将废液简单地再利用为包含硫酸以及过氧化氢水溶液的处理液。基板处理装置具有：喷嘴，将第一含硫酸液体以及过氧化氢水溶液作为处理液向基板供给；第一槽，贮存向喷嘴供给的第一含硫酸液体；电解路径，该电解路径是使对基板进行处理后的处理液即废液接受电...

本发明提供一种技术，该技术在制造多层布线基板的情况下，能够减轻各层间的图案的偏移并且能够减少形成于最外层的图案和设计上的图案的差异。曝光装置(100)具有：载物台(2)，保持形成有基准标记的基板W；基准标记检测部(711)，检测形成于基...

本发明的刷单元包括刷和保持刷的刷支架。刷包含：海绵状的清洗部，其在对基板进行清洗时与基板接触；以及支承清洗部的清洗支承部，其具有比清洗部高的硬度，且以与清洗部接触的方式设置。刷支架构成为，能够保持清洗支承部且借助清洗支承部将清洗部按压于...

本申请的发明涉及一种衬底处理方法及衬底处理装置。衬底处理方法包括液体处理工序，该液体处理工序是由在衬底的下表面中央部保持所述衬底的中央吸盘将所述衬底保持为水平状态，同时向所述衬底的表面供给处理液。所述衬底处理方法包括干燥工序，该干燥工序...

基板处理装置具备第1基板保持部(2)、至少一个喷嘴(3)、混合部(30)、供液管(42)及控制部(90)。喷嘴(3)将处理液喷出至第1基板保持部(2)所保持的基板W的主面。混合部(30)将聚合物与有机溶剂混合所得的保持液供给到至少一个喷...

在图案描绘装置中，通过使先行照射区域组(821)与主扫描方向平行地移动，对基板上的先行条带区域(831)进行光的照射。通过使后续照射区域组(822)与主扫描方向平行地移动，对与先行条带区域(831)相邻且在重复区域(833)部分地重叠的...

本发明涉及基板处理装置，其具备基板保持装置、刷装置、刷保持部、待机舱及刷形状检测部。刷装置包括刷，能够相对于刷保持部装拆。刷保持部在预先确定的移动路径上移动。刷形状检测部具有对刷的形状进行检测的检测区域。移动路径以从在俯视观察下与刷形状...

顺畅地进行电解硫酸的冷却。基板处理装置具有：基板处理部，其用于使用包含电解硫酸的处理液对基板进行处理；供给槽，其用于将处理液一边升温一边向基板处理部供给；生成部，其用于通过电解生成处理液，并将所生成的处理液向供给槽供给；以及回收部，其用...

基板处理装置(100)具备处理用腔室(11)、处理用第一传感器(50)以及第一控制部(102)。处理用第一传感器(50)检测处理用腔室(11)内或处理用腔室(11)的周围的处理时第一位置处的风速及风向中的至少一方。第一控制部(102)对...

高效进行各种基板处理。基板处理装置具有：第一阀，其设置于向供给槽供给第一处理液的第一配管；第二阀，其设置于从基板处理部将第一处理液回收至生成部的第二配管；第三阀，其设置于从供给源向供给槽供给第二处理液的第三配管；以及第四阀，其设置于使第...

一种基板处理装置，包含：处理槽，其具有划分内部空间的壁，该内部空间贮存处理液；升降机，其保持基板并浸渍于处理液；多个处理液喷嘴，其从处理槽内的不同的多个位置分别向处理槽的内部空间喷出处理液；加热器，其具有对壁的不同的多个区域分别进行加热...

本发明的课题在于通过使喷出处理液的狭缝喷嘴沿着由保持部保持的基板的上表面相对移动来涂布处理液，并且提高对所述狭缝喷嘴实施维护处理的涂布装置的通用性。本发明的涂布装置将一对导轨安装于基台，所述一对导轨用于使安装有第一维护部及第一狭缝喷嘴的...

本发明提供能够以高均匀性处理基板的基板处理装置。基板处理装置（1）具备处理槽（2）、基板保持部（3）、鼓泡部（5）以及控制部（9）。处理槽贮存处理液。基板保持部在处理槽的内部以基板（W）立起的状态保持基板。鼓泡部包括：一个以上的横向喷出...

基板处理装置包括装置主体和回收槽。所述装置主体包括：向基板供给处理液并对所述基板进行处理的基板处理部；使从所述基板处理部排出的所述处理液流通的回收配管及排液配管；将从所述基板处理部排出的所述处理液的排出目的地在所述回收配管与所述排液配管...

本发明提供一种支援方法、记录介质及支援系统，可进行考虑了异方差观测噪声的并行贝叶斯最优化。支援方法是对搜索使目标变量的期待值最大化或最小化的说明变量的值进行支援的方法。支援方法包括：从第一机器学习模型输出目标变量的期待值的预测分布即第一...

本发明提供一种支援方法、记录介质及支援系统，可容易地对目标变量的期待值与方差之间的权衡进行控制。支援方法包括：接受异方差获得函数中所包含的风险规避系数的值的设定的系数设定步骤；以及基于目标变量的期待值的预测分布即第一预测分布、目标变量的...

本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，在进行需要对负载部施加交流电压的基板处理时，进行更严格的控制。本发明的基板处理装置具有：接通信号生成部(22)，其周期性地输出接通信号；以及继电器控制部(23)，其在被输入了随时间比半波时间短...

使用电解硫酸来进行均匀的基板处理。基板处理装置具有：基板处理部，其用于使用包含电解硫酸的处理液来处理基板；供给槽，其用于贮存向基板处理部供给的处理液；生成部，其用于通过电解生成处理液，并将所生成的处理液供给至供给槽；回收部，其用于回收供...

本发明提供在将基板相对于载置台定位在规定位置的状态下利用吸附盘将该基板吸附保持于载置台的基板保持装置、使用该基板保持装置的基板处理装置中以及基板保持方法，能够防止来自吸附盘的灰尘的产生和吸附盘的磨损。本发明的基板保持装置具有：载置台，具...

基板处理装置向基板供给药液而对基板进行处理。上述基板处理装置具备具有作为被疏水化的面的疏水化面的对象部件。上述疏水化面是曝于作为从药液产生的雾沫的第1雾沫或从上述药液产生的雾气的面，是不会设想与上述药液或上述药液的飞沫接触的面。