【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于对半导体基板、液晶显示用或者有机el(electroluminescence；电致发光)显示装置等fpd(flat panel display；平面显示器)用基板、光掩模用玻璃基板、光盘用基板等各种基板进行规定的处理的基板处理装置。
技术介绍
1、以往，作为这种装置，有一种具有批量(batch)式模块以及单片式模块的装置(例如参照专利文献1)。批量式模块对复数片基板一并进行规定的处理。单片式模块一片一片地对基板进行规定的处理。批量式模块以及单片式模块分别具有独自的优点。例如，单片式模块的干燥处理中的微粒性能比批量式模块高。因此，作为具有批量式模块以及单片式模块的装置，能考虑下述结构：在批量式模块中进行液体处理后，在单片式模块中进行干燥处理。
2、在专利文献1所记载的装置中，进行干燥处理的单片式腔室在水平方向上排成一列。在设置有复数个单片式腔室中的任一个单片式腔室中对批量处理后的基板实施干燥处理。即，批量处理后的基板被能够在单片式腔室的排列方向上移动的搬运机构搬运，并被导入至能够接收基板的单片式腔室。当结束批量处理时，复数片基板变为等待干燥处理的状态。单片式腔室仅能一片一片地进行基板的干燥处理。因此，专利文献1所记载的装置以提高处理量的目的将复数个单片式腔室搭载于装置，并同时对不同的基板进行干燥处理。在专利文献1所记载的装置中，为了快速地结束对于复数片基板的干燥处理，只要将尽可能多的单片式腔室在水平方向上排列成一列即可。
3、现有技术文献
4、专利文献
5、专利
技术实现思路
1、专利技术要解决的课题
2、然而，具有这种结构的以往的装置存在下述问题。
3、即，在以往的装置中，若增设单片式腔室，则增设的数量将导致装置大型化。根据以往的结构，当增设单片式腔室时，由于仅将单片式腔室在水平方向上排列成一列，因此，单片式腔室的数量会导致基板处理装置的长度延伸。在基板处理装置中能容许的长度是存在限度的。由于这种限度，根据以往的结构只能限定单片式腔室的数量。根据这种装置，单片式腔室的处理速度会变成装置整体的处理速度中的瓶颈，处理整体的处理量低。
4、本专利技术鉴于这种情况而提出，提供一种基板处理装置，抑制装置的尺寸，并使所配置的单片式腔室的个数增加，从而改善处理量。
5、用于解决课题的手段
6、本专利技术为了实现这种目的，采用下述结构。
7、(1)一种基板处理装置，用于连续地进行一并处理复数片基板的批量处理以及一片一片地处理基板的单片处理，其特征在于，所述基板处理装置具有：供给区块，供给复数片基板；移载区块，与所述供给区块邻接；以及处理区块，与所述移载区块邻接；所述供给区块具有一并搬运机构，所述一并搬运机构从承载器搬出水平姿势且在铅垂方向上以规定间隔排列的复数片基板并送出至所述移载区块中的去路用基板交接位置，从所述移载区块中的返路用基板交接位置接取水平姿势且在铅垂方向上以所述规定间隔排列的复数片基板并容纳于所述承载器；所述移载区块具有：第一姿势转换机构，一并保持在所述去路用基板交接位置待机的复数片基板，并将复数片基板的姿势一并从水平姿势转换成铅垂姿势；以及铅垂基板支撑构件，使成为铅垂姿势的复数片基板在所述移载区块中的铅垂基板交接位置待机；所述处理区块具有：批量处理区域，一端侧与所述移载区块邻接，另一端侧向远离所述移载区块的方向延伸；单片处理区域，一端侧与所述移载区块邻接，另一端侧向远离所述移载区块的方向延伸；单片基板搬运区域，夹设于所述批量处理区域与所述单片处理区域之间，一端侧与所述移载区块邻接，另一端侧向远离所述移载区块的方向延伸；以及批量基板搬运区域，沿着所述批量处理区域设置，一端侧与所述移载区块邻接，另一端侧向远离所述移载区块的方向延伸；在所述处理区块中的所述批量处理区域，在所述批量处理区域延伸的方向上排列有一并浸渍处理复数片基板的复数个批量处理槽，而且，在最远离所述移载区块的位置具有：第二姿势转换机构，将复数片基板的姿势一并从铅垂姿势转换成水平姿势；以及水平基板支撑构件，使成为水平姿势的复数片基板在所述批量处理区域中的水平基板交接位置待机；在所述处理区块中的所述单