本发明提供一种基板处理装置，其能够缩短从更换清洗用具起到再次开始使用所述清洗用具的清洗处理为止所需的时间。基板处理装置包括：基板保持装置、刷臂、多个刷装置、刷保管装置及刷液供给系统。刷臂的顶端部以能够装卸刷装置的方式构成为刷保持部。由基...

本发明提供一种分离芯片，其具备：基板；多个电极，其配置在所述基板的一个面上；绝缘膜，覆盖所述电极的一个面的至少一部分；以及导入部构成部件，其配置在所述基板的一侧，包围所述电极的至少一部分，并且构成导入含有电介质粒子的液体的导入部。所述电...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理装置的维护方法。本发明的衬底处理装置具备处理腔室、3根排气管及排气切换机构。排气切换机构具备切换箱、独立开闭将切换箱与3根排气管独立连通的3个连通口的3个开闭机构、及与3个开闭机构对应地设置在切换箱的...

本发明涉及一种开闭机构及排气切换机构以及衬底处理装置。本发明的开闭机构具备：基座部件，能够分别安装于切换箱的安装开口；上支撑部件，设置在基座部件的上表面；致动器；杆，一边贯通基座部件一边从致动器向下方延伸，通过致动器在上下方向移动；下支...

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够适当地检测透明基板的边缘位置。基板处理装置具备光传感器(46)和控制部。光传感器在基板(W)的进退路径上的检测位置(P1、P2)投射接收检查光，在检查光的受光量低于阈值时输出遮光信号。控制...

本发明涉及基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置的溶剂供给部配置在比处理槽的上表面的开口高的位置，并在俯视时从处理槽的外侧向处理槽的内侧供给雾状的溶剂。控制部在基板浸渍于处理液中时进行溶剂供给动作，即，对腔室内进行减压，并且从溶剂供给...

提供一种基板搬送装置、基板处理装置以及基板处理系统，在进行关于单一搬运器的基板搬送时能够针对每个基板恰当地设定基板搬送的方式。基板搬送装置接收与保持于搬运器(C)的基板各自的相对应的基板信息。基板信息包含以基板为单位的信息。并且，上述的...

本发明提供掌握基板的形状以免发生由基板的形状引起的不良情况的基板搬送装置。基板搬送装置具备与搬送基板(W)的获取用手部(11a)分体的传感器保持部件(21)，该传感器保持部件(21)具有第1传感器(41)、第2传感器42。在想要搬送载体...

本发明提供一种即使催化剂层的形成范围的精度低，也能够对作为电极发挥作用的有效区域的偏差进行抑制的电极结构体。第一气体扩散层(62)的外周缘位于比多孔质输送层(72)的外周缘、第一催化剂层(61)的外周缘、第二催化剂层(71)的外周缘更靠...

本发明提供一种基板搬送装置以及具备该基板搬送装置的基板处理装置。基板搬送装置包括：搬送部，其具有保持基板的保持手，通过使所述保持手从收容器的搬入搬出口相对于基板间的间隙进退来搬送所述基板；厚度形状信息收集部，其在所述收容器收容有所述基板...

本发明提供一种即使催化剂层的形成范围的精度低，也能够对作为电极发挥作用的有效区域的偏差进行抑制的电极结构体。辅助衬垫膜(82)的一部分延伸至比第一气体扩散层(62)的外周缘、多孔质输送层(72)的外周缘、第一催化剂层(61)的外周缘、第...

在将使用多个光源生成的激光束合成为单一光束并出射的光照射装置中，不会导致光路长度的增大，抑制从多个激光光源出射的光的散逸。在本发明的光照射装置以及曝光装置中，照明光学系统具有：入射角变换部，其包括配置成形成扩束器的位置关系的第一透镜以及...

本发明提供一种即使催化剂层的形成范围的精度低，也能够对作为电极发挥作用的有效区域的偏差进行抑制的电极结构体。多孔质输送层(72)的外周缘位于比第一气体扩散层(62)的外周缘、第一催化剂层(61)的外周缘、第二催化剂层(71)的外周缘更靠...

本发明提供基板搬送装置以及具备该基板搬送装置的基板处理装置。基板搬送装置能够隔开间隙地层叠并收容多张基板，且与在一侧面具有搬入搬出口的载体之间搬送所述基板，所述装置包括以下的要素。搬送部，其具有保持所述基板的保持手，通过使所述保持手从所...

本发明提供一种描绘装置，其利用光的照射在基板上描绘图案，所述描绘装置具有：保持部(25)，通过从复数个吸引孔吸引空气来保持基板；减压部(8)，产生保持部(25)吸引空气的力；存储部(62)，存储基板的复数个型号；以及吸引调整部(61)，...

一种辅助解析标本的染色图像的解析辅助方法，具备：准备针对一个标本进行多种类的染色而获得的分别与该多种类的染色对应的多个染色图像的工序(步骤S11)；以预定的分割方式将多个染色图像的各染色图像分割成多个分割区域的工序(步骤S13)；使用通...

流路芯片(11)具备基板(21)、液体接收部(FW)、一对第一电极(33a)、(33b)和一对第二电极(43a)、(43b)。能够向液体接收部(FW)注入样品液体或参照液体。一对第一电极(33a)、(33b)通过被施加控制电压，能够使介...

基板清洗装置具备旋转卡盘、液体供给机构、刷按压机构及刷。旋转卡盘保持基板并使基板旋转。液体供给机构向由旋转卡盘保持而进行旋转的基板的一面上供给清洗液。刷按压机构在预先规定的按压期间中将刷朝向旋转的基板的一面按压。液体供给机构在按压期间之...

本发明涉及一种基板处理方法、基板处理装置及基板处理液。基板处理方法对包含第1层G的基板W进行处理。第2混合液P2含有蚀刻液与碘化物离子(I<supgt;‑</supgt;)。基板处理方法包括第1调整步骤与蚀刻步骤。在第1调整...

分离装置(100)具备主流道(11)、多个副流道(13)、控制液流道(21)、下游侧合流部(23)以及共通流道(25)。含有粒子的试样液(L1)在主流道(11)中流动。多个副流道(13)从主流道(11)分支。控制液流道(21)在主流道(...