本发明是提供一种通过抑制或减少膜缺陷的产生，从而能够在短时间内高效率地在基板表面形成致密性及保护性能优异的自组装单分子膜的基板处理方法及基板处理装置、以及半导体装置的制造方法及半导体制造装置。本发明的基板处理方法是在基板（W）的表面（W...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。衬底处理装置具备衬底保持部、浸渍槽、第1供给部及移动机构。衬底保持部保持衬底并使其旋转。浸渍槽贮存处理液，并且收容衬底使衬底浸渍在处理液中。第1供给部将处理液供给到浸渍槽。移动机构使衬底保持部与...

本发明提供一种通过抑制或减少膜缺陷的产生从而能够在短时间内高效率地在基板表面形成致密性及保护性能优异的自组织化单分子膜的基板处理方法及基板处理装置、以及半导体装置的制造方法及半导体制造装置。本发明的基板处理方法在基板（W）的表面（Wf）...

本发明的衬底处理装置具备腔室、衬底保持部及移动机构。腔室收纳衬底。衬底保持部配置在腔室内，逐片保持衬底。移动机构使衬底保持部移动。衬底保持部具有与衬底接触的夹盘销。移动机构在腔室内，使衬底保持部在通过处理液处理衬底的至少1个处理位置与洗...

本发明涉及一种衬底处理装置，所述衬底处理装置具备腔室、衬底保持部、及回转机构。腔室具有连通内部与外部供衬底搬入的第1开口，及连通内部与外部供衬底搬出的第2开口。衬底保持部配置在腔室内，逐片保持衬底。回转机构通过使衬底保持部回转，而在腔室...

本发明涉及一种衬底处理装置，具备第1衬底处理部与搬送机构。第1衬底处理部通过将铅直姿势的衬底浸渍于第1处理液，来逐片处理衬底。搬送机构接收水平姿势的衬底，将衬底的姿势从水平姿势变更为铅直姿势，并将铅直姿势的衬底搬入第1衬底处理部。第1衬...

本发明的衬底处理装置具备处理模块及搬送模块。处理模块具有上衬底保持部、多个处理杯部、移动机构及升降机构。上衬底保持部水平保持衬底。多个处理杯部排列在交叉方向上，所述交叉方向与衬底在搬送模块与处理模块之间移动的方向交叉。移动机构使上衬底保...

本发明涉及一种衬底处理装置，其具备腔室、衬底保持部、及回转机构。腔室具有使内部与外部连通且供衬底搬入及搬出的开口。衬底保持部配置在腔室内，逐片保持衬底。回转机构通过使衬底保持部回转，而在腔室内，使衬底保持部在利用处理液对衬底进行处理的多...

本发明的衬底处理装置具备处理模块及搬送模块。处理模块具有上衬底保持部、移动机构、处理杯列及升降机构。上衬底保持部水平保持衬底。移动机构使上衬底保持部在第1方向上移动，所述第1方向是与衬底在搬送模块与处理模块之间移动的方向平行的方向。处理...

本发明的基板处理装置包含：处理液贮存部、流入配管、至少1个循环配管、泵、过滤部、压力调整阀及控制部。前述处理液自前述处理液贮存部流入至前述流入配管。前述至少1个循环配管的上游端连接于前述流入配管，下游端连接于前述处理液贮存部，使前述处理...

为了对基板处理装置效率良好地进行零件姿势的辨识，基于对象零件的设计信息，对于沿着包围对象零件的3D模型的虚拟球面的复数个虚拟面中的复数个第1虚拟相机位置的各者，取得3D模型的二维形状相关的参照形状信息。对于各第1虚拟相机位置，算出实际图...

本发明收集与基板处理装置的装置状态相关的信息，基于该状态信息判定是否能够对装置内的部位进行操作。若对该部位进行操作会有危险时，判定为不可对该部位进行操作。智能型眼镜的显示部基于判定结果，对所述经判定的部位中作业者看得见的部位（可视认部位...

本发明涉及基板处理装置以及基板处理方法。处理基板的基板处理装置包含：处理罐，其贮存用于对基板进行蚀刻的蚀刻液；基板支架，其保持基板，并将基板浸渍于贮存在处理罐的蚀刻液；蚀刻液供给部，其配置于处理罐，并向处理罐的内部供给蚀刻液，蚀刻液供给...

提供一种可有效地降低图案的倒塌率的技术。基板处理方法具备保持工序、液体供给工序、干燥液供给工序及干燥工序。在保持工序中，保持具有形成有图案的第1主面及与第1主面相反侧的第2主面的基板。在液体供给工序中，对基板的上述第1主面供给处理液。在...

基板接合装置1具有：等离子体处理单元2p；负载锁定室12，被搬入应在等离子体处理单元2p处理的基板W；解除负载锁定室14，被搬入已经被等离子体处理单元2p处理过的基板W；第一搬运机器人R1，将第一基板W1以及第二基板W2同时搬入负载锁定...

在基板W上形成有凹部95。凹部95的宽度比凹部95的深度短。在侧面95s的上部的至少一部分以及侧面95s的下部的至少一部分露出表示单晶硅、多晶硅以及非晶硅中的至少一个的蚀刻对象物。通过将溶解了非活性气体的碱性的第一蚀刻液供给至基板W，对...

本发明提供一种评价基于免疫染色法的标本的染色条件的染色条件评价方法，具有：在一个染色条件对试验标本赋予一次抗体的工序（步骤S11）；在步骤S11之后对该试验标本赋予二次抗体和显色剂的工序（步骤S12）；在步骤S12之后使该试验标本上的一...

提供一种可降低基板的周缘部的图案的倒塌率的技术。本发明的基板处理方法包含保持工序、液处理工序、及干燥工序。在保持工序中，保持基板。在液处理工序中，对基板（W）的第1主面（Wa）供给处理液。在干燥液供给工序中，在液处理工序之后，使基板（W...

基板接合装置1具有：等离子体处理单元2p；负载锁定室12，被搬入应在等离子体处理单元2p处理的基板W；解除负载锁定室14，被搬入已经被等离子体处理单元2p处理过的基板W；第二搬运室13；真空泵；第二搬运机器人R2，将基板W从负载锁定室1...

染色条件评价方法具有：在第1染色条件下对试验标本赋予第1一次抗体的工序（步骤S11）；拍摄试验标本而取得第1图像的工序（步骤S13）；在第2染色条件下对试验标本赋予第2一次抗体的工序（步骤S15）；拍摄试验标本而取得第2图像的工序（步骤...