基板清洗装置以及基板清洗方法制造方法及图纸

基板清洗装置包括第1清洗用具、第2清洗用具、荷载调整部以及控制装置。第1清洗用具清洗基板的第1面。第2清洗用具清洗基板的与第1面相反的第2面。荷载调整部调整由第1清洗用具或第2清洗用具对基板施加的荷载。控制装置控制荷载调整部，以使在俯视观察时的第1清洗用具与第2清洗用具之间的清洗用具间距离大于预先规定的第1距离阈值的情况下，对基板施加第1荷载，在清洗用具间距离为第1距离阈值以下的情况下，对基板施加比第1荷载大的第2荷载。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及将基板清洗的基板清洗装置以及基板清洗方法。

技术介绍

1、为了对液晶显示装置或有机el(electro luminescence，电致发光)显示装置等中所使用的fpd(flat paneldisplay，平板显示器)用基板、半导体基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板、光罩用基板、陶瓷基板或太阳电池用基板等各种基板进行各种处理，而使用基板处理装置。为了将基板清洗，而使用基板清洗装置。

2、例如，专利文献1记载了包括第1清洗体以及第2清洗体的基板处理装置。该基板处理装置中，在基板通过旋转夹头进行旋转的状态下，基板的上表面以及下表面由第1清洗体以及第2清洗体分别清洗。第1清洗体以及第2清洗体以将基板的重复位置清洗的方式同步移动。

3、专利文献1：日本特开2019－106531号公报

技术实现思路

1、根据专利文献1所述的基板处理装置，通过抑制基板的挠曲，能够将基板强力清洗。但是，由于需要使第1清洗体和第2清洗体同步移动，所以无法使第1清洗体和第2清洗体彼此独立移动，限制了本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板清洗装置，其中，具有：

2.如权利要求1所述的基板清洗装置，其中，

3.如权利要求1或2所述的基板清洗装置，其中，

4.如权利要求3所述的基板清洗装置，其中，

5.如权利要求3或4所述的基板清洗装置，其中，

6.如权利要求5所述的基板清洗装置，其中，

7.如权利要求1至6中任一项所述的基板清洗装置，其中，

8.如权利要求7所述的基板清洗装置，其中，

9.如权利要求1至8中任一项所述的基板清洗装置，其中，

10.如权利要求9所述的基板清洗装置，其中，</p>

11.一...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种基板清洗装置，其中，具有：

2.如权利要求1所述的基板清洗装置，其中，

3.如权利要求1或2所述的基板清洗装置，其中，

4.如权利要求3所述的基板清洗装置，其中，

5.如权利要求3或4所述的基板清洗装置，其中，

6.如权利要求5所述的基板清洗装...

【专利技术属性】
技术研发人员：冲田展彬，中村一树，冈田吉文，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：