基板处理装置(100)具有：基板保持部(20)，保持基板(W)并使基板(W)旋转；以及混合液供给部(50)，向通过基板保持部(20)旋转的基板(W)供给混合了硫酸以及双氧水的硫酸双氧水混合液。混合液供给部(50)在第一期间中以第一流量向...

本发明提供一种能够减少气体扩散层的性能降低并减少催化剂材料的使用量的技术。作为电极结构体的池单元(4)具有电解质膜(41)、气体扩散层(43)和催化剂层(45)。气体扩散层(43)配置于电解质膜(41)的一侧。气体扩散层(43)为多孔质...

在本发明中，在一面覆盖保持于基板保持部的上述基板的上表面一面将上述基板加热的上表面保护加热机构中，将基块、第1底部区块及第2底部区块组合，形成间隙区域及环状吹出口。并且，在间隙区域中流动的气体在由周缘加热部加热后，自环状吹出口供给至基板...

本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的开闭机构、切换机构以及衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底...

基板处理装置1具有移载区块5、处理区块7以及缓冲部33。移载区块5具有：一并搬运机构HTR，将基板W容纳于承载器C；以及第一姿势转换机构15，将基板W转换成铅垂姿势。处理区块7具有批量处理区域R1、单片处理区域R3、单片基板搬运区域R2...

本发明提供一种基板处理方法以及基板处理装置，在基板处理中，向被保持为水平状态的基板(9)的上表面(91)供给第一处理液，形成覆盖整个上表面(91)的第一处理液的液膜(81)。另外，对基板(9)进行加热，在上表面(91)上的第一处理液的液...

成膜装置(100)具有腔室(1)、载置台(21)及流体头(3)。流体头(3)在腔室(1)内设置在与载置于载置台(21)的基板(W)的第一主面相向的位置。流体头(3)具有等离子体室(4b)、等离子体源(5)、多个第一流出口(4c)、气体流...

本发明的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(3...

向基板的上表面供给包括升华性物质和溶剂的溶液即干燥前处理液。然后，通过使溶剂从基板上的干燥前处理液蒸发，从而在基板上的干燥前处理液中析出升华性物质的固体。然后，使升华性物质的固体的至少一部分溶解于基板上的干燥前处理液。然后，通过使溶剂从...

本发明的学习装置包括：实验数据获取部，在以包括表示随着时间的经过而相对于基板变动的喷嘴的相对位置的变动条件的处理条件驱动基板处理装置来进行形成于基板的膜的处理后，获取示出膜的处理前后的膜厚的差的第一处理量；转换部，将变动条件与处理条件中...

在本发明中，外侧整流构件对通过上密闭构件与下密闭构件之间的气体进行整流并使的沿下密闭构件的外侧面朝下方流通。由此，以包围处理空间的方式，形成有所谓的气幕。并且，在消除环境气体分离空间的形成时，外侧整流构件安装于上密闭构件，且在保持停止于...

在本发明的基板处理装置中，在腔室的内部空间中，基板保持部配置于较内部空间的中心更朝搬送用开口侧偏移的处理位置。将沿着搬送路径的基板的搬送距离及搬送时间缩短与该偏移量对应的大小，从而省电化。并且，喷嘴移动部构成为使处理液喷出喷嘴沿基板的径...

本发明涉及一种通过对保持于旋转的基板保持部的基板供给处理液而对基板实施规定的基板处理，且捕集在该基板处理过程中自基板甩掉的处理液的液滴的基板处理技术。在该装置中，一面使旋转杯部绕旋转轴旋转一面自该旋转杯部的内侧对旋转杯部直接供给杯冲洗液...

本发明提供一种基板处理装置，具备：多个第一雾喷嘴，其设置在腔室内，并以预先设定的第二间隔沿着多张基板的排列而配置；以及多个第二雾喷嘴，其设置在腔室内，并以第二间隔沿着多张基板的排列而配置。多个第一雾喷嘴在俯视时隔着多张基板配置于多个第二...

本发明涉及使光的行进路线偏移的光学装置、使用该光学装置的曝光装置以及曝光方法，其目的在于，结构简单且紧凑，并且在抑制像散差的增大的同时进行偏移量的调整。本发明的光学装置使输入光的光路向与其入射方向正交的偏移方向偏移。该光学装置具有：偏移...

本发明提供一种基板处理装置，通过重新研究具有批量式模块以及单片式模块的装置的结构，从而改善了处理量。在本发明的处理区块9的单片处理的单片处理区域R2设置有缓冲部31，该缓冲部31能够供第一搬运机构HTR以及中心机械手CR双方交接基板W。...

本发明提供一种能够容易地进行保持部的更换的卡盘销及基板保持装置。卡盘销包括保持部及固定部，且对基板进行保持。保持部具有内周面及能够与基板抵接的外周面。在保持部的内周面形成向内侧突出的突出部。固定部包括按压部、被按压部及施力部，且将保持部...

本发明提供一种学习系统(5)，用于制作判定表示对象物的缺陷的缺陷图像的类别的判定器(4)。学习系统(5)具有：学习部(51)，通过使用分别被赋予了复数个类别中的任一个类别的标签的复数个缺陷图像即教师图像组进行设定轮次数的学习，来制作判定...

本发明的衬底处理方法是对在表面具有金属层、及层叠在金属层上的硬掩模的衬底进行处理。该方法包括下述工序：对从硬掩模露出的金属层进行干式蚀刻而图案化；对由干式蚀刻而产生在衬底的表面的残渣照射紫外线；以及在紫外线照射后，通过湿式处理来从衬底去...

本发明提供一种描绘装置，其利用光的照射在基板上描绘图案，所述描绘装置具有：保持部，保持基板；光照射部，在基板上描绘图案；罩(6)，覆盖保持部和光照射部；空气供给部，向罩(6)内供给温度被调整的第一空气。空气供给部具有：调温部(71a)，...