本发明涉及一种处理液供给装置及处理液供给方法。贮存部贮存处理液。供给配管将贮存部的输出部与衬底处理装置之间连接。循环配管将衬底处理装置与贮存部的输入部之间连接。泵将贮存部中贮存的处理液从输出部输出到供给配管内。排液部设置在循环配管，构成...

本发明的目的在于提供一种用简易的调整作业即能满足需求的涂布装置。精密石(15)经由调平块(16)设置在涂布支撑台(10)之上。精密石(15)通过精密加工花岗岩等石材而制成。精密石(15)的上表面的平面度为10μm以下。通过在该精密石(1...

本发明的检查系统的第一检查装置具有搬运机构、第一工作台、第一拍摄单元及第一检查部，执行自动检查，该自动检查包括：由搬运机构进行的向第一工作台上的对象物的搬运、由第一拍摄单元进行的第一工作台上的对象物的第一拍摄图像的获取及由第一检查部进行...

本发明提供一种能够提高衬底的面内温度分布的均匀性的技术。本发明涉及一种基座、热处理装置及基座的制造方法。在由卤素灯从下方对保持于基座上的半导体晶圆进行光照射而将其预加热之后，由闪光灯从上方对所述半导体晶圆照射闪光。在基座的保持板(75)...

本发明是一种衬底处理方法，所述衬底处理方法在处理腔室内由超临界状态的处理流体处理衬底，具备下述第1及第2工序。第1工序中，对收容着衬底的处理腔室的内部空间导入处理流体，作为加压到比临界压力低压的第1压力的气体，使内部空间升压到第1压力。...

本发明涉及信息处理方法和计算机程序。提供一种能够有效地减少文章生成模型输出包含机密信息的文章而导致的机密信息的泄漏的技术。信息处理方法包含：a)取得输入文本(21)的工序；b)根据在文档数据库(41)中登记的文档，取得与所述输入文本(2...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明的衬底处理装置具备：处理腔室，具有能够收容衬底的内部空间；供给部，对处理腔室供给处理流体；排出部，将处理流体从处理腔室排出；控制部，控制供给部及排出部，使内部空间的压力按照规定的处理配方而...

本发明的衬底处理装置具备：处理腔室，具有能够收容衬底的内部空间；供给部，能够将处理流体作为液体供给；加热部，将从供给部供给的液体的处理流体加热到处理流体的临界温度以上，使之转移到超临界状态；流路形成部，形成从流体供给部经过加热部到达处理...

本发明提供一种无论基板的主面的湿润性如何，均能抑制处理液被挡板溅起而附着于基板的主面的技术。基板处理装置具备基板保持部(2)、喷嘴(3)、挡板(7)、挡板升降驱动部(8)及控制部(90)。喷嘴(3)向由基板保持部(2)保持的基板(W)的...

本发明提供一种信息处理方法以及计算机程序产品，能够有效地减少文本中包含的机密信息的泄漏，并且对读者适当地公开信息。机密信息屏蔽部(31)取得包含应隐匿化的对象概念的处理对象文本(Y)。机密信息屏蔽部(31)取得表示处理对象文本(Y)的读...

本发明的衬底处理装置具备：第1供给部，对处理腔室供给处理流体，作为加压到比临界压力低压的第1压力的气体；第2供给部，供给比临界压力高压的第2压力的处理流体；导入流路，向处理腔室的内部空间导入处理流体；第1配管，经由第1阀将第1供给部与导...

一种区域选定辅助方法，具有以下工序：将通过免疫染色法得到的标本的染色图像分割成多个分割区域的工序(步骤S11)；对该多个分割区域的每一个区域，从包含醒目性不同的多个颜色的显示色组中分配一个显示色，使得随着分割区域中的染色细胞的聚集性变高...

信息处理装置用于管理基板处理装置，具有：预测算法获取部，获取预测算法，所述预测算法根据包括第一参数以及第二参数的处理条件预测基板处理装置按照处理条件所执行的处理的处理结果；处理条件生成部，生成暂时的处理条件；预测处理结果获取部，获取通过...

本发明提供能够适当监视基板搬送装置的技术。一种基板搬送装置的监视方法，其中，所述基板搬送装置的监视方法具有：拍摄工序，在基板搬送装置的手直线移动时，用相机拍摄保持于手的基板，获取包括3个以上的基板以圆形状或椭圆形状出现的帧数据的拍摄数据...

学习装置具有：实验数据获取部，获取第一数据集，该第一数据集包括在基板处理装置中执行的处理的处理条件以及该处理的处理结果；事前学习部，使学习模型机器学习第二数据集；以及学习模型生成部，使通过事前学习部机器学习过的学习完毕的学习模型机器学习...

提供一种基板处理方法、基板处理装置、半导体装置的制造方法以及半导体制造装置，能够通过抑制或者减少发生膜缺陷而在短时间内高效地将致密性以及保护性能优异的自组装单分子膜成膜于基板表面。本发明的基板处理方法包含：膜形成工序，使包含SAM分子的...

基板处理方法包括：准备在主表面具有含有包含磺酸基的聚合物的聚合物膜的基板的步骤；向上述基板的主表面供给氧化剂的氧化剂供给步骤；及通过上述聚合物膜中的上述磺酸基与上述氧化剂的反应产物来去除存在于上述基板的主表面的有机物的去除对象物质的有机...

本发明的基板处理方法是使用单片式清洗机并利用处理液去除基板表面的光阻剂膜的基板处理方法，在单片式清洗机内保持上述基板，使上述基板围绕与上述基板的面交叉的轴旋转，并且将硫酸溶液作为上述处理液释放至上述基板的表面，回收包含从上述基板脱离的光...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。本发明的衬底处理方法包括如下工序：将上表面由液膜覆盖的衬底以如下状态收容到处理腔室的内部空间中，所述状态是指所述衬底以水平姿势载置于平板状的支撑部件上的状态；使内部空间充满超临界状态的处理流体；...

基板处理方法包括：药液工序，向基板W的主面供给酸性药液；酸性冲洗工序，向基板的主面供给调整为酸性药液的pH以下的pH的酸性冲洗液，以置换基板的主面上的酸性药液；以及中性冲洗工序，向基板的主面供给pH比酸性冲洗液大的中性冲洗液，以置换基板...