【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及基板清洗装置以及基板清洗方法。
技术介绍
1、为了对用于液晶显示装置或有机el(electro luminescence：电致发光)显示装置等的fpd(flat panel display：平板显示器)用基板、半导体基板、光盘用基板、磁盘用基板、磁光盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板或太阳能电池用基板等各种基板进行各种处理，使用基板处理装置。为了清洗基板，使用基板清洗装置。
2、例如，专利文献1所记载的基板清洗装置具备保持晶圆的背面周缘部的2个吸附垫、保持晶圆的背面中央部的旋转卡盘、以及清洗晶圆的背面的刷子。2个吸附垫保持晶圆且横向移动。在该状态下，用刷子清洗晶圆的背面中央部。之后，旋转卡盘从吸附垫接收晶圆，旋转卡盘保持晶圆的背面中央部且绕铅垂方向的轴(旋转轴)旋转。在该状态下，用刷子清洗晶圆的背面周缘部。
3、专利文献1：日本专利第5904169号公报
技术实现思路
1、本专利技术要解决的课题
2、在用吸附垫保持晶圆周缘部时，晶圆因自重而晶圆的中心部分向下方位移，晶圆的下表面成为曲面。另外，为了使刷子与晶圆接触，而将刷子从下方按压至晶圆的背面中央部时，通过来自刷子的载荷，晶圆的中心部分向上方位移，晶圆的下表面成为曲面。在刷子的上表面平坦的情况下，刷子的上表面整体不与晶圆接触，刷子与晶圆接触的面积变小，晶圆中不与刷子接触的区域的清洗频率降低。
3、本专利技术的目的在在提供一种将基板的下表面中央区域的清洗效率化的基板清洗装置
4、用于解决课题的手段
5、(1)根据本专利技术的某一方式，基板清洗装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；清洗工具，其与基板的下表面接触而对基板的下表面进行清洗；以及清洗控制部，其在清洗工具清洗基板的下表面中央区域的期间，使向上方推压清洗工具的上推力变化。在清洗工具清洗基板的下表面中央区域的期间，使向上方推压清洗工具的上推力变化，因此清洗工具与基板的接触面根据基板的位移而变动。因此，可提供一种将基板的下表面中央区域的清洗效率化的基板清洗装置。
6、(2)清洗控制部使上推力连续性地变化。
7、(3)清洗控制部使清洗工具阶段性地变化上推力。
8、(4)基板清洗装置还具备：位移传感器，其检测基板的位移，清洗控制部使上推力变化以使基板的位移收敛在预定范围内。
9、(5)根据本专利技术的另一方式，基板清洗装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；清洗工具，其与基板的下表面接触而对基板的下表面进行清洗；以及控制部，其在清洗工具清洗基板的下表面中央区域的期间，使作用于清洗工具与基板之间的力变化。因此，在清洗工具清洗基板的下表面中央区域的期间，作用于清洗工具与基板之间的力变化，因而可在清洗下表面中央区域的期间使基板与清洗工具的接触面变化。因此，可提供一种将基板的下表面中央区域的清洗效率化的基板清洗装置。
10、(6)基板清洗装置还具备：位移传感器，其检测基板的位移，控制部使作用于清洗工具与基板之间的力变化以使基板的位移收敛在预定范围内。因此，可防止基板破损。
11、(7)根据本专利技术的另一方式，基板清洗方法是由基板清洗装置执行的，基板清洗装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；以及清洗工具，其与基板的下表面接触而对基板的下表面进行清洗，基板清洗方法包含：清洗控制步骤，在清洗工具清洗基板的下表面中央区域的期间，使向上方推压清洗工具的上推力变化。
12、(8)根据本专利技术的另一方式，基板清洗方法是由基板清洗装置执行的，基板清洗装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；以及清洗工具，其与基板的下表面接触而对基板的下表面进行清洗，基板清洗方法包含：控制步骤，在清洗工具清洗基板的下表面中央区域的期间，使作用于清洗工具与基板之间的力变化。
13、专利技术效果
14、根据本专利技术，可有效地进行基板的下表面中央区域的清洗。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，
5.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：
6.根据权利要求5所述的基板清洗装置，其特征在于，
7.一种由基板清洗装置执行的基板清洗方法，上述基板清洗装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；以及清洗工具，其与上述基板的下表面接触而对上述基板的下表面进行清洗，其特征在于，
8.一种由基板清洗装置执行的基板清洗方法，上述基板清洗装置具备：基板保持部，其保持基板的外周端部；以及清洗工具，其与上述基板的下表面接触而对上述基板的下表面进行清洗，其特征在于，
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：
2.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，
3.根据权利要求1所述的基板清洗装置，其特征在于，
4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板清洗装置，其特征在于，
5.一种基板清洗装置，其特征在于，具备：
6.根据权利要求5所述的基板清洗装置，其特征在于，
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