片处理区域，在铅垂方向上排列有进行基板的干燥处理的复数个干燥腔室，而且，在所述处理区块中的所述单片处理区域具有将干燥处理前的基板搬入至所述干燥腔室的基板搬入机构；在所述处理区块中的所述单片基板搬运区域具有：单片基板交接机构，从所述水平基板交接位置接取水平姿势的基板，并将基板移交至所述单片处理区域；以及基板搬出机构，从所述干燥腔室将干燥处理后的基板搬出至所述移载区块中的所述返路用基板交接位置；在所述处理区块中的所述批量基板搬运区域具有批量基板搬运机构，所述批量基板搬运机构在设定于所述移载区块内的所述铅垂基板交接位置、各所述批量处理槽以及所述第二姿势转换基构之间一并搬运复数片基板。
8、[作用效果]根据上述的(1)的专利技术，从以水平姿势容纳复数片基板的承载器一并取出基板，并通过第一姿势转换机构将基板的姿势一并从水平姿势转换成铅垂姿势。接着，在保持着铅垂姿势的状态下，复数片基板被批量处理区域实施批量处理。在实施了批量处理后，通过第二姿势转换机构将基板的姿势一并从铅垂姿势转换成水平姿势。之后，在保持着水平姿势的状态下，基板被单片处理区域实施单片处理。具体而言，单片处理包含基板干燥处理。在本专利技术的单片处理区域具有将干燥处理对象的湿漉的基板搬运至干燥腔室的基板搬入机构，而且，具有从干燥腔室搬出干燥处理后的干燥的基板的基板搬出机构。通过这种构成，由于能以不同的机构来实现基板相对于干燥腔室的搬入以及搬出，因此，基板的搬运不会在干燥腔室的周边停滞。根据本专利技术，由于干燥腔室在铅垂方向上层叠，而且，以干燥腔室周边的基板搬运变得顺畅的方式构成，因此，能提供在与以往的装置相同的地面面积搭载更多的干燥腔室的基板处理装置。
9、本专利技术还具有下述特征。
10、(2)在(1)所述的基板处理装置中，其特征在于，所述基板搬入机构从所述单片基板交接机构接取基板。
11、[作用效果]根据上述的(2)的专利技术，用于将基板搬入至干燥腔室的基板搬入机构从位于批量处理区域的单片基板交接机构接取基板。根据这种结构，能将基板搬入机构配置于远离批量处理区域的位置。因此，根据(2)的专利技术，能在基板搬入机构的周围设置复数个干燥腔室的层叠体，从而能提供处理量高的基板处理装置。
12、(3)在(1)所述的基板处理装置中，其特征在于，在所述单片处理区域具有进行干燥处理的前处理的基板干燥前处理腔室；所述单片基板交接机构将基板送出至所述基板干燥前处理腔室；所述基板搬入机构从所述基板干燥前处理腔室接取基板。
13、[作用效果]根据上述的(3)的专利技术，单片基板交接机构将基板送出至基板干燥前处理腔室；基板搬入机构从基板干燥前处理腔室接取基板。根据这种结构，由于无需在基板搬入机构与单片基板交接机构之间本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种基板处理装置，用于连续地进行一并处理复数片基板的批量处理以及一片一片地处理基板的单片处理，其特征在于，
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
4.如权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，
5.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
6.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，
7.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
8.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种基板处理装置，用于连续地进行一并处理复数片基板的批量处理以及一片一片地处理基板的单片处理，其特征在于，
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
4.如权利要求2所述的基...
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