具有：X射线照射部、图像传感器以及计算部。X射线照射部从工作台上的基板的上方或下方朝向基板照射X射线。图像传感器接收透过了基板的...

流路芯片(1)具备多个过滤层(40)、第一共通供给路径(5)、共通流路(7)以及介电泳层(50)。多个过滤层(40)分别具有HDF(3)。第一共通供给路径(5)向多个过滤层(40)的HDF(3)供给试样液(L1)。通过了多个HDF(3)...

本发明涉及对矩形的基板的至少一主面实施电镀的电镀装置及电镀方法。本发明具备：储存电镀液的处理槽、接触到处理槽内的电镀液的阳极电极、以及在处理槽内以一主面朝上的水平姿势保持基板的基板保持部。基板保持部具有复数个夹具机构，夹具机构设置有阴极...

本发明提供一种检查辅助装置、检查辅助方法以及记录有程序的记录介质。检查辅助装置对在表面上具有图案的基板的检查进行辅助。存储部(301)存储通过针对基板图像的一次检查而检测出的多个缺陷候选图像。图像分类部(302)通过对该多个缺陷候选图像...

本发明提供一种能够对喷出压力适当检测未预先设想到的未知异常的喷出压力监视装置及方法、记录介质及涂敷装置。喷出压力测量部(911)获取压力数据。特征量计算部(913)计算压力数据的特征量。异常度计算部(915)将特征量作为输入，使用输出表...

本发明提供一种基板处理装置，有效抑制处理液相对于基板的下表面的蔓延。该基板处理装置具备：保持部，其用于能够旋转地保持基板；旋转驱动部，其用于使上述保持部旋转；以及对置板，其在俯视下包围上述保持部且与上述基板对置，上述对置板具备：第一气体...

本发明的衬底处理系统具备批量处理装置、单片处理装置、及将批量处理装置与单片处理装置连接的接口装置。批量处理装置向后方延伸。单片处理装置以在与后方正交的宽度方向上排列的方式与批量处理装置对向配置。接口装置与批量处理装置及单片处理装置各自的...

一种时刻同步方法，使被赋予至多个拍摄数据的时刻同步，具有：工序a，由多个照相机对拍摄对象进行拍摄，由此在每个照相机取得拍摄数据；工序b，针对每个拍摄数据，从拍摄数据检测拍摄了预定的事件的事件图像(EI1～EI3)；以及工序c，基于被赋予...

本发明的衬底处理系统中，堆料机装置、单片处理装置、接口装置及分批处理装置依序单列且直线状排列。堆料机装置的第1搬送机器人将载置在装载端口的载体搬送到堆料机装置侧位置。载体搬送机构将载体从堆料机装置侧位置搬送到接口装置侧位置。接口装置的第...

基板处理装置(1)具备基板保持部(2)、处理液供给部、加热部(5)以及液体去除部。基板保持部(2)将基板(9)保持为水平状态。处理液供给部将表面张力比IPA高的处理液供给至基板(9)的上表面(91)，由此形成覆盖基板(9)的上表面(91...

本发明提供一种在具备分批式模块、单片式模块的衬底处理系统中，能应对衬底的朝向相关的各种要求的衬底处理系统。本发明的衬底处理系统具备能在搬入位置(IP)侧或搬出位置(OP)调整衬底(W)中的凹口的位置的旋转台的旋转调整机构(SRM)。中继...

本发明的基板处理装置管理系统具有：信息分析装置，具有生成代表模型的模型生成部，该代表模型表示复数个处理信息间的相关关系，所述复数个处理信息表示与复数个腔室中的代表腔室中的基板的处理相关联的动作或状态；以及辅助装置，获取复数个腔室各自的复...

基板处理装置(1)具备基板保持部(2)、处理液供给部、加热部(5)以及液体去除部。基板保持部(2)将基板(9)保持为水平状态。处理液供给部将表面张力比IPA高的处理液供给至基板(9)的上表面(91)，由此形成覆盖基板(9)的上表面(91...

本发明提供一种用于追加学习的学习用数据生成方法以及学习完毕模型生成方法。基板处理装置包括喷嘴、移动机构、存储部及控制部。移动机构使喷嘴移动。存储部存储学习完毕模型。学习完毕模型是通过将表示喷嘴的移动速度的学习对象速度信息与处理量作为学习...