本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法。基板处理装置具备间距变换部，该间距变换部在第一间隔和比第一间隔宽的第二间隔交替重复的不等间距与第一间隔重复的窄间距之间变换多张基板的间距。间距变换部具备：多个保持部件，保持以不等间距排列的多张...

本发明提供一种基板处理方法，具有：解体过程，以使构成临时批次的基板中的相对的两个基板成为不同的组的方式将基板分成第一组和第二组，使所述第一组和所述第二组在与基板的排列方向正交的方向上相对地移动，从而将所述临时批次解体；半周旋转过程，使所...

在第一保存工序(步骤S1)中，通过便携式终端(101)的摄像部(6、7a以及7b)，拍摄预先赋予给复数个基板处理装置(200)中的一个基板处理装置(200)的第一标识符(211)，保存第一标识符(211)。在第二保存工序(步骤S2)中，...

本发明提供一种在工作区域进行工作的操作员能够准确地识别无人搬送车的工作辅助方法及工作辅助系统。收集工作区域(41)内的各种环境下的录音数据，通过将从这些录音数据提取的声音特征量作为学习数据的机械学习来构筑声音模型。当配戴搭载了声音模型的...

本发明提供一种能够防止在闪光灯光照射时在衬底产生由反复应力引起的裂纹的热处理方法及热处理装置。流向出射闪光灯光的闪光灯的电流由IGBT来控制。IGBT按照从脉冲产生器输出的脉冲信号的波形反复接通断开。因IGBT反复接通断开，而流向闪光灯...

本发明提供一种连接基材，连接基材(100)具有正式基材(90)、仿真基材(80)和连接构件(83)。正式基材(90)呈层叠支撑膜(91)和电解质膜(92)而成的长条带状。仿真基材(80)呈层叠第一层(81)和第二层(82)而成的长条带状...

本发明提供一种用于清洗基板的下表面的刷单元，刷单元包含下表面刷及刷座。下表面刷在对基板的下表面进行清洗时朝向上方且至少一部分与基板的下表面接触。刷座具有与下表面刷连接的座上表面、在对基板的下表面进行清洗时朝向下方的座下表面以及将座上表面...

提供一种基板保持装置及基板处理装置。基板保持装置(150)具备基板保持部(200)、旋转驱动部(300)和电力供给部(400)。旋转驱动部使基板保持部旋转。电力供给部向基板保持部供给电力。基板保持部(200)具有旋转基座(210)、卡盘...

本发明对一面通过新空气在旋转杯部内形成下降气流且将旋转杯部内的环境气体(＝构成下降气流的空气+处理液的气液成分)直接排出至装置外部、一面进行基板处理的基板处理装置追加有供排气构造。在供排气构造中，自杯内的环境气体的一部分或全部去除处理液...

在复数个第一卡盘销以及复数个第二卡盘销与水平的基板的端面接触的全关闭状态下，开始并持续向基板供给温度比基板高的含硫酸液体。通过使复数个第二卡盘销与基板的端面分离，在复数个第一卡盘销与基板的端面接触且复数个第二卡盘销与基板的端面分离的第一...

提供一种基板处理方法以及基板处理装置，能够在短时间内高效地将通过抑制或者减少发生膜缺陷而致密性以及保护性能优异的自组装单分子膜成膜于基板表面。本发明的基板处理方法包含：第一接触工序工序，使包含SAM分子的第一处理液接触至基板W的表面Wf...

基板清洗装置包括第1清洗用具、第2清洗用具、荷载调整部以及控制装置。第1清洗用具清洗基板的第1面。第2清洗用具清洗基板的与第1面相反的第2面。荷载调整部调整由第1清洗用具或第2清洗用具对基板施加的荷载。控制装置控制荷载调整部，以使在俯视...

本发明提供一种能够以更短时间使基板的整面适当地疏水化的技术。基板处理装置包括：基板保持部(2)、至少一个中央喷嘴(3)、第一疏水管(31h)、第一疏水调整阀(32h)、至少一个周缘喷嘴(4)、第二疏水管(41h)、第二疏水调整阀(42h...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明的衬底处理装置(100)具备：腔室(11)，收容衬底(W)，所述衬底(W)具有设置着器件的正面(Wa)与位于正面(Wa)的相反侧的背面(Wb)；衬底保持部(20)，在腔室(11)内保持衬底...

本发明的基板处理装置具备：药液喷嘴(31)，将药液向下方朝向水平的基板的上表面喷出；至少一个致动器，使药液喷嘴(31)在处理位置与待机位置之间移动，该处理位置是在俯视时药液喷嘴(31)与基板重叠的位置，该待机位置是在俯视时药液喷嘴(31...

本发明的基板处理装置及基板处理方法，通过移动机构使作用部在互不相同的第一位置与第二位置之间移动，定位于第一位置的作用部使用流体执行规定动作。在作用部，设置有通过移动机构与作用部一体移动的移动配管，另外以不追随移动机构进行的作用部的移动的...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明的衬底处理装置(100)具备：腔室(11)，收容具有设置着器件的正面(Wa)与位于正面(Wa)的相反侧的背面(Wb)的衬底(W)；衬底保持部(20)，在腔室(11)内保持衬底(W)；药液供...

本发明提供一种检查装置。检查装置(1)具有：图像获取部(2)，利用可见光获取基板的可见光图像，并利用红外线获取基板的红外图像；检查部(41)，对可见光图像和红外图像中的每一个执行检查处理，来检测基板的缺陷；缺陷类别判断部(42)，根据关...

本发明提供基板处理装置及方法，在相对于基板移动的狭缝喷嘴的前方侧配置有喷嘴防护件的基板处理装置中，能够采取对策诸如对在喷嘴防护件上附着有异物的状态下用狭缝喷嘴向基板涂敷处理液的情况防患于未然。在本发明的基板处理装置及基板处理方法中，一边...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法，在相对于基板相对地移动的狭缝喷嘴的前方侧配置有喷嘴防护件的基板处理装置中，能够不残留液体成分且有效去除附着于喷嘴防护件的异物，实现稳定且高品质的生产。本发明中，一边在使狭缝喷嘴的喷出口接近基板的...