【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种对衬底进行处理的衬底处理装置、载具搬送方法及载具缓冲装置。衬底例如可以列举半导体衬底、fpd(flat panel display,平板显示器)用衬底、光掩模用衬底、光盘用衬底、磁盘用衬底、陶瓷衬底及太阳电池用衬底等。fpd例如可以列举液晶显示装置、有机el(electroluminescence,电致发光)显示装置等。
技术介绍
1、以往的衬底处理装置具备衬底处理装置主体及载具缓冲装置(存放装置)(例如参照日本专利特开2011-187796号公报)。衬底处理装置主体具备装载块及处理块。处理块在水平方向上与装载块连结。装载块内置着衬底搬送机械手。在装载块的外壁设有载具载置台。载具载置台供载置能够收纳多个衬底的载具。载具载置台隔着搬送机械手设于处理块的相反侧。
2、载具缓冲装置具备保管载具的多个载具保管架及载具搬送机构。载具搬送机构以在多个载具保管架与载具载置台之间搬送载具的方式构成。
技术实现思路
1、[专利技术要解决的问题]
2、以往的载具缓冲装
...【技术保护点】
1.一种衬底处理装置,对衬底进行处理,且包含以下要素:
2.一种衬底处理装置,对衬底进行处理,且包含以下要素:
3.根据权利要求2所述的衬底处理装置,其还具备第2载具搬送机构,
4.根据权利要求3所述的衬底处理装置,其
5.根据权利要求2所述的衬底处理装置,其中
6.根据权利要求2所述的衬底处理装置,其中
7.根据权利要求6所述的衬底处理装置,其中
8.根据权利要求2所述的衬底处理装置,其还具备升降机构,
9.根据权利要求2所述的衬底处理装置,其具备:
10.一
...【技术特征摘要】
1.一种衬底处理装置,对衬底进行处理,且包含以下要素:
2.一种衬底处理装置,对衬底进行处理,且包含以下要素:
3.根据权利要求2所述的衬底处理装置,其还具备第2载具搬送机构,
4.根据权利要求3所述的衬底处理装置,其
5.根据权利要求2所述的衬底处理装置,其中<...
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