本发明专利技术提供一种基板处理装置及基板处理方法。基板处理装置(100)具备：处理槽(110)，用于贮存处理多个基板(W)的处理液；基板保持部(120)，支撑基板(W)的第一侧部(Wp)和第二侧部(Wq)并下降，将多个基板(W)浸渍于处理槽(110)内的处理液中；引导部(140)，配置于处理槽(110)内，并支撑基板(W)的第一侧部(Wp)和第二侧部(Wq)。对多个基板(W)的每一个，基板保持部(120)保持与引导部(140)分离的基板(W)，并在水平方向上相对于引导部(140)相对地移动，使基板(W)的第一侧部(Wp)与引导部(140)接触，然后，基板保持部(120)进行移动而使基板(W)旋转，以使基板(W)的第二侧部(Wq)与引导部(140)接触。接触。接触。
【技术实现步骤摘要】
基板处理装置及基板处理方法
本专利技术涉及一种基板处理装置及基板处理方法。
技术介绍
处理基板的基板处理装置已为人们所熟知。基板处理装置适用于半导体基板的处理。典型地，基板处理装置使用处理液处理基板。针对在一并处理多个基板的批式处理装置中处理不均匀的研究已在进行(专利文献1)。专利文献1记载了一种批式处理装置，其为了减小利用臭氧水剥离抗蚀剂引起的剥离不均匀，通过旋转电机使晶片旋转。专利文献1：日本特开2001
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274131号公报但是，专利文献1的批式处理装置会因利用旋转电机使晶片旋转而导致装置的大型化和复杂化。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述课题而完成的，目的在于，提供一种能够在处理槽中简便地对基板进行均匀处理的基板处理装置及基板处理方法。根据本专利技术的一个方面，一种基板处理装置，具备：处理槽，用于贮存处理多个基板的处理液；基板保持部，以对多个所述基板的每一个分别支撑位于所述基板一侧的第一侧部和位于所述基板另一侧的第二侧部来保持多个所述基板的状态下降，将多个所述基板浸渍于所述处理槽内的所述处理液中；引导部，配置于所述处理槽内，当所述基板保持部保持多个所述基板并下降时，对多个所述基板的每一个，分别支撑所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部，所述引导部具有：第一引导部，配置于所述处理槽内，当所述基板保持部保持多个所述基板并下降时，对多个所述基板的每一个，支撑所述基板的所述第一侧部；第二引导部，配置于所述处理槽内，当所述基板保持部保持多个所述基板并下降时，对多个所述基板的每一个，支撑所述基板的所述第二侧部，对多个所述基板的每一个，所述基板保持部和所述引导部中的一者保持与所述基板保持部和所述引导部中的另一者分离的所述基板，并相对于所述基板保持部和所述引导部中的另一者沿水平方向相对地移动，使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的一个侧部与所述基板保持部和所述引导部中的另一者接触，然后，所述基板保持部和所述引导部中的一者进行移动而使所述基板旋转，以使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的另一个侧部与所述基板保持部和所述引导部中的另一者接触。在某一实施方式中，对多个所述基板的每一个，所述基板保持部保持与所述第一引导部和所述第二引导部的每一个均分离的所述基板，并相对于所述第一引导部和所述第二引导部沿水平方向移动，使所述基板的所述第一侧部与所述第一引导部接触，然后，所述基板保持部下降，从而所述基板以所述第一引导部为支点旋转，所述基板的所述第二侧部与所述第二引导部接触。
在某一实施方式中，所述第一引导部和所述第二引导部相对于多个所述基板的中心在铅垂下方一侧支撑多个所述基板。在某一实施方式中，还具备：处理液供给管，配置于所述处理槽内，供给所述处理液。