曝光装置以及曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术的曝光装置以及曝光方法能够提供一种在利用从多个光源生成的激光光束对基板进行曝光的技术中，还能够适当地应对描绘中可能产生的光源的经时变动的技术。在本发明专利技术的曝光装置以及曝光方法中，在激光光束的光路上检测激光光束。在执行描绘中检测出的激光光束的光斑尺寸偏离规定的适当范围时，执行规定的错误处理。误处理。误处理。

【技术实现步骤摘要】
曝光装置以及曝光方法


[0001]本专利技术涉及为了在例如半导体基板、印刷布线基板、玻璃基板等基板上描绘图案而对基板曝光的技术。

技术介绍

[0002]作为在半导体基板、印刷布线基板、玻璃基板等各种基板上形成布线图案等图案的技术，有向形成于基板表面的感光层入射根据曝光数据而调制后的光束来使感光层曝光的技术。例如在日本特开2015
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192080号公报(专利文献1)中公开了一种描绘装置，其通过利用光调制器对具有扁平形状的光斑的激光束(线状光束)进行调制并使其入射到基板，从而对基板进行描绘。在该技术中，为了产生具有均匀的强度分布的高强度的线状光束，将从多个激光光源(激光二极管)射出的激光合成而生成单一的线状光束。
[0003]在专利文献1中记载了用于从多个光源得到均匀的强度分布的线状光束的照明光学系统的结构。然而，没有考虑对在各光源中可能发生的激光的经时变动的应对。例如，由于部件的发热、机械振动，有时在任一个光源中激光的射出方向产生偏移。在这样的情况下，由于基板表面的曝光光束的光斑直径变大，因此可能产生描绘中的分辨率的降低。另外，在任一个光源中光量降低或不点亮的情况下，有时会产生曝光不足。
[0004]这样，光源所射出的激光的经时变动有可能使通过描绘而形成的图案产生不良，使基板的生产率降低。因此，在上述现有技术中，在应对描绘中可能产生的光源的经时变动这一点上，留有改善的余地。

