基板处理装置管理系统、辅助装置、基板处理装置、腔室间性能比较方法以及腔室间性能比较程序制造方法及图纸

本发明专利技术的基板处理装置管理系统具有：信息分析装置，具有生成代表模型的模型生成部，该代表模型表示复数个处理信息间的相关关系，所述复数个处理信息表示与复数个腔室中的代表腔室中的基板的处理相关联的动作或状态；以及辅助装置，获取复数个腔室各自的复数个处理信息，基于将其他腔室的复数个处理信息间的相关关系与代表模型进行比较的比较信息，生成与其他腔室的维护作业有关的辅助信息。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

本专利技术涉及一种基板处理装置管理系统、辅助装置、基板处理装置、腔室间性能比较方法以及腔室间性能比较程序，特别涉及具有辅助具有对基板进行处理的复数个腔室的基板处理装置的维护作业的辅助装置以及信息分析装置的基板处理装置管理系统、该辅助装置、具有该辅助装置的基板处理装置、由该辅助装置执行的腔室间性能比较方法、以及使计算机执行该腔室间性能比较方法的腔室间性能比较程序。

技术介绍

1、基板处理装置具有被划分为用于对半导体基板(半导体晶圆)等基板进行处理的空间的复数个腔室。复数个腔室由相同种类的构成要件构成，以对基板执行相同种类的处理。复数个腔室被调整，以在复数个腔室中发挥相同的性能。

2、例如，在日本专利特开2019-140196号公报公开了将在单元处理所获得的时间序列数据与预先确定的基准数据进行比较，来评价单元处理的技术。根据日本特开2019-140196号公报记载的技术，能够在复数个腔室各自中进行调整，以使复数个构成要件的动作与基准一致。

3、专利文献1：日本特开2019-140196号公报

<b>技术实现思路...

【技术保护点】

1.一种基板处理装置管理系统，具有辅助装置以及信息分析装置，所述辅助装置辅助基板处理装置的维护作业，所述基板处理装置具有对基板进行处理的复数个腔室，其中，

2.一种辅助装置，辅助基板处理装置的维护作业，所述基板处理装置具有对基板进行处理的复数个腔室，其中，

3.如权利要求2所述的辅助装置，其中，

4.如权利要求2所述的辅助装置，其中，

5.如权利要求4所述的辅助装置，其中，

6.如权利要求2所述的辅助装置，其中，

7.如权利要求6所述的辅助装置，其中，

8.如权利要求6所述的辅助装置，其中，

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【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

1.一种基板处理装置管理系统，具有辅助装置以及信息分析装置，所述辅助装置辅助基板处理装置的维护作业，所述基板处理装置具有对基板进行处理的复数个腔室，其中，

2.一种辅助装置，辅助基板处理装置的维护作业，所述基板处理装置具有对基板进行处理的复数个腔室，其中，

3.如权利要求2所述的辅助装置，其中，

4.如权利要求2所述的辅助装置，其中，

5.如权利要求4所述的辅助装置，其中，

6.如权利要求2所述的辅助装置，其中，

7.如权利要求6所述的辅助装置，其中，

8.如权利要求6所述的辅助装置，其中，

9.如权利要求8所述的辅助装置，其中，

10.如权利要求2至9中任一项所述的辅助装置，其中，

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【专利技术属性】
技术研发人员：中野佑太，窟口博司，生和高明，松井浩彬，稻木大，上野智宏，吉原滉树，大野拓也，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：