根据本专利技术的另一方面的一种基板处理装置，具备：处理槽，用于贮存处理多个基板的处理液；基板保持部，以对多个所述基板的每一个分别支撑位于所述基板一侧的第一侧部和位于所述基板另一侧的第二侧部来保持多个所述基板的状态下降，将多个所述基板浸渍于所述处理槽内的所述处理液中；搬送装置，向所述基板保持部搬送多个所述基板，所述搬送装置具有：搬运部(handling)，对多个所述基板的每一个，分别支撑所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部，所述搬运部具有：第一搬运部，对多个所述基板的每一个，支撑所述基板的所述第一侧部；第二搬运部，对多个所述基板的每一个，支撑所述基板的所述第二侧部，对多个所述基板的每一个，所述基板保持部和所述搬运部中的一者保持与所述基板保持部和所述搬运部中的另一者分离的所述基板，相对于所述基板保持部和所述搬运部中的另一者沿水平方向相对地移动，使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的一个侧部与所述基板保持部和所述搬运部中的另一者接触，然后，所述基板保持部和所述引导部中的一者进行移动而使所述基板旋转，以使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的另一个侧部与所述基板保持部和所述搬运部中的另一者接触。在某一实施方式中，对多个所述基板的每一个，所述基板保持部保持与所述第一搬运部和所述第二搬运部的每一个均分离的所述基板，并相对于所述第一搬运部和所述第二搬运部沿水平方向移动，当所述基板与所述第一搬运部接触后，所述基板保持部下降，从而所述基板以所述第一搬运部为支点旋转，所述基板的所述第二侧部与所述第二搬运部接触。根据本专利技术的另一方面的一种基板处理方法，包括：基板保持部以对多个基板的每一个分别支撑位于所述基板一侧的第一侧部和位于所述基板另一侧的第二侧部来保持多个所述基板的状态下降，将多个所述基板浸渍于处理槽内的处理液中的工序；当所述基板保持部保持多个所述基板并下降时，引导部对多个所述基板的每一个分别支撑所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部的工序；对多个所述基板的每一个，所述基板保持部和所述引导部中的一者保持与所述基板保持部和所述引导部中的另一者分离的所述基板，并相对于所述基板保持部和所述引导部中的另一者沿水平方向相对地移动，使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的一个侧部与所述基板保持部和所述引导部中的另一者接触的工序；所述基板保持部和所述引导部中的一者在使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的一个侧部与所述基板保持部和所述引导部中的另一者接触后，进行移动而使所述基板旋转，以使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的另一个侧部与所述基板保持部和所述引导部中的另一者接触的工序。在某一实施方式中，所述引导部具有：第一引导部，配置于所述处理槽内，当所述基板保持部保持多个所述基板并下降时，对多个所述基板的每一个，支撑所述基板的所述第一侧部；第二引导部，配置于所述处理槽内，当所述基板保持部保持多个所述基板并下降时，对多个所述基板的每一个，支撑所述基板的所述第二侧部，在使所述基板旋转的工序中，所述基板保持部保持与所述第一引导部和所述第二引导部分离的所述基板，并相对于
所述第一引导部和所述第二引导部沿水平方向移动，使所述基板的所述第一侧部与所述第一引导部接触，然后，所述基板保持部下降，从而所述基板以所述第一引导部为支点旋转，所述基板的所述第二侧部与所述第二引导部接触。根据本专利技术的另一方面的一种基板处理方法，包括：基板保持部以对多个基板的每一个分别支撑位于所述基板一侧的第一侧部和位于所述基板另一侧的第二侧部来保持多个所述基板的状态下降，将多个所述基板浸渍于处理槽内的处理液中的工序；利用搬送装置向所述基板保持部搬送多个所述基板的工序；所述搬送装置的搬运部对多个所述基板的每一个分别支撑所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部的工序；对多个所述基板的每一个，所述基板保持部和所述搬运部中的一者保持与所述基板保持部和所述搬运部中的另一者相分离的所述基板，并相对于所述基板保持部和所述搬运部中的另一者沿水平方向相对地移动，使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的一个侧部与所述基板保持部和所述搬运部中的另一者接触的工序；所述基板保持部和所述搬运部中的一者在使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的一个侧部与所述基板保持部和所述搬运部中的另一者接触后，进行移动而使所述基板旋转，以使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