本发明提供一种能够适当地获取对象物的荧光图像及反射光图像的新型的拍摄装置。该拍摄装置(2)具有：载物台(21)，保持对象物；第一射出部(3)，射出紫外光即第一射出光；第二射出部(4)，射出波长区域与紫外光不同的光即第二射出光；十字分色棱...

本发明提供一种基板拍摄装置、基板处理装置、基板拍摄方法以及基板处理方法。基板拍摄装置具备照明部、拍摄部以及控制部。照明部向由基板保持装置保持的基板的上表面照射照明光。拍摄部对被照射了照明光的基板的上表面进行拍摄。基于拍摄部的输出，取得表...

本发明涉及处理液供给装置、基板处理系统、处理液供给方法及基板处理方法。基板处理装置选择性地转变为不向对基板进行处理的处理部导入处理液的准备状态和通过向处理部导入处理液而能够执行基板处理的执行状态。在处理液供给装置中，处理液通过循环配管而...

本发明涉及一种位置检测装置，在上述反射光的光量分布中检测出峰间距离比预先设定的规定间隔大的两个以上的山部时，膜位置检测部将该两个以上的山部中的与在上下方向上最上侧对应的一个山部(78)的峰值(781)作为与膜反射光对应的山部的峰值即选择...

本发明提供一种基板处理装置，在使基板浮起并沿规定的搬送方向搬送基板，并且，向所述基板的上表面供给抗蚀剂液等处理液的基板处理装置中，以低成本且迅速地应对搬送方向上的基板尺寸的变更。在本发明中，上游浮起平台沿搬送方向排列有第一浮起板群组以及...

本发明提供一种基板处理方法，能够适当地处理基板。本发明涉及处理基板(W)的基板处理方法。基板处理方法具备显影工序、处理液供给工序、固化膜形成工序及升华工序。在显影工序中，向基板(W)供给显影液(53)。在处理液供给工序中，向基板(W)供...

本发明在对基板供给显影液并进行显影处理的显影装置及显影方法中，在罐内有效率地消除因向罐内回收显影液而产生的泡，从而提高显影装置的运转率。在本发明中，由于第一罐内的显影液被循环供给，因此泡因显影液返回至第一罐而被导入至第一罐内。对所述泡供...

本发明提供一种可基于所测量的膜厚分布来适当地评价涂布膜的涂布膜评价方法、涂布膜评价装置及记录媒体。边缘切割宽度设定部设定第一边缘切割宽度及第二边缘切割宽度。特征量算出部获取膜厚分布中的除第一边缘切割宽度的边缘区域的膜厚以外的分布的第一特...

本发明提供一种可精度良好地对形成在基板上的涂布膜的膜厚进行推定的膜厚推定装置、膜厚推定方法及计算机程序。第一编码器部将膜厚数据作为输入，输出第一潜在变量。解码器部将第一潜在变量作为输入，输出经重构的膜厚数据。第二编码器部将工艺参数作为输...

提供一种可以更高的监视精度监视监视对象物的技术。监视处理基板的基板处理装置的腔室内的监视对象物的监视方法包含图像生成工序、及监视工序。在图像生成工序中，监视用的相机接收来自包含腔室内的复数个监视对象物中的至少一个第1监视对象物的监视区域...

显示控制信息生成装置的控制信息生成部基于缺陷候选信息，生成检查区域的复数个缺陷候选所涉及的显示控制信息。缺陷候选信息的复数个缺陷候选数据要素分别包括缺陷候选位置和适合率。缺陷候选位置表示从通过对基板基于规则的一次检查检测出的临时缺陷候选...

本发明涉及一种衬底搬送装置及具备其的衬底处理系统以及衬底处理装置。本发明的干燥衬底用手部具备：第1分支叶片；一对基端引导件，设置在第1分支叶片的基端部，与衬底端部接触；及一对末端引导件，设置在第1分支叶片的末端部，与衬底端部接触；浸湿衬...

本发明涉及一种衬底处理系统(10)，具备：衬底处理装置(1)，对衬底供给处理液；供给部(200)，将处理液引导到衬底处理装置(1)；及热回收部(40)，从自衬底处理装置(1)排出的排液回收热量。供给部(200)具备：调温部(20)，使处...

本发明提供一种衬底处理装置，能够以低能量从药液与有机溶剂的混合液中分离出药液。衬底处理装置具备处理单元、回收配管(60a)、及回收单元(6)。处理单元使药液与有机溶剂的混合液作用于衬底的主面。回收配管(60a)具有连接于处理单元的上游端...

基板处理装置（100）具备基板保持部（120）、处理液供给部（160）、输入信息取得部（22a）、升华干燥处理条件信息取得部（22b）以及控制部（22）。输入信息取得部（22a）取得输入信息，输入信息包含基板信息以及处理液信息中的至少一...

基板处理方法包含：浸渍工序，使基板浸渍于被收容在腔室内的处理槽内的第一处理液；露出工序，使所述基板从所述第一处理液露出至所述腔室内的氛围；压坏工序，将所述腔室内减压，将覆盖露出至所述氛围的所述基板的表面的所述第一处理液的液膜所含有的细微...

本发明提供一种基板处理装置，可在使热处理板滑动移动时避免滑动阻力过度变大。引导板（151）固定于主体框架（11），且沿X方向延伸。第一板（153）能够相对于引导板（151）沿X方向滑动移动。第二板（155）相对于热板（20）固定，且能够...

本发明提供基板处理方法及基板处理装置。基板处理装置（1）具备：步骤S2（浸渍过程），使将铅垂姿势的基板（W）沿水平方向排列而构成的基板列浸渍于硫酸；步骤S3（提起过程），将基板列整体从硫酸提起；以及步骤S5（喷雾供给过程），向提起后的基...

基板接合装置1具有：等离子体处理单元2p，配置在保持多个承载器CA的多个装载口LP的后方，且对从被多个装载口LP保持的多个承载器CA搬运的基板W进行等离子体处理，该多个承载器CA收容多片基板W且在俯视观察时在左右方向LR上排列；清洗单元...

为了效率良好地进行零件姿势的辨识，基于1个以上的对象零件中的搜索对象零件的三维设计信息、与规定预先设定的对于对象零件的虚拟相机位置的1个以上的初始设定范围的设定范围信息，针对沿包围搜索对象零件的3维模型的复数个虚拟球面而配置且与由设定范...