技术实现思路

[0005]本专利技术是鉴于上述问题而完成的，其目的在于，提供一种在利用使用多个光源生成的激光光束对基板进行曝光并描绘的技术中，还能够适当地应对描绘中可能产生的光源的经时变动的技术。
[0006]本专利技术的曝光装置的一个方式，具有：曝光部，具有多个激光光源，合成从所述多个激光光源射出的激光生成单一的激光光束，基于曝光数据对所述激光光束进行调制并作为曝光光束照射至曝光对象的基板来进行描绘；检测部，在所述激光光束的光路上检测所述激光光束；以及控制部，控制对所述基板的曝光条件。在此，所述控制部在执行所述描绘中由所述检测部检测出的所述激光光束的光斑尺寸偏离规定的适当范围时，执行规定的错误处理。
[0007]另外，本专利技术的曝光方法的一个方式，合成从多个激光光源射出的激光生成单一的激光光束，基于曝光数据对所述激光光束进行调制并作为曝光光束照射至曝光对象的基板来进行描绘。在该曝光方法中，在所述激光光束的光路上检测所述激光光束，在执行所述描绘中被检测出的所述激光光束的光斑尺寸偏离规定的适当范围时，执行规定的错误处理。
[0008]在这样构成的专利技术中，在合成从多个激光光源各自射出的激光而成的激光光束的
光路上，检测激光光束的光斑尺寸。在任一个激光光源的光轴偏移或者光量增加的情况下光斑尺寸变大，另一方面，在任一个激光光源的光量降低或者熄灭的情况下光斑尺寸变小。因此，通过在检测到光斑尺寸偏离适当范围时执行错误处理，从而能够应对描绘中可能产生的光源的经时变动，采用适当的措置。
[0009]如上所述，根据本专利技术，通过检测激光光束的光路上的光斑尺寸的变动，从而即使在多个激光光源中的任一个不正确地动作的情况下也适当地应对，抑制在原样继续保持描绘动作的情况下可能产生的生产率的降低。
附图说明
[0010]图1是示意性地表示本专利技术的曝光装置的概略结构的主视图。
[0011]图2是表示图1的曝光装置所具备的电气结构的一例的框图。
[0012]图3A是表示光照射部的结构的图。
[0013]图3B是表示光照射部的结构的图。
[0014]图3C是表示光照射部的结构的图。
[0015]图4是示意性地表示曝光头所具备的详细结构的一例的图。
[0016]图5是表示由本实施方式的曝光装置执行的处理的流程图。
[0017]图6A是用于说明设置了多个曝光头的情况的任务的示意图。
[0018]图6B是用于说明设置了多个曝光头的情况的任务的示意图。
[0019]图7是表示错误处理的第一方式的流程图。
[0020]图8是表示错误处理的第二方式的流程图。
[0021]图9A是表示异常发生后的GUI画面的例子的图。
[0022]图9B是表示异常发生后的GUI画面的例子的图。
[0023]附图标记说明
[0024]1曝光装置
[0025]2载物台
[0026]3载物台移动机构(移动部)
[0027]4曝光单元(曝光部)
[0028]9控制部
[0029]410空间光调制器(光调制器)
[0030]430光源单元
[0031]431激光光源
[0032]440检测部
[0033]444分束器
[0034]445光检测器(受光器)
[0035]L激光光束
[0036]Le曝光光束
[0037]S基板
具体实施方式
[0038]图1是示意性地表示本专利技术的曝光装置的概略结构的主视图。另外，图2是表示图1的曝光装置所具备的电气结构的一例的框图。在图1以及以下的图中，适当地示出了作为水平方向的X方向、作为与X方向正交的水平方向的Y方向、作为铅垂方向的Z方向、以及以与Z方向平行的旋转轴为中心的旋转方向θ。
[0039]曝光装置1通过对形成有抗蚀剂等感光材料的层的基板S(曝光对象基板)照射规定图案的激光，从而在感光材料上描绘图案。作为基板S，例如能够应用印刷布线基板、各种显示装置用的玻璃基板、半导体基板等各种基板。
[0040]曝光装置1具备主体11，主体11由主体框架111和安装于主体框架111的盖板(未图示)构成。而且，在主体11的内部和外部分别配置有曝光装置1的各种构成要素。
[0041]曝光装置1的主体11的内部被划分为处理区域112和交接区域113。在处理区域112主要配置有载物台2、载物台驱动机构3、曝光单元4、以及对准单元5。另外，在主体11的外部配置有向对准单元5供给照明光的照明单元6。在交接区域113配置有相对于处理区域112进行基板S的搬出搬入的搬送机械手等搬送装置7。进而，在主体11的内部配置有控制部9。控制部9与曝光装置1的各部电连接，来控制这些各部的动作。
[0042]配置于主体11的内部的交接区域113的搬送装置7从未图示的外部的搬送装置或基板保管装置接受未处理的基板S而向处理区域112搬入(装载)。另外，搬送装置7从处理区域112搬出(卸载)处理完毕的基板S并向外部交出。未处理基板S的装载以及处理完毕基板S的卸载根据来自控制部9的指示由搬送装置7执行。
[0043]载物台2具有平板状的外形，将载置于其上表面的基板S保持为水平姿势。在载物台2的上表面形成有多个吸引孔(未图示)，通过对该吸引孔赋予负压(吸引压)，将载置于载物台2上的基板S固定在载物台2的上表面。该载物台2由载物台驱动机构3驱动。
[0044]载物台驱动机构3是使载物台2沿Y方向(主扫描本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种曝光装置，其中，具有：曝光部，具有多个激光光源，合成从所述多个激光光源射出的激光生成单一的激光光束，基于曝光数据对所述激光光束进行调制并作为曝光光束照射至曝光对象的基板来进行描绘；检测部，在所述激光光束的光路上检测所述激光光束；以及控制部，控制对所述基板的曝光条件，所述控制部在执行所述描绘中由所述检测部检测出的所述激光光束的光斑尺寸偏离规定的适当范围时，执行规定的错误处理。2.如权利要求1所述的曝光装置，其中，所述检测部具有：分束器，设置于所述光路上并使所述激光光束的一部分分支；以及受光器，接收来自所述激光光束的分支光。3.如权利要求1所述的曝光装置，其中，在所述错误处理中，所述控制部使所述曝光部通过所述多个激光光源中的除发生了错误的激光光源以外的其他所述激光光源生成所述激光光束，并且根据此时的所述激光光束的强度来变更所述曝光条件。4.如权利要求3所述的曝光装置，其中，在所述错误处理中，所述控制部使所述检测部分别检测从所述激光光源各自射出的激光，并且基于所述检测部的检测结果来确定发生了所述错误的所述激光光源。5.如权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中，具有：载物台，用于支承所述基板；以及移动部，使所述曝光部与所述载物台相对移动，来使所述曝光光束向所述基板的入射位置变化，所述控制部变更利用所述移动部进行的所述相对移动中的移动速度，作为所述曝光条件。6.如权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中，所述曝光部具有光调制器，所述光调制器基于所述曝光数据对所述激光光束进行调制，所述控制部变更所述光调制器的动作参数，作为所述曝光条件。7.如权利要求1至4中任一项所述的曝光装置，其中，所述曝光装置具有对一张所...

【专利技术属性】
技术研发人员：水端稔，秩父孝夫，藤泽泰充，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：