基板处理方法包含：亲水性膜形成液供给步骤，将在基板的主面上形成亲水性膜的亲水性膜形成液，朝上述基板的主面进行供给；膜厚降低液供给步骤，将通过使上述亲水性膜溶解而降低上述亲水性膜的厚度的膜厚降低液，朝上述基板的主面进行供给；处理膜形成液供...

本发明提供一种物镜单元及显微镜。物镜单元(100)包括物镜(55)、第一旋转部件(200)、第二旋转部件(300)以及驱动部(400)。物镜(55)具有补正环(55a)。第一旋转部件(200)安装于物镜(55)。第二旋转部件(300)与...

本发明提供一种能提高关于粒状物的有无的检测结果的可靠性的技术。本发明的粒状物处理装置具备搬送输送机、光传感器(66)和检测处理部(105)。搬送输送机在将粒状物保持在搬送带上形成的吸附孔并搬送粒状物。光传感器(66)在搬送路径上的检测位...

本发明提供一种基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)具备：处理槽(110)，用于贮存处理多个基板(W)的处理液；基板保持部(120)，支撑基板(W)的第一侧部(Wp)和第二侧部(Wq)并下降，将多个基板(W)浸渍于处理槽(1...

本发明提供能够通过简单结构迅速掌握闪光照射后的基板的动作的热处理方法以及热处理装置。向半导体晶片的表面照射来自闪光灯的闪光从而瞬间加热。通过上部辐射温度计(25)以及高速辐射温度计单元(90)测量照射闪光后的半导体晶片的表面的温度，将该...

本发明提供图像取得装置、图像取得方法。图像取得装置取得多个拍摄图像(71)，多个拍摄图像(71)分别表示将对象物上的预定区域分割而得的多个分割区域，并在表示彼此邻接的分割区域的各图像对(72)中设置局部重叠的重叠区域(73)。在各图像对...

一种处理液循环方法，在处理液供给装置(200)中使处理液循环。处理液供给装置(200)具有泵(34)、过滤器(37)、以及调压阀(43)。泵(34)将处理液送出。过滤器(37)对处理液所包含的微粒进行捕捉。调压阀(43)对在外循环配管(...

本发明提供从基板的上表面良好去除颗粒且使上表面良好干燥的基板处理方法和装置。该基板处理方法包括：第一处理液供给工序，向基板的上表面供给第一处理液；保持层形成工序，使所述第一处理液固化或硬化，在所述基板的上表面形成颗粒保持层；保持层去除工...

本发明涉及一种基板处理装置。基板处理装置对基板进行热处理，所述装置包含以下的要素。对基板进行加热的热处理板、用来传送基板的升降销、使所述升降销升降的升降销驱动机构、形成热处理环境的壳体、抑制所述热处理板的热向下方传递的冷却基底板，所述升...

本公开涉及一种用于蚀刻钼特征物的方法，其包括以下步骤：a)使用热氧化工艺氧化该钼特征物的厚度部分以形成热钼氧化物层，以及b)使用湿化学物溶解该热钼氧化物层。用湿化学物溶解该热钼氧化物层。用湿化学物溶解该热钼氧化物层。

本发明提供一种基板处理方法，包括：混合液膜形成工序，向基板的表面供给混合处理液，在所述基板的表面形成所述混合处理液的液膜，所述混合处理液是将第一升华性物质和与所述第一升华性物质不同的第一添加剂混合而成的混合处理液，且该混合处理液的凝固点...

本发明提供一种基板处理方法，基板处理方法包括：基板保持工序，利用基板保持用具将基板保持为水平；液膜形成工序，通过向基板的上表面供给处理液，在基板的上表面形成处理液的液膜；液密加热工序，通过向设置在基板与基座之间的加热器单元与基板之间的空...

本发明涉及一种热处理方法及热处理装置。本发明提供一种能以简易的构成来检测闪光灯光照射时的衬底破裂的热处理方法及热处理装置。半导体晶片由卤素灯预加热之后，通过来自闪光灯的闪光灯光照射而被加热。放射温度计以特定的采样间隔测定半导体晶片W的背...

本发明在向旋转的基板供给处理液来处理基板的基板处理技术中，抑制跳回液滴，良好地处理基板。本发明具有设置为能够形成捕集从基板飞散的处理液的液滴的捕集空间，并且绕旋转轴旋转的旋转杯部。该上述旋转杯部具有：下杯，其接受从旋转机构施加的杯驱动力...

描绘系统(7)具备设计用终端(2)、描绘装置(1)、中间存储部(3)和指示用终端(4)。设计用终端(2)用于设计图案的设计数据。描绘装置(1)基于由设计用终端(2)设计的设计数据，对基板上的感光材料进行图案描绘。中间存储部(3)存储由设...

本发明提供一种观察装置，能够使针对由音圈马达驱动的透镜单元的配重轻量化。该观察装置(1)具备主框架(11)、透镜单元(2)、成像透镜(5)、驱动机构(3)以及施力机构(4)。驱动机构(3)通过音圈马达(31)的驱动力使透镜单元(2)移动...

衬底处理装置中，对衬底(9)的下表面(92)与基座部(21)的基座面(210)之间送出气体，形成朝向径向外侧的气流(93)，通过伯努利效应，在衬底(9)与基座部(21)之间的空间产生压力下降。基座面(210)的第2面(212)随着朝向径...

本发明的曝光装置以及曝光方法能够提供一种在利用从多个光源生成的激光光束对基板进行曝光的技术中，还能够适当地应对描绘中可能产生的光源的经时变动的技术。在本发明的曝光装置以及曝光方法中，在激光光束的光路上检测激光光束。在执行描绘中检测出的激...

本发明提供向旋转的基板供给处理液来处理基板的基板处理装置，其成本低，且抑制跳回液滴，稳定地处理基板。本发明具备：基板保持部，其设置为能够一边吸附并保持基板的下表面中央部，一边绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转；旋转机构，其输出用于使基板保持部...

本发明提供在密闭空间中利用处理液处理基板的基板处理装置，缩短其生产节拍时间。该发明具备气氛分离机构，其具有固定在处理腔室的顶棚壁附近的上密闭部件和在上密闭部件的下方侧能够沿铅垂方向移动地设置的下密闭部件，且构成为在处理腔室内能够由下密闭...