基板处理装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供向旋转的基板供给处理液来处理基板的基板处理装置，其成本低，且抑制跳回液滴，稳定地处理基板。本发明专利技术具备：基板保持部，其设置为能够一边吸附并保持基板的下表面中央部，一边绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转；旋转机构，其输出用于使基板保持部旋转的旋转驱动力；处理机构，其向保持于基板保持部的基板供给处理液来处理基板；以及旋转杯部，其设置为能够包围旋转的基板的外周，并且绕旋转轴旋转，且捕集从基板飞散的处理液的液滴。旋转机构还具有将旋转驱动力的一部分作为杯驱动力传递至旋转杯部的动力传递部，通过旋转驱动力使基板保持部及旋转杯部同时进行旋转。力使基板保持部及旋转杯部同时进行旋转。力使基板保持部及旋转杯部同时进行旋转。

【技术实现步骤摘要】
基板处理装置


[0001]本专利技术涉及向基板供给处理液来处理该基板的基板处理技术。
[0002]以下所示的日本申请的说明书、附图以及权利要求书中的公开内容通过参照将全部内容并入本文：
[0003]日本特愿2022－46649(2022年3月23日申请)。

技术介绍

[0004]已知一边使半导体晶圆等基板旋转一边向该基板供给处理液来实施药液处理、清洗处理等的基板处理装置。在例如日本特开2017－11015号公报记载的装置中，为了将从旋转的基板飞散的处理液等捕集回收，设有飞散防止部。飞散防止部具有固定地配置成包围旋转的基板的外周的防溅罩(有时称为“杯”)。防溅罩的内周面与基板的外周对置，捕集从旋转的基板甩出的处理液的液滴。

