学习装置具有：处理条件获取部，获取用于驱动基板处理装置的处理条件，所述基板处理装置通过向形成有覆膜的基板供给处理液来进行覆膜的处理；第一处理结果获取部，在以处理条件驱动基板处理装置来进行覆膜的处理之后，获取第一处理结果，所述第一处理结果...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。在液体处理工序中，基板通过旋转保持装置而旋转，并由处理液供给单元向基板供给处理液。在干燥工序中，基板通过旋转保持装置而旋转，并且，在从该干燥工序的开始时刻起经过规定时间以上的时刻，由气体供给单元...

本发明涉及一种基座、热处理装置及基座的制造方法。本发明提供一种能够提高衬底的面内温度分布的均一性的技术。在卤素灯从下方对由基座保持的半导体晶圆进行光照射而预备加热后，闪光灯从上方照射闪光。对位于立设于基座的保持板(75)的多根衬底支撑销...

本发明的预测算法生成装置具备：第一数据取得部，取得复数组第一数据集；以及第一决定部，将复数组第一数据集赋予至预先设定的第一函数并进行回归分析，由此决定第一参数；复数组第一数据集中的每一组包含第一处理结果以及第一处理条件，该第一处理结果是...

本发明提供一种能够使用测量出的膜厚分布适当地优化参数的技术。控制部(9)具有膜厚分布获取部(911)、切边宽度设定部(913)、特征量计算部(915)、成本值计算部(917)及参数确定部(919)。膜厚分布获取部(911)获取形成于基板...

通过来自卤素灯的光照射将附设有热电偶的TC晶片进行加热，由热电偶测定所述TC晶片的温度。使用电压转换表将由热电偶测定到的TC晶片的实际温度转换为电压值。在由发射温度计测定TC晶片时，取得从所述发射温度计输出的电压值。基于将TC晶片的实际...

本发明的基板处理方法包括：疏水化工序(步骤S6)，向设置于由基材(S)支撑的层叠构造(L)的凹槽(R)内供给疏水化剂(SMT)，该疏水化剂(SMT)使构成层叠构造(L)的复数个第1层(M1)及复数个第2层(M2)中的复数个第2层(M2)...

基板接合装置具备接合单元。接合单元包括：第一夹具11，保持第一基板W1；以及第二夹具21，保持第二基板W2；致动器机构，使第一夹具11与第二夹具21相对地动作，由此将被第一夹具11保持的第一基板W1与被第二夹具21保持的第二基板W2接合...

提供一种基板处理方法、基板处理装置、半导体装置的制造方法以及半导体制造装置，能够通过抑制或者减少发生膜缺陷而在短时间内高效地将致密性以及保护性能优异的自组装单分子膜成膜于基板的表面。本发明的基板处理方法包含：分散液生成工序S101，生成...

本发明提供一种对主面形成有抗蚀膜的基板进行处理的方法。本方法包含：喷嘴配置工序，将复数流体喷嘴朝向基板的主面配置；供给工序，向复数流体喷嘴供给水蒸气、臭氧气体及硫酸；及混合流体供给工序，从复数流体喷嘴向上述基板的主面供给水蒸气、臭氧气体...

该基板处理装置及基板处理方法一边向旋转的基板(W)的上表面供给处理液，一边利用照相机(84)拍摄基板(W)的周缘部。由此，能够拍摄基板(W)的周缘部的处理的状态。照相机(84)配置于腔室(30)的外部。因此，能够抑制在腔室(30)内的处...

提供一种有助于降低硫酸的使用量且可将基板上的有机层适当地去除的技术。基板处理方法具备保持工序(S1)、第一工序(S3)、第二工序(S4)及第三工序(S5)。保持工序(S1)是保持基板，该基板的主面形成有具有第一硬化层、非硬化层及第二硬化...

在显示从基于免疫染色法的染色图像检测出细胞区域的结果的图像显示方法中，画面的显示模式能够在第一显示模式和第二显示模式之间切换。在第一显示模式中，排列显示第一显示图像组，该第一显示图像组包含针对多个视野中的两个以上视野中的每一个使染色图像...

基板接合装置具备：第一夹具11，保持第一基板W1；第二夹具，保持第二基板；两个Z致动器18，在被第一夹具11保持的第一基板W1与被第二夹具保持的第二基板在铅垂的Z方向上相向的状态下，使第一夹具11在Z方向上移动，由此使被第一夹具11保持...

基板处理装置(100)包含喷嘴(3)、基板保持部(2)、液承接部(11)、排液机构(6)、及喷嘴移动部(5)。喷嘴(3)选择性地喷出包含酸性药液、碱性药液、及冲洗液的复数种处理液。基板保持部(2)保持基板(W)。液承接部(11)配置于基...

基板接合装置具备控制装置，控制装置基于通过第一照相机生成的第一对准标记AM1的图像，通过致动器机构使第一夹具以及第二夹具相对地动作，由此进行被第一夹具保持的第一基板与被第二夹具保持的第二基板的对准调整。控制装置在判定为第一对准标记AM1...

本发明涉及一种衬底搬送机器人、衬底处理系统以及衬底搬送机器人的控制方法。衬底搬送机器人具备：手，支撑水平姿势的衬底；进退部及直线移动部，使手沿水平方向移动；及机器人控制部。机器人控制部以手支撑在衬底的上表面形成着液膜的衬底，取得与液膜的...

本发明提供一种能够以较高的可靠性从混合液中分离出水的技术。本发明的有机溶剂回收装置具备回收配管(510)、第1脱水器(60)、切换部(50)及控制部。在回收配管(510)中流通有从处理单元(4)排出的有机溶剂与水的混合液。第1脱水器(6...

本发明涉及基板搬送装置及基板处理装置。基板搬送装置(IR)对基板(W)进行搬送。基板搬送装置具备：手部(11)、手部支承部(12)、和升降部(9)。手部支承基板。手部支承部支承手部。手部具有：基部(11B)、手部主体(11A)、和支承部...

本发明提供一种直接描绘装置及直接描绘方法，即使在光学调制元件存在不良情况的情况下也继续曝光。直接描绘装置包括：光学调制元件，具有与副扫描方向对应地排列的多个元件，并且用于调制光源的光；以及曝光头，用于利用由光学调制元件调制后的光对基板进...