曝光方法以及曝光装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种曝光方法以及曝光装置，其目的在于，即使在曝光部与基板保持部的相对移动中的加速及减速的期间也能够进行曝光，由此提高曝光处理的节拍时间。其中，使输出光束的曝光部与保持基板的基板保持部进行相对移动，由此对输出光束相对于基板的入射位置进行扫描，基于随着相对移动而产生的信号，求出曝光部与基板保持部的相对移动速度，以规定的控制周期一边使光束的光量多阶段地变化一边使光束入射至基板来进行曝光。根据求出的相对移动速度，变更控制周期及光束的最大光量。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种使调制光束入射至例如半导体基板、半导体封装基板、印刷布线基板、玻璃基板等基板来对基板进行曝光的技术。

技术介绍

1、作为在基板上形成布线图案等图案的技术，有将根据曝光数据而调制的光束入射至基板表面上形成的感光层，从而使感光层曝光的技术。作为基板，能够适用半导体基板、半导体封装基板、印刷布线基板、玻璃基板等各种基板。例如，专利文献1所记载的描绘装置是通过利用调制光束对形成有感光层的基板的表面进行曝光来描绘图案的装置。

2、在该技术中，当保持基板的基板保持部（载台）相对于曝光部相对地朝向主扫描方向进行移动（主扫描移动）时，通过使调制光束入射至基板来进行曝光。接着，使载台向与主扫描方向正交的副扫描方向移动了规定间距（副扫描移动）之后，进一步进行主扫描移动和曝光。这样，通过交互地重复进行伴随曝光的主扫描移动以及不伴随曝光的副扫描移动，来对基板整个表面进行曝光。

3、现有技术文献

4、专利文献

5、专利文献1：日本特开2022-097979号公报

技术实现思路...

【技术保护点】

1.一种曝光方法，使调制后的光束入射至成为曝光对象的基板来对所述基板进行曝光，其中，

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，

3.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，

4.根据权利要求3所述的曝光方法，其中，

5.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，

6.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光方法，其中，

7.根据权利要求5所述的曝光方法，其中，

8.根据权利要求7所述的曝光方法，其中，

9.根据权利要求7所述的曝光方法，其中，

10.一种曝光装置，其中，具有：

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种曝光方法，使调制后的光束入射至成为曝光对象的基板来对所述基板进行曝光，其中，

2.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，

3.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，

4.根据权利要求3所述的曝光方法，其中，

5.根据权利要求1所述的曝光方法，其中，

6.根据权利要求1至5中任一项所述的曝光方法，其中，

7.根据权利要求5所述的曝光方法，其中，

8...

【专利技术属性】
技术研发人员：中井一博，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：