【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种基板处理装置以及基板处理方法。
技术介绍
1、为了对用于液晶显示装置或有机el(electro luminescence：电致发光)显示装置等的fpd(flat panel display：平板显示器)用基板、半导体基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板或太阳能电池用基板等各种基板进行各种处理，使用基板处理装置。为了清洗基板，使用基板清洗装置。
2、例如，专利文献1所记载的基板清洗装置具备保持晶圆的背面周缘部的2个吸附垫、保持晶圆的背面中央部的旋转卡盘、以及清洗晶圆的背面的刷子。2个吸附垫保持晶圆且横向移动。在该状态下，用刷子清洗晶圆的背面中央部。之后，旋转卡盘从吸附垫接收晶圆，旋转卡盘保持晶圆的背面中央部且绕铅垂方向的轴(旋转轴)旋转。在该状态下，用刷子清洗晶圆的背面周缘部。
3、专利文献1：日本专利第5904169号公报
技术实现思路
1、专利技术所要解决的课题
2、在用吸附垫保持晶圆周缘部时，晶圆因自重而晶圆的中心部分向下方位移，晶圆的下表面成为曲面。另外，为了使刷子与晶圆接触，而将刷子从下方按压至晶圆的背面中央部时，通过来自刷子的载荷，晶圆的中心部分向上方位移，晶圆的下表面成为曲面。并且，有时晶圆自身受到之前的处理工序的影响而有挠曲。在这样的情况下，在刷子的上表面平坦的情况下，刷子的上表面整体不与晶圆接触，刷子与晶圆接触的面积变小，晶圆中不与刷子接触的区域的清洗频率降低。
3、本专
4、用于解决课题的手段
5、(1)根据本专利技术的某一方式，基板处理装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；处理部，其处理基板的表面或背面；以及保持控制部，其在通过处理部处理基板的期间控制基板保持部，以使基板的中心部分向上方或下方位移。在基板被处理的期间以基板的中心部分向上方或下方位移的方式控制基板保持部，因此能够使基板位移成符合处理的形状。因此，可提供一种将基板的处理效率化的基板处理装置。
6、(2)基板保持部具有隔着基板相对配置的2个按压部，保持控制部调整2个按压部之间的距离。因此，因2个按压部之间的距离被调整，因此能够容易地使基板变形。
7、(3)基板保持部具有隔着基板相对配置的2个把持部，2个把持部分别包含：上侧把持部，其抵接于基板的表面；以及下侧把持部，其抵接于基板的背面，保持控制部调整上侧把持部施加于基板的表面的力和下侧把持部施加于基板的背面的力。
8、(4)处理部具备：清洗工具，其与基板的下表面接触而对基板的下表面进行清洗，保持控制部在清洗工具清洗基板的下表面中央区域的期间控制基板保持部，以使基板的中心部分向上方或下方位移。在清洗工具清洗基板的下表面中央区域的期间，基板的中心部分向上方或下方位移，因此清洗工具与基板的接触面因基板的位移而变动。因此，可将基板的下表面中央区域的清洗效率化。
9、(5)基板清洗装置还具备：位移传感器，其检测基板的位移，保持控制部控制基板保持部，以使基板的位移收敛于预定范围内。
10、(6)具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；位移传感器，其检测基板的中心部分的位移；以及保持控制部，其控制基板保持部以使基板的中心部分向上方或下方位移，保持控制部基于由位移传感器检测出的位移，使基板的中心部分向上方或下方位移，以便将由保持控制部保持的基板的中心部分的位移收敛于预定范围内。因此，通过在基板的处理中使基板的中心部分向上方或下方位移，可使基板位移成符合处理的形状。其结果，可提供一种将基板的处理效率化的基板处理装置。
11、(7)一种由基板处理装置执行的基板处理方法，基板处理装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；以及处理部，其处理基板的表面或背面，基板处理方法包括：在通过处理部处理基板的期间控制基板保持部以使基板的中心部分向上方或下方位移的步骤。因此，可提供一种将基板的处理效率化的基板处理方法。
12、(8)一种由基板处理装置执行的基板处理方法，基板处理装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；位移传感器，其检测基板的中心部分的位移；以及保持控制部，其控制基板保持部以使基板的中心部分向上方或下方位移，基于由位移传感器检测出的位移，使基板的中心部分向上方或下方位移，以便将由保持控制部保持的基板的中心部分的位移收敛于预定范围内。因此，可提供一种将基板的处理效率化的基板处理方法。
13、专利技术效果
14、根据本专利技术，可有效率地处理基板。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
6.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
7.一种由基板处理装置执行的基板处理方法，上述基板处理装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；以及处理部，其处理上述基板的表面或背面，其特征在于，
8.一种由基板处理装置执行的基板处理方法，上述基板处理装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；位移传感器，其检测上述基板的中心部分的位移；以及保持控制部，其控制上述基板保持部以使上述基板的中心部分向上方或下方位移，其特征在于，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其特征在于，
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
5.根据权利要求1至4中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，
6.一种基板处理装置，其特征在于，具备：
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【专利技术属性】
技术研发人员：高桥拓马，村元僚，中村一树，千叶一树，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
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