的另一个侧部本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种基板处理装置，具备：处理槽，用于贮存处理多个基板的处理液；基板保持部，以对多个所述基板的每一个分别支撑位于所述基板一侧的第一侧部和位于所述基板另一侧的第二侧部来保持多个所述基板的状态下降，将多个所述基板浸渍于所述处理槽的所述处理液中；引导部，配置于所述处理槽内，当所述基板保持部保持多个所述基板并下降时，对多个所述基板的每一个，分别支撑所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部，所述引导部具有：第一引导部，配置于所述处理槽内，当所述基板保持部保持多个所述基板并下降时，对多个所述基板的每一个，支撑所述基板的所述第一侧部；第二引导部，配置于所述处理槽内，当所述基板保持部保持多个所述基板并下降时，对多个所述基板的每一个，支撑所述基板的所述第二侧部，对多个所述基板的每一个，所述基板保持部和所述引导部中的一者保持与所述基板保持部和所述引导部中的另一者分离的所述基板，并相对于所述基板保持部和所述引导部中的另一者沿水平方向相对地移动，使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的一个侧部与所述基板保持部和所述引导部中的另一者接触，然后，所述基板保持部和所述引导部中的一者进行移动而使所述基板旋转，以使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的另一个侧部与所述基板保持部和所述引导部中的另一者接触。2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中，对多个所述基板的每一个，所述基板保持部保持与所述第一引导部和所述第二引导部的每一个均分离的所述基板，并相对于所述第一引导部和所述第二引导部沿水平方向移动，使所述基板的所述第一侧部与所述第一引导部接触，然后，所述基板保持部下降，从而所述基板以所述第一引导部为支点旋转，所述基板的所述第二侧部与所述第二引导部接触。3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，所述第一引导部和所述第二引导部相对于多个所述基板的中心在铅垂下方一侧支撑多个所述基板。4.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中，还具备：处理液供给管，配置于所述处理槽内，供给所述处理液。5.一种基板处理装置，具备：处理槽，用于贮存处理多个基板的处理液；基板保持部，以对多个所述基板的每一个分别支撑位于所述基板一侧的第一侧部和位于所述基板另一侧的第二侧部来保持多个所述基板的状态下降，将多个所述基板浸渍于所述处理槽的所述处理液中；搬送装置，向所述基板保持部搬送多个所述基板，所述搬送装置具有：搬运部，对多个所述基板的每一个，分别支撑所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部，
所述搬运部具有：第一搬运部，对多个所述基板的每一个，支撑所述基板的所述第一侧部；第二搬运部，对多个所述基板的每一个，支撑所述基板的所述第二侧部，对多个所述基板的每一个，所述基板保持部和所述搬运部中的一者保持与所述基板保持部和所述搬运部中的另一者分离的所述基板，相对于所述基板保持部和所述搬运部中的另一者沿水平方向相对地移动，使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的一个侧部与所述基板保持部和所述搬运部中的另一者接触，然后，所述基板保持部和所述引导部中的一者进行移动而使所述基板旋转，以使所述基板的所述第一侧部和所述第二侧部中的另一个侧部与所述基板保持部和所述搬运部中的另一者接触。6.根据权利要求5所述的基板处理装置，其中，对多个所述基板的每一个，所述基板保持部保持与所述第一搬运部和所述第二搬运部的每一个均分离的所述基板，并相对于所述第一搬运部和所述第二搬运部沿水平方向移动，当所述基板与所述第一搬运部接触后，所述基板保持部下降，从而所述基板以所述第一搬...
【专利技术属性】
技术研发人员：前川直嗣，
申请(专利权)人：株式会社斯库林集团，
类型：发明
国别省市：
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