一种基板处理方法，包括：处理膜形成工序，对基板的表面供给处理液并使前述基板的表面上的处理液固化或者硬化，由此于前述基板的表面形成处理膜；蚀刻成分形成工序，对前述处理膜进行蚀刻成分形成处理，由此在前述处理膜中形成蚀刻成分；蚀刻工序，通过在...

基板处理方法包括：蚀刻工序，在基板的表面形成含有具有蚀刻功能的第1聚合物及具有固体形成功能的第2聚合物的半固态的涂布膜，通过前述基板上的前述第1聚合物，对前述基板的表层部进行蚀刻；和蚀刻停止工序，通过固体形成处理，使前述涂布膜中的前述第...

提供一种基板处理方法。基板处理方法包括：对基板(W)供给拒水剂(SMT)的工序(S7)；在供给拒水剂(SMT)后，对基板(W)供给稀释异丙醇(dIPA)的工序(S11)，所述稀释异丙醇是经过稀释的异丙醇；以及在供给稀释异丙醇(dIPA)...

通过将碱性的第1蚀刻液供应给基板，而对表示单晶硅与多晶硅中的至少一者的蚀刻对象物施行蚀刻。在将第1蚀刻液供应给基板前或供应后，将碱性的第2蚀刻液供应给基板，而对蚀刻对象物施行蚀刻；该第2蚀刻液含有阻碍氢氧化物离子与蚀刻对象物接触的化合物...

本实用新型提供一种基板处理装置，即使在使用液体的环境中，也能够以足够高的精确度进行检测。基板处理装置具有：搬运部，用于搬运基板(9)；液处理部，向由搬运部搬运的基板(9)供给液体；以及传感器单元(4)，检测被供给液体的基板(9)，传感器...

本发明提供一种脏器容纳容器，在向受体移植脏器时，能够进一步抑制脏器的温度上升，并且能够抑制脏器的损伤。该脏器容纳容器包括具有伸缩性且具有开口(21)的袋状的主体部(20)。在无负荷状态下，开口的最大宽度(D3)小于主体部的最大宽度(D1...

本发明提供一种基板处理装置，能够减少因搬运辊引起的筋状的处理斑痕，并且还难以产生在基板的上表面形成积液的处理液的一部分向搬运辊的表面流出或者附着于搬运辊的泡上升到基板的上表面的问题。搬运机构(20)具有多个搬运辊(21)。搬运辊通过一边...

在基板W上形成有凹部95。凹部95的宽度比凹部95的深度短。在侧面95s的上部的至少一部分以及侧面95s的下部的至少一部分露出表示单晶硅、多晶硅以及非晶硅中的至少一个的蚀刻对象物。通过将溶解了非活性气体的碱性的第一蚀刻液供给至基板W，对...

本发明提供一种医疗器具，该医疗器具在向受体移植脏器时能够进一步抑制脏器的温度上升并且不容易妨碍主刀医生的操作。该脏器容纳容器(1)包括具有伸缩性且具有开口(30)的袋状的主体部(20)。在无负荷状态下，开口(30)的最大宽度(D4)小于...

本发明提供一种衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法是通过衬底处理装置(100)来执行的。衬底处理装置(100)具备处理槽(110)、及配置在处理槽(110)的内部的气泡供给管(21)。衬底处理方法中，衬底保持部(120)将衬底(W)...

本发明提供一种基板处理装置。在基板保持部，气体供给部在基板的下表面与基部的基面之间送出气体，形成趋向径向外方的气流。分隔板在基部的基面上与基板的外周缘相比配置在径向外侧，包围基板的周围。分隔板的内周缘与基板的外周缘在径向上彼此分离并且相...

本发明涉及一种衬底处理装置。涂布装置包含载台装置及喷嘴装置。在载台装置中，将衬底保持在板部件上。喷嘴装置具有狭缝状的喷出口，设置在载台装置的上方。以对衬底的整个上表面供给涂布液的方式，一边从喷嘴装置的喷出口喷出涂布液一边使喷嘴装置在载台...

本发明提供一种基板处理装置，对基板进行清洗处理，所述基板处理装置包括：分度器区，具有分度器机械手；处理区，作为处理单元，具有表面清洗单元以及背面清洗单元；以及翻转路径区，具有载置基板的多层搁板，并且具有翻转功能，所述分度器机械手具有导轨...

提供一种基板处理装置、异常检测方法及存储有异常检测程序的计算机可读介质。在基板处理装置中，进行使用处理液的基板的处理。第1动作构件及第2动作构件用于基板的处理。利用动作值获取部获取第1动作构件的第1动作值和第2动作构件的第2动作值。利用...

本发明提供一种减压干燥装置、减压干燥方法及程序。本发明的课题在于使形成于基板的上表面的涂膜更均匀地干燥。在腔室内，支撑部从下方支撑基板，排气部排出腔室内的气体环境，供气部向腔室内供给气体。在进行利用排气部的排气及利用供气部的供气中的至少...

本发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。本发明是一种使形成有图案的衬底干燥的衬底处理方法，所述衬底处理方法包含以下步骤。也就是包含固化膜形成液供给步骤、整面涂布步骤、固化膜形成步骤及升华步骤，所述整面涂布步骤基于升华性物质的浓度、目标...

本发明提供一种适合于基板处理装置及基板处理方法的搬送控制形态，所述基板处理装置在处理部设置有使基板从供处理基板的处理位置上升的升降机构。本发明的基板处理装置包括：处理部，处理基板；升降机构，使在处理部内的处理位置处理后的基板向比处理位置...

本发明提供基板处理方法以及基板处理装置。基板处理方法包括：硫酸浸渍工序，使多枚基板浸渍于硫酸槽内的含硫酸液体；搬运工序，从所述硫酸槽取出多枚所述基板，将多枚所述基板搬运至臭氧气体处理单元；以及臭氧暴露工序，使搬运至所述臭氧气体处理单元的...

本发明提供一种基板处理系统以及群管理装置。基板处理系统(100)具备多个基板处理装置(1)、以及群管理装置(2)。基板处理装置具备计划创建部(53)。计划创建部创建示出使用处理液的定时和处理液的流量的计划。从共用的必需能力设备(PF)向...

本发明提供一种衬底处理装置。衬底处理装置(100)具备旋转基座(SB)、多根夹盘销(37)、洗净机构(10)、及提升销(35)。洗净机构(10)配置在衬底(W)的上方，将衬底(W)的背面(Wb)物理性洗净。多根夹盘销(37)具有抵接面(...