本发明提供一种基板处理方法和基板处理系统，将在接受了湿法处理的基板的表面堆有有机溶剂的状态的基板从湿法处理装置搬送至超临界处理装置，并使用超临界状态的处理流体使基板干燥，实现减少处理流体的消耗量且降低环境负担的同时提供产量。本发明的基板...

本发明提供一种基板处理装置、基板处理方法及基板处理程序。基板处理装置由第1处理液和第2处理液生成第3处理液，使用上述第3处理液对基板进行处理，基板处理装置具备：喷出口；第1供给路，其与上述喷出口连接；多个第2供给路，其在到上述喷出口为止...

本发明提供一种照明光学系统、光学系统调整方法以及曝光装置，提供即使在光纤的数值孔径存在偏差的情况下，也能够适当地修正从棒状积分器射出的光的扩散角的技术。照明光学系统(33)具备多个光纤(511)、棒状积分器(55)以及变倍光学系统(53...

本发明提供一种热处理装置，其能够减少设置于装置的元件数。对并联连接的3根闪光灯(FL)，设置分别包含各1个电容器(93)、线圈(94)、晶闸管(96)及再生二极管(97)的元件组。1个晶闸管(96)统一对流经对应的并联连接的3根闪光灯(...

本发明提供一种能将衬底高效地加热到高温的热处理装置。本发明的热处理装置在收容半导体晶圆的腔室的上侧设置具备多个闪光灯的闪光加热部，且在下侧设置具备多个激光二极管及多个VCSEL(垂直谐振器型面发光激光器)的辅助加热部。在半导体晶圆的预加...

本发明提供一种减少处理流体的消耗量且降低环境负担的同时提高产量的基板处理方法。本发明的基板处理方法以及基板处理系统在药液处理与冲洗处理之间执行预备有机溶剂供给处理。然后，在冲洗处理后执行使用了有机溶剂的置换处理以及堆液处理(液膜形成处理...

本发明在利用超临界状态的处理流体使在表面以堆液状态形成有有机溶剂的液膜的基板干燥的基板处理方法以及基板处理装置中，实现缩短干燥时间。在向处理腔室供给处理流体而使所述处理腔室从大气压升压至成为亚临界状态的第1压力的工序中，处理流体的一部分...

本发明提供一种可对喷出至基板的端部的液柱状的处理液进行拍摄的基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：保持工序、旋转工序、上升工序、斜面处理工序、摄像工序以及监视工序。在上升工序中，使包围基板保持部的外周的杯状构件上升，并使杯状构件...

本发明提供一种描绘装置，该描绘装置的描绘控制部通过控制光调制部(44)，在利用载物台移动机构使基板与载物台一起移动而使基板上的对象区域通过复数个照射位置时，在复数个照射位置的每一个照射位置对对象区域依次形成同一形状的像。透镜移动控制部通...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，将清洗处理后的基板上残留的清洗液以具有比清洗液低的表面张力的置换液置换。在该置换时，将喷嘴装置配置到比处理承杯靠上方的喷嘴上位置。从喷嘴装置朝向下方喷出置换液，同时喷嘴装置从基板中心沿水平方向移...

本发明提供一种基板处理装置，可在使热处理板滑动移动时避免滑动阻力过度变大。引导板(151)固定于主体框架(11)，且沿X方向延伸。第一板(153)能够相对于引导板(151)沿X方向滑动移动。第二板(155)相对于热板(20)固定，且能够...

本发明涉及基板处理方法及基板处理装置。基板处理方法包括：向基板(W)供给第1药液的第1药液工序(步骤S2)；向基板(W)供给漂洗液的漂洗工序(步骤S3)；在使漂洗液的供给停止的状态下使基板(W)旋转而从凹部(320)排出漂洗液的除去工序...

本发明提供一种在基板热处理装置中可容易地进行使升降销升降的驱动机构等的维护的技术。基板热处理装置(1)包括：热板(20)，对基板(9)进行热处理；基板升降机构(30)，使基板(9)在热板(20)的上方升降；主体框架(11)，对热板(20...

本发明提供一种描绘装置，该描绘装置的自动聚焦机构(5)具有传感器部(51)、透镜移动机构(52)和辅助支撑部(53)。传感器部(51)测定第二透镜组(452)与基板(9)之间的上下方向上的距离。透镜移动机构(52)支撑第二透镜组(452...

本发明提供一种光学装置及描绘装置，能够简化冷却数字微镜器件的冷却部的结构并且冷却数字微镜器件。DMD(6)具有DMD基座部(61)、DMD反射镜部和DMD罩部(63)。DMD反射镜部包括在DMD基座部(61)的(‑Z)侧配置成矩阵状的复...

本发明提供一种在基板加热装置中，可在将盖部的隔热性维持得高的同时减少盖部的热翘曲的技术。基板加热装置包括热板、框体部以及盖部。热板对基板进行加热。框体部在上部具有开口。框体部在内侧能够收容热板。盖部将框体部的上部的开口封闭。盖部具有顶板...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明的衬底处理装置具备：至少1个剥离气体喷嘴，通过以第1速度向衬底的上表面喷出剥离气体，而以从衬底的上表面剥离的剥离部及与衬底的上表面密接的密接部包含在聚合物膜中的方式以剥离气体的压力破坏聚合...

本发明提供一种光学装置及描绘装置，能够抑制结露并对数字微镜器件进行冷却。光学装置的光调制部(44)具有DMD(6)和冷却DMD(6)的冷却部(7)。冷却部(7)具有第一喷出流路(764)和第一供给流路(765)。第一喷出流路(764)通...

本发明提供一种能够减少对衬底施加的热量的热处理方法。本发明的热处理方法通过来自卤素灯的光照射将半导体晶圆预加热至规定的预加热温度，其后执行闪光加热：由闪光灯向半导体晶圆的表面照射闪光，加热该表面1秒以下。闪光加热包括使半导体晶圆的表面以...

本发明涉及一种曝光方法以及曝光装置，其目的在于，即使在曝光部与基板保持部的相对移动中的加速及减速的期间也能够进行曝光，由此提高曝光处理的节拍时间。其中，使输出光束的曝光部与保持基板的基板保持部进行相对移动，由此对输出光束相对于基板的入射...