本发明的课题在于在对多个基板进行搬送的同时并行地进行处理的基板处理系统中，将基板的运动容易理解地提示给用户，使基板的流动中的紊乱的发现变得容易。本发明提供一种图形用户界面装置及基板处理系统，图形用户界面装置包括：信息获取部，针对每一基板...

本发明提供一种基板处理装置，即使在形成于基板的表面的微细构造物的相互间的间隙中也能去除有机物。基板处理装置的基板处理方法具备基板保持工序以及紫外线照射工序。在基板保持工序中，保持在表面形成有微细构造物的基板。在紫外线照射工序中，隔着处理...

本发明的学习装置包含：实验数据取得部，其在以包含表示随时间经过而相对于基板变动的喷嘴的相对位置的变动条件的处理条件驱动基板处理装置，进行形成于前述基板的膜的处理之后，取得表示前述膜的处理的前后的膜厚的差的第一处理量；第1转换部，其将变动...

在三维造形装置(1)中，控制部(5)使以下动作重复进行：根据造形物的设计数据来控制材料保持部(3)及光学头(2)，由此，向载置台(341)上供给造形材料(91)，并在所供给的造形材料(91)的表层即描绘对象层(92)上，沿规定的扫描方向...

基板处理装置(100)具备基板处理单元(10)、配管(32)、过滤器(141)、上游侧配管(151)、下游侧配管(161)以及去除液供给部(165)。基板处理单元(10)处理基板(W)。配管(32)供处理液流通至基板处理单元(10)。过...

学习装置包括：实验数据获取部，在将通过向形成了覆膜的基板供给处理液来进行覆膜的处理的基板处理装置，以包括随着时间的经过而变动的变动条件的处理条件驱动，来进行覆膜的处理之后，获取表示覆膜的处理前后的膜厚的差的第一处理量；以及模型生成部，生...

基板处理装置具有：旋转基座，配置于多个夹具构件所把持的基板的下方，向夹具构件传递旋转电机的动力；以及喷嘴，向基板的上表面及下表面的至少一方供给处理基板的处理流体。基板处理装置的IH加热机构包括配置于基板与旋转基座之间的发热构件、配置于旋...

本发明提供一种能够抑制源动力的使用量的基板处理系统。基板处理系统(1000)包含基板处理装置(200)、及控制装置(300)。控制装置(300)建立基板处理装置(200)的动作的排程(SK)。控制装置(300)包含存储部(303)、及控...

本发明涉及一种衬底处理装置、载具搬送方法及载具缓冲装置。载具搬送机构(51)在2个开启机构(9、10)的载置台(13)与多个载具保管架(53)之间搬送载具(C)。多个载具保管架(53)及载具搬送机构(51)分别搭载在第1处理块(3)之上...

本发明提供一种基板处理装置，重新检视具备批次式模块以及单片式模块的装置的构成，借此改善处理量。在本发明的处理区块(9)的单片处理的单片处理区域(R2)设置有缓冲部(31)，缓冲部(31)能够供第一搬运机构(HTR)以及中心机械手(CR)...

本发明提供一种基板处理装置，抑制装置的尺寸，并且使所配置的单片式腔室的数量增加，从而改善处理量。根据本发明，由于能将单片式腔室在铅垂方向上层叠，因此，能提供即使地面面积与以往的装置相同也能搭载更多的单片式腔室的基板处理装置。而且，若构成...

本发明提供一种能够实现处理单元的增设且容易进行搬运机械手的维护的技术。第1处理模块(3A)具有处理单元(SP1～SP6)及第1交接部(PS1)。分度盘部分(2)配置在第1处理模块的‑X侧，向第1交接部(PS1)供给基板(W)。搬运模块(...

基板处理装置(100)具备基板处理单元(10)、配管(32)、过滤器单元(140)以及泵(114)。基板处理单元(10)处理基板(W)。配管(32)供处理液流通至基板处理单元(10)。过滤器单元(140)配置于配管(32)。过滤器单元(...

本发明涉及一种衬底处理装置、载具搬送方法及载具缓冲装置。载具搬送机构(51)在2个开启机构(9、10)的载置台(13)与多个载具保管架(53)之间搬送载具(C)。多个载具保管架(53)及载具搬送机构(51)分别搭载在第1处理块(3)之上...

本发明的目的在于在基板处理装置中容易地进行对基板实施的处理的定制。为了达成该目的，基板处理装置具备两个以上药液处理部、存储部以及控制部。各药液处理部包括处理槽和供液部。处理槽利用处理液对基板实施处理。供液部向处理槽供给处理液。存储部针对...

本发明的课题在于提供一种能够容易地进行热处理条件的条件设定的热处理方法及热处理装置。将收容构成批次的多个半导体晶圆的载具搬入至热处理装置之后，对各半导体晶圆设定规定了处理顺序及处理条件的制程配方。接着，测定收容于载具的各半导体晶圆的反射...

本发明提供一种处理液供给装置、基板处理装置及处理液供给方法。处理液供给装置包含第1循环装置、第2循环装置、混合导出部及液体供给部。第1循环装置具有与第1液体供给源连接的第1循环系统，将在该第1循环系统的至少一部分流动的第1液体向混合导出...

本发明提供能够高精度地确定排液部内的处理液的基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)包括腔室(112)、基板保持部(120)、处理液供给部(130)、排液部(190)、至少一个近红外线光源(140)、近红外摄像部(150)及控...

本发明能够提供能够高精度地确定处理液供给部内的处理液的基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)包括喷嘴(136)、处理液供给部(200)、近红外线光源(140)、近红外摄像部(150)及控制部(102)。喷嘴向基板(W)的上表...

在基板处理装置1中，姿势转换区域R3设置于移载区块5与批量处理区域R1之间，单片基板搬运区域R4与移载区块5以及姿势转换区域R3邻接，单片处理区域R5与单片基板搬运区域R4邻接。单片基板搬运区域R4的中心机械手CR在姿势转换区域R3的第...