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株式会社斯库林集团专利技术
株式会社斯库林集团共有1103项专利
光照射装置以及光照射方法制造方法及图纸
本发明提供一种即使在发生点图案的相位偏移的情况下也能够容易地应对的技术。光照射装置(1)向基材(W)的表面照射光。光照射装置(1)具有:载物台(42),保持基材;脉冲光源(31),输出规定周期的脉冲光;至少一个电流扫描器(357),利用...
衬底处理装置及衬底处理方法制造方法及图纸
本发明提供一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置(100)具备罐(50)、包含第1路径(C1)的路径(70)、加热器(61)、过氧化氢溶液供给路径(C3)及控制部(102)。第1路径(C1)从罐(50)将硫酸供给到喷嘴(36)。加...
基板处理装置制造方法及图纸
本发明提供一种基板处理装置。提供一种能够以更高的精度降低排气管中的压力变动的技术。基板处理装置具有塔、多个个别排气管、集合排气管、切换部、外部气体导入部以及控制部。塔包括在铅垂方向上排列设置的多个处理单元。切换部对多个个别排气管中的各个...
基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸
本发明提供能够对多个曝光装置进行灵活的搬运的基板处理装置以及基板处理方法。在接口部(20)中配置有多个搬运机械手和多个模块,所述接口部(20)将对基板进行曝光处理的前工序的处理的前处理部以及进行后工序的处理的后处理部与第一曝光装置(3a...
描绘数据生成装置、描绘系统以及描绘数据生成方法制造方法及图纸
描绘数据生成装置(6)生成对基板进行描绘的描绘装置(1)用的描绘数据。描绘数据生成装置(6)的图案数据变换部(62)从包含与所描绘的图案及字符相关的信息的矢量格式的设计数据中获取与图案相关的图案设计数据,并将该图案设计数据变换为栅格格式...
摄像装置制造方法及图纸
本发明提供一种摄像装置。在拍摄试样容器的摄像装置中,能将试样容器在预先确定的位置对其配置。摄像装置获得俯视时具有四边形状的板状的试样容器的图像。摄像装置具有载置台(12)、位置基准部件(15)和保持机构(16)。位置基准部件包括相互正交...
检查系统、教师数据生成装置、教师数据生成方法及存储介质制造方法及图纸
检查系统(1)包括:检查部(20),以不使用机器学习的方式检查对对象物进行拍摄而得到的图像来检测缺陷;分类部(52),具有预先生成的已学习模型,通过将表示缺陷的图像输入到已学习模型,对缺陷的缺陷类别进行分类;以及分类要否确定部(53),...
异常检测装置制造方法及图纸
本发明提供一种异常检测装置,能够检测出微小的处理异常,并通过检测出微小的处理异常来预测装置整体的故障。本发明是检测利用热处理装置(160)进行热处理的半导体晶圆(W)的处理异常的异常检测装置(2)。异常检测装置(2)具备:下部辐射温度计...
光学装置、曝光装置以及曝光方法制造方法及图纸
本发明的光学装置、使用该光学装置的曝光装置及曝光方法的目的在于,在使光的行进路径发生位移的技术中,既为简单的结构,又能够抑制像散差的增大并且能够进行位移量的调整。本发明的光学装置使输入光的行进路径发生位移并输出沿着与输入光的光路平行且不...
光掩模检查装置制造方法及图纸
本发明提供一种能够以更高的检测精度对光掩模进行检测的可靠性高的光掩模检查装置。光掩模检查装置包括:保持部、第一光源、第二光源、混合部、照明光学系统、成像光学系统、图像传感器、以及运算处理部。保持部保持光掩模。第一光源包括射出第一光的单一...
显影装置制造方法及图纸
本发明提供一种显影装置,能够有效地防止显影处理时产生的泡经由搬送辊而附着于基板表面。显影装置包括:搬送辊,具有轴向上的长度为轴向上的基板的长度以上的圆筒形状;喷嘴,设于搬送路径的上方且比搬送辊更靠下游侧的位置处,并朝向基板的上表面喷出显...
衬底处理方法及衬底处理装置制造方法及图纸
本发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。添加剂溶解于第1处理液。第1处理液包含碘化物离子(I
基板处理装置以及基板处理方法制造方法及图纸
一种基板处理装置以及基板处理方法,在腔室内的处理空间通过超临界状态的处理流体对基板进行处理,在腔室内比基板更靠下方的位置,配置对腔室内进行加热的加热器,将基板搬入至处理空间,并通过加热器进行加热,在将处理流体供给至处理空间并通过超临界状...
衬底处理方法及衬底处理装置制造方法及图纸
本发明提供一种衬底处理方法及衬底处理装置。在衬底处理方法中,从内槽(110)、外槽(120)、及循环配管(141)排出处理液(第1排液工序S1)。在排出处理液之后,经过新液供给口(185)而对内槽(110)重新供给处理液(第1供给工序S...
衬底处理装置制造方法及图纸
本发明涉及一种衬底处理装置。显影装置具备壳体、气流形成部及衬底保持装置。气流形成部在壳体的内部空间形成清洁的下降气流。显影装置还具备多个喷嘴及划分机构。多个喷嘴向由衬底保持装置保持的衬底供给处理液。划分机构在由衬底保持装置保持衬底的状态...
置换结束时间点的判定方法、基板处理方法以及基板处理装置制造方法及图纸
本发明的置换结束时间点的判定方法,在腔室内未存在置换对象液的干状态与在腔室存在有置换对象液的湿状态下分别根据规定的供给排出规程供给以及排出处理流体,一边将处理流体维持在超临界状态一边获取密度分布。在湿状态下的密度变得比干状态还大后,将两...
基板处理装置制造方法及图纸
本发明的显影装置具有多个喷嘴和多个配管。多个喷嘴向基板供给处理液。多个配管各自与多个喷嘴中的任一个连接,并向所连接的喷嘴供给处理液。显影装置具备支撑体和罩构件。支撑体支撑多个配管的一部分。罩构件容许从多个喷嘴向基板供给处理液并收纳多个喷...
光检测装置、光照射装置、以及光检测方法制造方法及图纸
本发明提供一种在利用照相机拍摄激光时,能够减轻盖玻璃的背面反射所导致的干涉条纹的产生的技术。光检测部(60a)能够检测激光。光检测部(60a)具有扩散板(61)和照相机(63)。扩散板(61)保持入射的激光(L1)的强度分布的形状并且使...
热处理装置制造方法及图纸
本发明的目的在于提供一种能抑制尾电流,且防止闪光灯的寿命变短的热处理装置。从闪光灯(FL)对保持在腔室内的半导体晶圆的表面照射闪光,将所述半导体晶圆加热。在闪光灯(FL)并联连接着GCT晶闸管(196)。在从闪光灯(FL)中开始流动电流...
曝光装置以及曝光方法制造方法及图纸
本发明的曝光装置以及曝光方法的目的在于,即使是没有形成对准标记的基板,也能够根据基板的形状适当地进行曝光。本发明的曝光装置具有:载物台,支撑处理对象的基板;曝光部,基于规定的曝光数据通过光束对基板的表面进行曝光并描画;移动机构,使载物台...
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