基板处理装置及基板处理方法制造方法及图纸

本发明专利技术提供基板处理装置及方法，在相对于基板移动的狭缝喷嘴的前方侧配置有喷嘴防护件的基板处理装置中，能够采取对策诸如对在喷嘴防护件上附着有异物的状态下用狭缝喷嘴向基板涂敷处理液的情况防患于未然。在本发明专利技术的基板处理装置及基板处理方法中，一边在使狭缝喷嘴的喷出口接近基板的表面的状态下从喷出口喷出处理液，一边使狭缝喷嘴及板状的喷嘴防护件相对于基板相对地移动，从而，一边利用在狭缝喷嘴相对地移动的相对移动方向上设置于狭缝喷嘴的前方侧的喷嘴防护件防止异物向狭缝喷嘴附着，一边向基板的表面涂敷处理液。在如此涂敷处理液之前，检测异物向喷嘴防护件的附着。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种从狭缝喷嘴向液晶显示装置或有机el显示装置等fpd(flatpanel display：平板显示器)用玻璃基板、半导体晶片、光掩模用玻璃基板、滤光片用基板、记录盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸用基板等精密电子装置用基板、半导体封装用基板(以下，简称为“基板”)供给并涂敷处理液的基板处理技术。

技术介绍

1、已知一种基板处理装置，其通过使具有狭缝状的喷出口的狭缝喷嘴相对于基板相对移动并从狭缝喷嘴喷出处理液，从而在基板上涂敷处理液。例如，在日本特开2006-102609号公报所记载的装置中，在用载物台的载物台面保持基板的状态下，使狭缝喷嘴在该载物台面的上方移动并涂敷处理液。另一方面，在日本特开2011-212544号公报所记载的装置中，在使狭缝喷嘴在载物台的载物台面的上方定位于规定的涂敷位置的状态下，以所谓的浮起方式移动基板。更详细地讲，利用由通过设置于载物台面的气体孔的气流在载物台面上形成的压力气体层使基板浮起，并使该基板移动以使其通过由狭缝喷嘴和载物台面夹着的涂敷区域，涂敷处理液。如此，虽然基板的搬运方式不同，但在任一装置中均设有喷嘴防本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种基板处理装置，向基板的表面涂敷处理液，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

6.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

7.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

8.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

9.根据权利要求1至6中任一项所述的基板处理装置，...

【技术特征摘要】

1.一种基板处理装置，向基板的表面涂敷处理液，其特征在于，

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

4.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，其特征在于，

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【专利技术属性】
技术研发人员：川岸棱也，大宅宗明，高村幸宏，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：