本发明提供不仅对基板涂敷处理液而且在涂敷处理后进行规定的后处理的基板处理装置及基板处理系统。基板处理装置具有：涂敷部，在从基板搬入搬出装置沿第一水平方向分离的位置进行涂敷处理；复数个后处理部，对涂敷处理后的基板实施规定的后处理；基板搬运...

本发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。提供一种能以更高精度确认腔室内的驱动部的动作的技术。衬底处理方法具备处理工序、摄像工序、同步工序、及算出工序。在处理工序中，控制部测定时刻，且对处理单元的至少一个驱动部输出控制信号，使处理单元进...

本案说明书中揭示的技术是用以高精度地判断基板的位置的技术。位置判断方法具备以下工序：将基准图像中包含基板的端部的区域设定为基准区域，且在基准区域中检测基板的端部的像素位置作为基准像素位置；将比较图像中包含基板的端部的区域设定为比较区域，...

本发明涉及基板搬送装置、基板处理装置及示教方法。根据本发明，夹持基板(W)的外周面的三个可动引导件(67)设于转位模块(5)的第1手部(19)。第1手部(19)在设为基板(W)处于初始的设定位置而使第1手部(19)与基板(W)接近后，使...

本发明涉及一种衬底搬送机器人及具备衬底搬送机器人的衬底处理装置。衬底搬送机器人具备手及机器人控制部。手具备：设置在手主体的上表面且支承衬底的外缘部的4个导件(具有配置在手主体的前端侧的导件)、配置在手主体的基端侧的推杆、使推杆水平移动的...

本发明提供一种衬底处理装置，其能效率良好地处理衬底。本发明是一种衬底处理装置，具备：处理单元，处理衬底；及控制部，控制所述处理单元；且所述处理单元具备：板，具有上表面；旋转驱动部，使所述板旋转；支撑部，从所述板的所述上表面向上方突出，与...

本发明的目的在于提供一种衬底搬送装置及具备所述衬底搬送装置的衬底处理装置，能防止在搬送时对衬底产生损伤。在由第l手部(19)保持衬底(W)时，操作伺服电动机(79)使各引导件(67)移动到衬底(W)的外周面。在由触觉传感器(73)检测出...

本发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包含如下工序：臭氧气体蚀刻工序，一边对衬底(W)进行加热一边将作为蚀刻气体的臭氧气体供给到形成在衬底(W)的表面的非晶形碳膜(AC)，由此在衬底(W)的表面干燥的状态下对非晶形碳膜(...

本发明涉及一种衬底搬送装置及具备其的衬底处理装置。在第1传感器(22a)及第2传感器(22b)都分别检测出衬底(W)载置在第1导件(32a)及第2导件(32b)的情况下，容许推进器(35)从打开状态变为关闭状态。另一方面，在第1传感器(...

本发明涉及基板处理系统及基板处理方法。基板处理系统的控制部控制升降机，进行使铅垂姿势的多张基板浸渍在药液处理槽内的药液中的第一次批处理。控制部控制第二姿势转换机构，使进行第一次批处理后的多张基板绕水平轴旋转，由此使铅垂姿势的多张基板上下...

本申请提供一种能够抑制因搬送时的位置修正引起的生产能力下降的基板搬送装置。在利用第一手部(33)保持基板(W)时，利用所有引导部(67)把持基板的外周面，基于在该时间点得到的位置信息，算出保持的基板的中心位置来作为当前中心位置(CPN)...

本申请提供一种基板处理装置。基板处理装置的控制部为了从多个架部(11)中的一个架部(11)取出基板(W)，使未支承基板(W)的手部(13)进入载体内，一边监视来自触觉传感器(19A)的输出一边在载体内使手部(13)上升，在触觉传感器(1...

本发明提供一种基板处理系统，其控制升降机将变换成铅垂姿势的多张基板一并浸渍于批量处理槽而进行第一次批量处理，控制升降机将变换成上述铅垂姿势的多张基板一并浸渍于上述批量处理槽而进行第二次批量处理，具备使基板绕基板的法线旋转的旋转机构，且在...

本发明的目的在于提供一种衬底搬送装置及具备所述衬底搬送装置的衬底处理装置，能效率良好地搬送衬底。在搬送衬底的衬底搬送装置中，具备：手部，将衬底保持为水平姿势；水平驱动机构，为了交接衬底而将所述手部在水平面内进退驱动；至少2个引导件，设置...

本发明的目的在于提供一种衬底搬送装置及具备所述衬底搬送装置的衬底处理装置，能效率良好地处理衬底。在搬送衬底的衬底搬送装置中，具备：手部，将所述衬底保持为水平姿势；水平驱动机构，为了交接所述衬底而将所述手部在水平面内进退驱动；至少2个引导...

本发明涉及一种衬底搬送装置、衬底处理装置及检查方法。本发明具备：取得用手部(11a)，具备：引导部件(32a)，设置于基部件的上表面，供衬底(W)的周缘抵接；传感器(22a)，检测抵接于引导部件(32a)的衬底(W)；引导部件(34a)...

一种基板处理方法，包含：干燥前处理液供给工序，其是将升华性物质溶解于溶剂中而成的干燥前处理液供给至形成有图案的基板的上表面，而在所述基板的所述上表面形成所述干燥前处理液的液膜；析出工序，其是通过使所述溶剂自所述液膜蒸发，从而使所述升华性...

本发明的基板处理方法，其包含：干燥前处理液供给工序，其是将升华性物质溶解于溶剂中而成的溶液即干燥前处理液供给至形成有图案的基板的上表面，而在所述基板的所述上表面形成所述干燥前处理液的液膜；析出工序，其是通过使所述溶剂自所述液膜蒸发，而使...

本发明提供一种数据处理方法、数据处理装置以及存储介质。数据处理方法包含获取时间序列数据的步骤、获取评估值的步骤、分类步骤及提取步骤。在获取时间序列数据的步骤中，获取通过基板处理装置获得的多个时间序列数据。在获取评估值的步骤中，获取多个时...

本发明的目的在于，减少在进行基板处理的装置、系统以及方法中使用的数据量。为了达到上述目的，基板处理装置具有：一个以上的处理单元，对基板分别进行处理；以及一个以上的运算处理部。一个以上的运算处理部通过使用以分别规定与在一个以上的处理单元中...