技术实现思路

[0005]专利技术所要解决的课题
[0006]然而，防溅罩捕集液滴时，液滴与防溅罩的内周面碰撞。由于该碰撞，有时产生跳回液滴。当跳回液滴再次附着于基板上时，产生水印。另外，至防溅罩外的跳回液滴的飞散为污染周围气氛的主要原因之一。因此，在上述基板处理装置中，为了良好地处理基板，抑制跳回液滴的飞散是重要的。因此，为了实现该目的，考虑使防溅罩随着基板的旋转而旋转。
[0007]但是，对于现有装置，当追加使防溅罩旋转的专用的旋转机构时，不仅装置成本增大，而且需要同时控制防溅罩及基板的旋转。存在难以稳定地进行基板处理的情况。
[0008]本专利技术鉴于上述课题而作成，目的在于，在向旋转的基板供给处理液来处理基板的基板处理装置中，成本低，且抑制跳回液滴，稳定地处理基板。
[0009]用于解决课题的方案
[0010]本专利技术为一种基板处理装置，其特征在于，具备：基板保持部，其设置为能够一边吸附并保持基板的下表面中央部，一边绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转；旋转机构，其输出用于使基板保持部旋转的旋转驱动力；处理机构，其向保持于上述基板保持部的上述基板供给处理液来处理上述基板；以及旋转杯部，其设置为能够包围旋转的上述基板的外周，并且，绕上述旋转轴旋转，且捕集从上述基板飞散的上述处理液的液滴，上述旋转机构还具有将上述旋转驱动力的一部分作为杯驱动力传递至上述旋转杯部的动力传递部，通过上述旋转驱动力使上述基板保持部及上述旋转杯部同时进行旋转。
[0011]在这样的结构的专利技术中，从旋转机构输出用于使保持基板的基板保持部旋转的旋转驱动力。该旋转驱动力的一部分通过动力传递部作为杯驱动力传递至上述旋转杯部。从而，通过旋转驱动力，使基板保持部及上述旋转杯部同时进行旋转。
[0012]专利技术的效果
[0013]根据本专利技术，能够低成本且抑制跳回液滴而稳定地处理基板。
[0014]上述的本专利技术的各方案所具有的多个结构要素并非全部是必须的，为了解决上述课题的一部分或全部，或者为了实现本说明书所记载的效果的一部或全部，对于上述多个结构要素的一部分结构要素，可以适当地进行变更、删除、与新的其它结构要素的替换、限定内容的一部删除。另外，为了解决上述课题的一部分或全部，或者为了实现本说明书所记载的效果的一部或全部，也可以将上述的本专利技术的一方案所含的技术特征的一部分或全部与上述的本专利技术的其它方案所含的技术特征的一部分或全部组合而形成本专利技术的独立的一方案。
附图说明
[0015]图1是表示装备本专利技术的基板处理装置的第一实施方式的基板处理系统的概略结构的俯视图。
[0016]图2是表示本专利技术的基板处理装置的第一实施方式的结构图。
[0017]图3是图2的A－A线向视俯视图。
[0018]图4是表示动力传递部的结构的俯视图。
[0019]图5是图4的B－B线剖视图。
[0020]图6是表示旋转杯部的构造的分解组装立体图。
[0021]图7是表示保持于旋转卡盘的基板与旋转杯部的尺寸关系的图。
[0022]图8是表示旋转杯部及固定杯部的一部分的图。
[0023]图9是表示上表面保护加热机构的结构的外观立体图。
[0024]图10是图9所示的上表面保护加热机构的剖视图。
[0025]图11是表示装备于处理机构的上表面侧的处理液吐出喷嘴的立体图。
[0026]图12是表示倒角处理模式及预分配模式下的喷嘴位置的图。
[0027]图13是表示装备于处理机构的下表面侧的处理液吐出喷嘴及支撑该喷嘴的喷嘴支撑部的立体图。
[0028]图14是表示气氛分离机构的结构的局部剖视图。
[0029]图15是表示由图2所示的基板处理装置作为基板处理动作的一例而执行的倒角处理的流程图。
[0030]图16A是表示第一实施方式中的基板的装载动作的示意图。
[0031]图16B是表示第一实施方式中的基板的定心动作的示意图。
[0032]图16C是表示第一实施方式中的基板的倒角动作的示意图。
[0033]图16D是表示第一实施方式中的基板的检查动作的示意图。
[0034]图17A是表示本专利技术的基板处理装置的第一实施方式的第一变形例的图。
[0035]图17B是表示本专利技术的基板处理装置的第一实施方式的第二变形例的图。
[0036]图17C是表示本专利技术的基板处理装置的第一实施方式的第三变形例的图。
[0037]图18是表示本专利技术的基板处理装置的第一实施方式的第四变形例的图。
[0038]图19是表示本专利技术的基板处理装置的第一实施方式的第五变形例的图。
[0039]图20A是表示本专利技术的基板处理装置的第一实施方式的第六变形例的图。
[0040]图20B是表示本专利技术的基板处理装置的第一实施方式的第七变形例的图。
[0041]图21是表示相对于氮气的吐出流量的基板径向的各位置处的气流速度的图表。
[0042]图22是表示相对于基板周缘部的氮气的吐出流量的基板径向的气流速度的图表。
[0043]图23是表示相对于加热气体的温度的基板径向的各位置处的表面温度变化的图表。
[0044]图24是表示相对于基板的中央和端缘的加热气体的温度的表面温度变化的图表。
[0045]图中：1—基板处理装置，2—旋转机构，5—处理机构，21—旋转卡盘(基板保持部)，27a—圆环部件(旋转部件)，27b—(第一)磁铁，27c—(第二)磁铁，31—旋转杯部，32—下杯，33—上杯，51B—下表面喷嘴，58—配管，AX—旋转轴，W—基板，Ws—周缘部，X—径向，Z—铅垂方向。
具体实施方式
[0046]图1是表示装备本专利技术的基板处理装置的第一实施方式的基板处理系统的概略结构的俯视图。这不是表示基板处理系统100的外观的图，是通过去除基板处理系统100的外壁面板、其它一部分结构而容易理解地示出其内部构造的示意图。该基板处理系统100是设置于例如清洁室内，对仅在一方主面形成有电路图案等(以下称为“图案”)的基板W进行逐张处理的单片式的装置。而且，在装备于基板处理系统100的处理单元1中执行本专利技术的基本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，其特征在于，具备：基板保持部，其设置为能够一边吸附并保持基板的下表面中央部，一边绕沿铅垂方向延伸的旋转轴旋转；旋转机构，其输出用于使上述基板保持部旋转的旋转驱动力；处理机构，其向保持于上述基板保持部的上述基板供给处理液来处理上述基板；以及旋转杯部，其设置为能够包围旋转的上述基板的外周，并且，绕上述旋转轴旋转，且捕集从上述基板飞散的上述处理液的液滴，上述旋转机构还具有将上述旋转驱动力的一部分作为杯驱动力传递至上述旋转杯部的动力传递部，通过上述旋转驱动力使上述基板保持部及上述旋转杯部同时进行旋转。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，上述动力传递部将上述杯驱动力传递至上述旋转杯部，以使上述旋转杯部与保持于上述基板保持部的上述基板沿同一方向旋转。3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，上述动力传递部将上述杯驱动力传递至上述旋转杯部，以使上述旋转杯部与保持于上述基板保持部的上述基板同步旋转。4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板处理装置，其特征在于，上述旋转杯部具有：下杯，其设置为能够绕上述旋转轴旋转且具有圆环形状；以及上杯，其一...

【专利技术属性】
技术研发人员：根本脩平，正司和大，村元僚，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：