开闭机构、切换机构以及衬底处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术的目的在于提供一种能够适当地排出处理壳体的气体的开闭机构、切换机构以及衬底处理装置。衬底处理装置(1)具备处理壳体(23A1)、保持部(31)及液体供给部(33)。保持部(31)收容在处理壳体(23A1)中。保持部(31)保持衬底(W)。液体供给部(33)收容在处理壳体(23A1)中。液体供给部(33)对保持部(31)所保持的衬底(W)供给处理液。衬底处理装置(1)具备排气管(41A)、(42A)。排气管(41A)、(42A)分别配置在处理壳体(23A1)侧方。排气管(41A)、(42A)分别排出气体。衬底处理装置(1)具备切换机构(51A1)。切换机构(51A1)配置在与处理壳体(23A1)相同的高度位置。切换机构(51A1)将处理壳体(23A1)的排气通路切换为排气管(41A)、(42A)中的一个。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种对衬底进行处理的衬底处理装置。衬底例如为半导体晶圆、液晶显示器用衬底、有机el(electroluminescence，电致发光)用衬底、fpd(flat paneldisplay，平板显示器)用衬底、光显示器用衬底、磁盘用衬底、光盘用衬底、磁光盘用衬底、光掩模用衬底、太阳电池用衬底。

技术介绍

1、日本专利特开2019-16818号公报揭示一种衬底处理系统。以下，以括号形式标记日本专利特开2019-16818号公报中记载的符号。衬底处理系统1具备处理晶圆w的处理单元16。处理单元16具备腔室20、衬底保持机构30及处理流体供给部40。腔室20为处理壳体。衬底保持机构30与处理流体供给部40设置在腔室20的内部。衬底保持机构30保持晶圆w。处理流体供给部40对衬底保持机构30所保持的晶圆w供给处理流体。处理流体例如为碱性处理液、酸性处理液及有机处理液。

2、衬底处理系统1具备第2排气管200、排气切换单元300及3根个别排气管101、102、103。第2排气管200将腔室20与排气切换单元300连接。第2排气管200具备水平部本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种开闭机构，用于将1个处理壳体与1个排气管之间连通、阻断，且具备：

2.根据权利要求1所述的开闭机构，其中

3.根据权利要求1所述的开闭机构，其中

4.根据权利要求1所述的开闭机构，其中

5.根据权利要求1所述的开闭机构，其中

6.根据权利要求5所述的开闭机构，其中

7.根据权利要求6所述的开闭机构，其中

8.根据权利要求7所述的开闭机构，其中

9.根据权利要求7所述的开闭机构，其中

10.根据权利要求9所述的开闭机构，其中

11.根据权利要求7所述的开闭机构，其...

【技术特征摘要】

1.一种开闭机构，用于将1个处理壳体与1个排气管之间连通、阻断，且具备：

2.根据权利要求1所述的开闭机构，其中

3.根据权利要求1所述的开闭机构，其中

4.根据权利要求1所述的开闭机构，其中

5.根据权利要求1所述的开闭机构，其中

6.根据权利要求5所述的开闭机构，其中

7.根据权利要求6所述的开闭机构，其中

8.根据权利要求7所述的开闭机构，其中

9.根据权利要求7所述的开闭机构，其中

10.根据权利要求9所述的开闭机构，其中

11.根据权利要求7所述的开闭机构，其中

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【专利技术属性】
技术研发人员：泽岛隼，山口贵大，宫川纱希，小林健司，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：