本发明提供一种基板处理装置和基板处理方法，其能够提高基板处理装置的吞吐量。本发明涉及基板处理装置和基板处理方法。基板处理装置具备装载部、滑动部、桥部、第一前部及第一后部。装载部、滑动部和桥部以该顺序在前后方向上排列。第一前部、桥部和第一...

本发明提供一种衬底处理方法及衬底处理装置，在对有伤痕的衬底照射闪光时也能够防止衬底破裂。作为闪光加热处理的预处理，对半导体晶圆的背面供给氢氟酸而对该背面进行蚀刻处理。由此，能够缓和作用于半导体晶圆的背面上存在的伤痕的残留应力。然后，对半...

本发明提供一种可对被检查物照射更均匀的光的检查装置。检查装置（1）包括：光源（11）、第一光导（12）、均化器（14）、傅立叶变换透镜部（13）、照明光学系统（17）、测定台、成像光学系统（21）、以及图像传感器（25）。光源（11）射...

基板处理方法包含：液膜形成步骤，向基板W的正面供给包含升华性物质的升华性物质含有液，由此在基板W的正面形成升华性物质含有液的液膜；固化膜形成步骤，使升华性物质含有液的液膜在基板W的正面变成包含升华性物质的固化膜SF；升华步骤，使固化膜S...

本发明提供一种光学装置，使输入光的行进路线位移，输出沿着与输入光的光路平行且不相同的光路的输出光，该光学装置具备：第1棱镜体和第2棱镜体，其分别具有相互不平行的入射面和出射面；以及位移量调整机构，其使它们之间的距离变化，调整光的位移量。...

本发明提供即使流量发生变动的情况下，也能够使微泡的生成效率稳定的技术。本发明提供微泡生成器、具有微泡生成器的处理液供给装置以及基板处理装置，该微泡生成器(1)具有第一管部(21)、第二管部(23)、狭窄管部(24)、旋转流形成部(26)...

本发明提供一种即使在液体的流量发生变动的情况下，也能够使微泡的生成效率稳定的技术。本发明提供微泡生成器，具有微泡生成器的处理液供给装置和基板处理装置，所述微泡生成器(1)具有：第一管部(21)；第二管部(23)，位于比第一管部(21)更...

本发明提供一种温度测量用晶圆及使用该温度测量用晶圆的基板处理系统，能够提高运转效率并在更高的温度条件下使用。温度测量用晶圆(1)具备温度传感器(3)、发送部(8)和电池基板(7)。发送部将温度传感器测量出的温度测量对象的温度数据以无线方...

本发明提供光源装置(3)以及具有该光源装置(3)的检查装置(1)，所述光源装置(3)具有：激光二极管封装件(31)，内置有激光二极管芯片(311)；保持单元(32)，具有内部流路(321)，以激光二极管封装件(31)的一部分露出到内部流...

本发明提供一种基板处理装置，其适当地供给处理液。基板处理装置(1)具备前块(3)、箱体部(4)和后块(5)。前块(3)具备腔室(6)。后块(5)具备腔室(8)。箱体部(4)具备处理液容器(71a)、配管(72Fa)和送液部(79Fa)。...

本发明提供一种基板处理装置，其以能够充分承受基板旋转的吸附力吸附保持基板，并利用处理液进行处理。在本发明中，吸盘主体的吸附区域被密封件的环状弹性部包围。在基板的下表面中央与吸盘主体的吸附区域抵接之前，环状弹性部包围基板的下表面中央并且追...

本发明提供一种基板处理装置，消除处理液在处理槽内流动的速度的偏差，进一步抑制基板面内的处理不均。基板处理装置(100)具备外侧气泡产生管(31、32)和内侧气泡产生管(33、34)，外侧气泡产生管(31、32)和内侧气泡产生管(33、3...

提供能够降低对基板进行位置限制的销对处理带来的影响的基板处理装置及基板处理方法。在基板处理装置(100)中，在设于底板(11)的多个位置限制销(13)中包含静止销(13a)和滑动销(13b)。静止销在其配置于限制位置(P2)的状态下，与...

本发明提供拍摄装置(2)，其中，第一照明部(3)配置在与印刷基板(9)上的拍摄区域(90)垂直的光轴(J1)上，具有形成有覆盖拍摄区域的穹顶状的内表面(311)并且设置有开口部(310)的照明部主体(31)，并从该内表面向拍摄区域照射第...

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，即使上升流流量变多，也进一步抑制基板面内的处理不均。基板处理装置(100)具备控制部，其基于第二流量控制机构(7)所控制的处理液的流量来控制第一流量控制机构(6)，使得向第一气体供给管(51、...

本发明提供一种能够确认用于驱动空间光调制器的时序信号是否合适的技术。曝光装置具有时序信号生成部(52)、时序信号测量部(56)。时序信号生成部(52)基于根据基板的移动从编码器(29)输出的脉冲信号(Sp),生成用于驱动空间光调制器(3...

本发明涉及一种衬底处理装置及衬底处理方法。提供一种能够降低衬底受到金属污染的可能性并且对衬底进行处理的技术。衬底处理装置具备带电单元(20)及处理单元(30)。带电单元(20)包含使衬底(W)的第1主面(Wa)带正电的带电器(21)。处...

本发明提供能够简便地再现按基板处理工厂而不同的配管压力损失的处理液供给单元的调整方法、压力损失调节单元及基板处理装置。在基板处理装置中，基板处理单元(100)与处理液供给单元(200)通过送液配管(50)连接。在送液配管上插入有压力损失...

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够抑制因处理基板的处理液与清洗过滤器的处理液混合而引起的不良情况。基板处理装置(100)具备：循环配管(21)，其包括分支为第1分支配管和第2分支配管这两个配管的部分；过滤器(53)，其至少...

本发明提供一种衬底处理装置及衬底处理方法，能够降低排液配管堵塞的风险，且能够减少液体消耗量，从而有助于降低环境负荷及运转成本。本发明的衬底处理装置包含：膜片排出部，利用第1液体将从衬底的表面剥离的处理膜的膜片引导到排液配管；第2液体供给...